电子照相感光体、处理盒、图像形成装置以及导电基底.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107179659A(43)申请公布日2017.09.19(21)申请号201610804115.5(22)申请日2016.09.06(30)优先权数据2016-0472722016.03.10JP(71)申请人富士施乐株式会社地址日本东京都(72)发明人岩崎真宏(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司11127代理人庞东成张志楠(51)Int.Cl.G03G5/10(2006.01)权利要求书3页说明书38页附图3页(54)发明名称电子照相感光体、处理盒、图像形成装置以及导电基底(57)摘要本发明公开了一种电子照相感光体、处理盒、图像形成装置以及导电基底，该电子照相感光体包括：导电基底，其具有使用硅氮烷处理的外周表面；以及感光层，其配置于所述导电基底的所述外周表面上。所述感光层包括电荷产生材料和电荷传输材料。CN107179659ACN107179659A权利要求书1/3页1.一种电子照相感光体，其特征在于，包括：导电基底，其具有使用硅氮烷处理的外周表面；以及感光层，其配置于所述导电基底的所述外周表面上，并包括电荷产生材料和电荷传输材料。2.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中，所述导电基底的表面包括由通式(A)表示的结构，其中，RS1至RS3各自独立地表示氢原子或单价有机基团；并且*表示所述结构连接到所述导电基底的所述外周表面上的位置。3.根据权利要求2所述的电子照相感光体，其中，通式(A)中的RS1至RS3是选自未取代或取代的烷基、未取代或取代的环烷基、未取代或取代的芳基以及未取代或取代的甲硅烷基中的至少一种。4.根据权利要求2所述的电子照相感光体，其中，由通式(A)表示的所述结构是选自由以下结构A-1至A-6组成的组中的至少一种，5.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中，所述导电基底包括铝或铝合金。6.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中，所述感光层是包括粘合剂树脂、所述电荷产生材料以及所述电荷传输材料的单层型感光层，所述电荷传输材料包括空穴传输材料以及电子传输材料。7.根据权利要求6所述的电子照相感光体，其中，所述电子传输材料包括选自由通式(1)表示的电子传输材料以及由通式(2)表示的电子传输材料中的至少一种，2CN107179659A权利要求书2/3页其中，R11、R12、R13、R14、R15、R16和R17各自独立地表示氢原子、卤素原子、烷基、烷氧基、芳基或芳烷基；并且R18表示烷基、-L19-O-R20基、芳基或芳烷基，L19是亚烷基且R20是烷基，其中，R21、R22、R23和R24各自独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、卤素原子或苯基。8.根据权利要求6所述的电子照相感光体，其中，所述空穴传输材料包括由通式(3)表示的空穴传输材料，其中，R1、R2、R3、R4、R5和R6各自独立地表示氢原子、低级烷基、烷氧基、苯氧基、卤素原子或者由选自低级烷基、低级烷氧基和卤素原子的基团取代或未取代的苯基；并且p和q各自独立地表示0或1。9.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中，所述电荷产生材料包括选自羟基镓酞菁颜料和氯化镓酞菁颜料中的至少一种。10.一种处理盒，可装卸地安装到图像形成装置上，其特征在于，包括：根据权利要求1至9中任一项所述的电子照相感光体。3CN107179659A权利要求书3/3页11.一种图像形成装置，其特征在于，包括：根据权利要求1至9中任一项所述的电子照相感光体；充电单元，其对所述电子照相感光体的表面进行充电；静电潜像形成单元，其在所述电子照相感光体的所述已充电表面形成静电潜像；显影单元，其使用含有调色剂的显影剂对所述电子照相感光体的所述表面形成的所述静电潜像进行显影以形成调色剂图像；以及转印单元，其将所述调色剂图像转印到记录介质的表面。12.一种导电基底，可包括在电子照相感光体中，其特征在于，包括：使用硅氮烷处理的外周表面。4CN107179659A说明书1/38页电子照相感光体、处理盒、图像形成装置以及导电基底技术领域[0001]本发明涉及一种电子照相感光体、处理盒、图像形成装置以及可包括在电子照相感光体中的导电基底。背景技术[0002]在日本专利文献特开平4-278957号公报公开了一种电子照相感光体，其包括由铝或铝合金构成的导电性基底；设置在导电基底上的感光层，该感光层由电荷产生层和包含有机材料的电荷传输层构成；以及设置于导电基底和感光层之间的勃姆石层。[0003]日本专利文献特开2013-109035号公报公开了一种电子照相感光体，其包括氧化的铝或铝合金构成的导电基底；设置在导电基底上的感光层；以及设置在该导电基底表面上的电阻层，该电阻层具有特定的体积电阻率。[0004]在电子照相感光体的