光学测量装置和光学测量方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN105973845A(43)申请公布日2016.09.28(21)申请号201610091433.1(22)申请日2016.02.18(30)优先权数据2015-0478712015.03.11JP(71)申请人日立乐金光科技株式会社地址日本，东京都(72)发明人峰邑浩行大泽贤太郎(74)专利代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司11322代理人龙淳牛孝灵(51)Int.Cl.G01N21/55(2014.01)权利要求书2页说明书13页附图22页(54)发明名称光学测量装置和光学测量方法(57)摘要本发明提供一种光学测量装置和光学测量方法，抑制来自观测对象与培养容器和空气等的边界面的反射光的影响，得到观测对象的高品质的像。利用观测对象具有三维形状、边界面能够视为平面这一点，通过对参考光的光束内赋予相位或强度分布，而选择性地使来自边界面的反射光的影响衰减，从而获得高品质的OCT图像。CN105973845ACN105973845A权利要求书1/2页1.一种光学测量装置，其特征在于，包括：出射激光的光源；使从所述光源出射的激光分束为信号光和参考光的光分束部；将所述信号光会聚在观测对象上的聚光单元；使被所述观测对象反射的信号光与所述参考光合束而生成干涉光的单元；对所述参考光的光束内赋予规定的相位分布和强度分布中的至少一者的单元；检测所述干涉光的检测器；和基于来自所述检测器的信号生成所述观测对象的层析图像的图像处理部。2.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：所述赋予相位分布和强度分布中的至少一者的单元是赋予圆锥型的相位分布的单元。3.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：所述赋予相位分布和强度分布中的至少一者的单元是赋予用下式表示的相位分布的单元：其中，φ0是赋予的相位的最大值，R是检测透镜孔径的半径，(2π/λ)L是参考光的基于光程的相位，A是振幅，x和y是检测透镜的孔径上的各个点。4.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：所述赋予相位分布和强度分布中的至少一者的单元是赋予用下式表示的相位分布的单元：其中，φ0是赋予的相位的最大值，R是检测透镜孔径的半径，(2π/λ)L是参考光的基于光程的相位，A是振幅，r是由检测透镜的孔径内的位置(x，y)和检测透镜的孔径半径R决定的归一化半径。5.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：所述赋予相位分布和强度分布中的至少一者的单元是赋予阶跃状的相位分布的单元。6.如权利要求5所述的光学测量装置，其特征在于：所述赋予阶跃状的相位分布的单元将所述参考光的光束分为内周侧和外周侧并对所述内周侧赋予相位差。7.如权利要求5所述的光学测量装置，其特征在于：所述阶跃状的相位分布中，在检测透镜孔径内赋予的相位为零的区域和赋予的相位为λ/2的区域的面积大致相等。8.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：所述赋予相位分布和强度分布中的至少一者的单元是赋予阶跃状的强度分布的单元。9.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：所述赋予相位分布和强度分布中的至少一者的单元是赋予多个相位分布和/或强度分布的空间光调制器。2CN105973845A权利要求书2/2页10.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：所述赋予相位分布和强度分布中的至少一者的单元是改变所述参考光的离焦状态的单元。11.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：所述干涉光是相位关系互不相同的4束干涉光，各干涉光被所述检测器检测。12.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：包括驱动部，其将所述光源、所述光分束部、所述聚光单元、所述生成干涉光的单元、所述检测器作为一体进行驱动。13.一种光学测量方法，其特征在于：使激光分束为信号光和参考光，经由能够视为平面的边界面将所述信号光聚光照射到三维形状的观察对象，使从所述观察对象反射的信号光与对光束内赋予了规定的相位分布和强度分布中的至少一者的所述参考光干涉，检测进行了所述干涉而得到的干涉光，基于进行所述检测而检测出的检测信号生成所述观察对象的层析像。14.如权利要求13所述的光学测量方法，其特征在于，多次反复进行以下步骤来合成所述层析像：对所述参考光赋予相位分布的步骤；和从使用赋予了所述相位分布的参考光而生成的所述干涉光的检测信号获得图像的步骤。15.如权利要求13所述的光学测量方法，其特征在于，改变所述相位分布或强度分布的同时多次反复进行以下步骤来合成所述层析像：对所述参考光赋予相位分布和强度分布中的至少一者的步骤；和从使用赋予了所述相位分布和强度分布中的至少一者的参考光而生成的所述干涉光的检测信号获得图像的步骤。3CN105973845A说明书1/13页光学测量装置和光学测量方法技术领域[