一种毛发渲染方法、装置、电子设备及存储介质.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114693852A(43)申请公布日2022.07.01(21)申请号202210313387.0(22)申请日2022.03.28(71)申请人北京达佳互联信息技术有限公司地址100085北京市海淀区上地西路6号1幢1层101D1-7(72)发明人郑屹曾子琦马重阳(74)专利代理机构北京润泽恒知识产权代理有限公司11319专利代理师李娜(51)Int.Cl.G06T15/00(2011.01)G06T15/06(2011.01)G06T15/60(2006.01)权利要求书2页说明书11页附图4页(54)发明名称一种毛发渲染方法、装置、电子设备及存储介质(57)摘要本公开关于一种毛发渲染方法、装置、电子设备及存储介质，该方法包括：根据待渲染毛发的几何数据，将待渲染毛发投影为多个大小相等的晶格中的体素；根据每个晶格中的体素数量，获取每个晶格包含的顶点总数；对每个晶格中的顶点总数进行平滑处理，得到处理后的每个晶格包含的多个剩余顶点；对每个剩余顶点进行光线跟踪，得到每个剩余顶点的阴影效果；根据每个剩余顶点的阴影效果，得到每个体素的阴影效果；根据每个体素的阴影效果，对待渲染毛发进行渲染。本公开中，每个晶格中的顶点总数过渡比较平滑，因此相邻晶格中由包含的多个体素呈现出的阴影效果不会存在明显差异，进而在对待渲染毛发进行渲染时，可以避免存在阴影闪烁效果。CN114693852ACN114693852A权利要求书1/2页1.一种毛发渲染方法，其特征在于，包括：根据待渲染毛发的几何数据，将所述待渲染毛发投影为多个大小相等的晶格中的体素；根据每个所述晶格中的体素数量，获取每个所述晶格包含的顶点总数；对每个所述晶格中的顶点总数进行平滑处理，得到处理后的每个所述晶格包含的多个剩余顶点；对每个所述剩余顶点进行光线跟踪，得到每个所述剩余顶点的阴影效果；根据每个所述剩余顶点的阴影效果，得到每个所述体素的阴影效果；根据每个所述体素的阴影效果，对所述待渲染毛发进行渲染。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对每个所述晶格中的顶点总数进行平滑处理，得到处理后的每个所述晶格包含的多个剩余顶点，包括：根据每个所述晶格及相邻的所述晶格各自包含的顶点总数，剔除部分顶点，以使每个所述晶格包含的顶点总数和相邻的晶格的顶点总数之间的差值不超过差值阈值，得到处理后的每个所述晶格包含的多个剩余顶点。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对每个所述剩余顶点进行光线跟踪，得到每个所述剩余顶点的阴影效果，包括：获取初始入射光线方向以及每个所述剩余顶点的法线方向；根据所述初始入射光线方向以及每个所述剩余顶点的法线方向，得到每个所述剩余顶点的多根指向半球空间内的反射光线；根据每个所述剩余顶点的多根指向半球空间内的反射光线，得到每个所述剩余顶点在每一采样步接收到的光照度；根据每个所述剩余顶点在每一采样步接收到的光照度，得到每个所述剩余顶点的阴影效果。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据每个所述体素的阴影效果，对所述待渲染毛发进行渲染，包括：获取所述待渲染毛发中每根毛发的受光照强度；基于所述待渲染毛发中所述每根毛发的受光照强度，以及所述每根毛发上的多个所述体素的阴影效果，获取所述待渲染毛发受光照形成的层次效果；基于所述待渲染毛发受光照形成的层次效果，对所述待渲染毛发进行渲染。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述基于所述待渲染毛发受光照形成的层次效果，对所述待渲染毛发进行渲染，包括：基于所述待渲染毛发受光照形成的层次效果，计算所述待渲染毛发的透射效果和/或透射‑反射效果；根据所述待渲染毛发的透射效果和/或透射‑反射效果，对所述待渲染毛发进行渲染。6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述基于所述待渲染毛发受光照形成的层次效果，对所述待渲染毛发进行渲染，包括：基于所述待渲染毛发受光照形成的层次效果，计算所述待渲染毛发在背光状态下形成的层次效果；根据所述待渲染毛发在背光状态下形成的层次效果，计算所述待渲染毛发在背光状态2CN114693852A权利要求书2/2页下的透射‑反射‑透射效果；根据所述待渲染毛发在背光状态下的透射‑反射‑透射效果，对所述待渲染毛发进行渲染。7.一种毛发渲染装置，其特征在于，包括：毛发投影模块，被配置为根据待渲染毛发的几何数据，将所述待渲染毛发投影为多个大小相等的晶格中的体素；顶点总数获取模块，被配置为根据每个所述晶格中的体素数量，获取每个所述晶格包含的顶点总数；平滑处理模块，被配置为对每个所述晶格中的顶点总数进行平滑处理，得到处理后的每个所述晶格包含的多个剩余顶点；光线跟踪模块，被配置为对每个所述剩余顶点进行光线跟踪，得到每个所述剩余顶点的阴影效果；阴影效果确定模