多层结构体和其制造方法以及涂布液、包装材料、电子设备的保护片材.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109153227A(43)申请公布日2019.01.04(21)申请号201780030569.4中谷正和大木弘之(22)申请日2017.05.17(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公司720(30)优先权数据012016-0997402016.05.18JP代理人马倩林毅斌2016-0997412016.05.18JP(51)Int.Cl.2016-0997422016.05.18JPB32B9/00(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2018.11.16(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2017/0185862017.05.17(87)PCT国际申请的公布数据WO2017/200020JA2017.11.23(71)申请人株式会社可乐丽地址日本冈山县仓敷市酒津１６２１番地(72)发明人佐佐木良一森源靖太田匡彦权利要求书2页说明书38页附图4页(54)发明名称多层结构体和其制造方法以及涂布液、包装材料、电子设备的保护片材(57)摘要本发明涉及多层结构体，其包含基材(X)和层(Y)，前述层(Y)包含含铝的化合物(A)和磷化合物(BH)，所述磷化合物(BH)中通过碳原子数为3以上且20以下的亚烷基链或聚氧亚烷基链而将具有至少1个羟基的磷原子和极性基团键合，前述含铝的化合物(A)是包含含铝的金属氧化物(Aa)与无机磷化合物(BI)的反应产物(D)的化合物(Ab)。CN109153227ACN109153227A权利要求书1/2页1.多层结构体，其包含基材(X)和层(Y)，前述层(Y)包含含铝的化合物(A)和磷化合物(BH)，所述磷化合物(BH)中通过碳原子数为3以上且20以下的亚烷基链或聚氧亚烷基链而将具有至少1个羟基的磷原子和极性基团键合，前述含铝的化合物(A)是包含含铝的金属氧化物(Aa)与无机磷化合物(BI)的反应产物(D)的化合物(Ab)。2.根据权利要求1所述的多层结构体，其中，前述磷化合物(BH)的极性基团为羟基。3.根据权利要求1或2所述的多层结构体，其中，前述磷化合物(BH)的具有至少1个羟基的磷原子是选自磷酸基、亚磷酸基、膦酸基、亚膦酸基、次膦酸基、和次亚膦酸基中的至少1种官能团。4.根据权利要求1~3中任一项所述的多层结构体，其中，前述磷化合物(BH)的摩尔数MBH-4-2与前述无机磷化合物(BI)的摩尔数MBI之比MBH/MBI为1.0×10≤MBH/MBI≤2.0×10的范围。5.根据权利要求1~4中任一项所述的多层结构体，其中，通过X射线光电子能谱分析法(XPS法)测定的前述层(Y)的未与基材(X)接触一侧的表面~5nm中的C/Al比为0.1~15.0的范围。6.根据权利要求1~5中任一项所述的多层结构体，其中，前述层(Y)的水接触角为25°~100°的范围。7.根据权利要求1~6中任一项所述的多层结构体，其中，20℃、85%RH的条件下的透氧度为2.0mL/(m2·day·atm)以下。8.根据权利要求1~7中任一项所述的多层结构体，其中，40℃、90/0%RH的条件下中的透湿度为2.0g/(m2·day)以下。9.根据权利要求1~8中任一项所述的多层结构体，其中，前述基材(X)包含选自热塑性树脂膜和纸中的至少1种层。10.涂布液，其包含含铝的化合物(A)、无机磷化合物(BI)、磷化合物(BH)、和溶剂，所述磷化合物(BH)中通过碳原子数为3以上且20以下的亚烷基链或聚氧亚烷基链而将具有至少1个羟基的磷原子和极性基团键合。11.根据权利要求10所述的涂布液，其中，前述磷化合物(BH)的摩尔数MBH与前述无机磷-4-2化合物(BI)的摩尔数MBI之比MBH/MBI处于1.0×10≤MBH/MBI≤2.0×10的范围。12.权利要求1所述的多层结构体的制造方法，其包括：步骤(I-1)，在前述基材(X)上，涂布包含前述含铝的化合物(A)、前述无机磷化合物(BI)、磷化合物(BH)、和溶剂的涂布液(S1)，由此在前述基材(X)上形成前述层(Y)的前体层，所述磷化合物(BH)中通过碳原子数为3以上且20以下的亚烷基链或聚氧亚烷基链而将具有至少1个羟基的磷原子和极性基团键合；和步骤(I-2)，对前述层(Y)的前体层进行处理从而形成前述层(Y)。13.权利要求1所述的多层结构体的制造方法，其包括：步骤(II-1)，在前述基材(X)上，涂布包含前述含铝的化合物(A)、前述无机磷化合物(BI)、和溶剂的涂布液(S2)，由此形成前述层(Y)的前体层；步骤(II-2)，在前述前体层上涂布包含前述磷化合物(BH)、和溶剂的涂布液(T)；步骤(II-3)，对前述层(Y)的前体层进行处理从而形成前述层(Y)。14.