具有涂布机夹盘的涂布装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN101963760A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN101963760A(43)申请公布日2011.02.02(21)申请号201010238572.5(22)申请日2010.07.23(30)优先权数据10-2009-00679762009.07.24KR(71)申请人乐金显示有限公司地址韩国首尔(72)发明人周东英简泰柾(74)专利代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司11006代理人徐金国谢雪闽(51)Int.Cl.G03F7/16(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图5页(54)发明名称具有涂布机夹盘的涂布装置(57)摘要公开了一种具有涂布机夹盘的涂布装置，其能通过以使用不同类型的材料形成涂布机夹盘的方式来防止用于进行光刻胶涂布工序的涂布机夹盘下垂来提高光刻胶涂布均匀性，其中所述涂布机夹盘由石头形成并与经由伺服电机的驱动轴连接，所述驱动轴可上下移动，且通过狭缝喷嘴涂布有光刻胶的玻璃基板被放置在该涂布机夹盘上。CN109637ACCNN110196376001963761A权利要求书1/1页1.一种具有涂布机夹盘的涂布装置，包括：经由伺服电机的驱动轴；可上下移动的驱动电机；和由石头形成并与经由所述伺服电机的所述驱动轴连接的涂布机夹盘，玻璃基板被放置在所述涂布机夹盘上，通过狭缝喷嘴给所述玻璃基板涂布光刻胶。2.根据权利要求1所述的涂布装置，其中所述石头包括花岗岩。3.根据权利要求1所述的涂布装置，其中用于形成所述涂布机夹盘的材料包括难以热变形的材料、具有大于或等于玻璃硬度的硬度的材料、不具有导电性的非磁性物质以及具有对于酸、碱或有机化合物的抗腐蚀性的材料。4.根据权利要求1所述的涂布装置，其中所述石头厚度为15mm，并具有在±30μm范围内的表面粗糙度。5.根据权利要求1所述的涂布装置，其中所述石头的热传导率小于45.0Kcal.m.h.℃，其抗腐蚀性超过6的Mohs硬度或40的HS硬度。6.一种具有涂布机夹盘的涂布装置，包括：经由伺服电机的驱动轴；可上下移动的驱动电机；和由石头形成并与经由所述伺服电机的所述驱动轴连接的涂布机夹盘，玻璃基板被放置在所述涂布机夹盘上，通过狭缝喷嘴给所述玻璃基板涂布光刻胶；和用于保持所述涂布机夹盘并设置在所述驱动轴的上端处的夹盘保持器。7.根据权利要求6所述的涂布装置，其中所述石头包括花岗岩。8.根据权利要求6所述的涂布装置，其中用于形成所述涂布机夹盘的材料包括难以热变形的材料、具有大于或等于玻璃硬度的硬度的材料、不具有导电性的非磁性物质以及具有对于酸、碱或有机化合物的抗腐蚀性的材料。9.根据权利要求6所述的涂布装置，其中所述石头厚度为15mm，并具有在±30μm范围内的表面粗糙度。10.根据权利要求6所述的涂布装置，其中所述石头的热传导率小于45.0Kcal.m.h.℃，其抗腐蚀性超过6的Mohs硬度或40的HS硬度。2CCNN110196376001963761A说明书1/5页具有涂布机夹盘的涂布装置技术领域[0001]本发明涉及一种用于液晶显示(LCD)设备的涂布装置，尤其涉及一种具有涂布机夹盘的涂布装置，其能通过以使用不同类型的材料形成涂布机夹盘的方式，防止用于进行光刻胶涂布工序的涂布机夹盘的下垂，由此提高光刻胶涂布均匀性。背景技术[0002]制造半导体设备或LCD面板的工序中的光刻工序包括用于在基板(例如晶片，玻璃或掩模)上涂布光刻胶的涂布工序、将涂布后的基板移到一设备中并在所述涂布后的基板上以圆形形状印刷掩模电路的曝光工序、以及显影工序。[0003]在这些工序中，对LCD面板制造工序应用的涂布工序是在涂布装置中进行的。之后，将参照图1到4描述在光刻胶涂布工序中使用的典型涂布装置的涂布机夹盘。[0004]图1是示意性示出在根据现有技术的涂布工序中使用的涂布装置的视图。[0005]图2是在根据现有技术的涂布工序中使用的涂布装置中存在的涂布机夹盘的放大图。[0006]图3是显示在根据现有技术的涂布装置中设置的涂布机夹盘和狭缝喷嘴之间的间距的视图。[0007]图4是显示当使用根据现有技术的涂布装置中存在的涂布机夹盘时，狭缝喷嘴与涂布机夹盘之间的间距、间距之间发生差异的概率、以及所涂布的光刻胶的量的表。[0008]如图1和2中所示，根据现有技术的涂布装置可包括由铝Al制成的涂布机夹盘13。该涂布机夹盘通过向上移动的驱动轴15连接到伺服电机17。这里，在涂布机夹盘13上形成用于防止产生静电的表面处理层13a。因为铝通过狭缝喷嘴充电从而产生静电，所以在通过狭缝喷嘴分配光刻胶时会产生发泡，因此形成表面处理层13a防止发泡的产生。[0009]此外，在驱动轴15的上端处设置有用于保持涂布机夹盘13的夹盘保持器19。[0010]涂布有光刻胶