一种细干粒陶瓷砖及其制备方法、细干粒釉.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111116235A(43)申请公布日2020.05.08(21)申请号201911387526.9(22)申请日2019.12.30(71)申请人肇庆乐华陶瓷洁具有限公司地址526200广东省肇庆市四会市下茆镇龙湾陶瓷城内(72)发明人谢岳荣霍振辉徐鹏飞钟鹏(74)专利代理机构广州三环专利商标代理有限公司44202代理人胡枫李素兰(51)Int.Cl.C04B41/89(2006.01)C03C8/00(2006.01)B24B1/00(2006.01)权利要求书1页说明书7页附图1页(54)发明名称一种细干粒陶瓷砖及其制备方法、细干粒釉(57)摘要本发明公开了一种细干粒釉，其按照重量份计包括：细干粒5-15份，胶水35-50份，釉浆35-50份；其中，细干粒的化学成分为：SiO229～33％、Al2O345～52％、Fe2O31～2.35％、TiO20.2～0.5％、CaO0.6～1.5％、MgO0.8～1.7％、K2O2～4.5％、Na2O1.5～2.0％、ZnO1.8～2.6％BaO0.5～1.0％、LOI4～6.5％；细干粒的粒度≤250目。相应的，本发明还公开了一种细干粒陶瓷砖及其制备方法。本发明大幅度降低了细干粒釉中干粒的粒径，使得砖面不易藏污。同时，本发明细干粒釉装饰效果突出，砖面在光照射下具有炫丽的金属光圈。CN111116235ACN111116235A权利要求书1/1页1.一种细干粒釉，其特征在于，其按照重量份计包括以下原料：细干粒5-15份，胶水35-50份，釉浆35-50份；其中，所述细干粒按质量百分数计的化学成分为：SiO229～33％、Al2O345～52％、Fe2O31～2.35％、TiO20.2～0.5％、CaO0.6～1.5％、MgO0.8～1.7％、K2O2～4.5％、Na2O1.5～2％、ZnO1.8～2.6％、BaO0.5～1％、LOI4～6.5％。所述细干粒的粒度≤250目。2.如权利要求1所述的细干粒釉，其特征在于，所述釉浆按质量百分数计的化学成分为：SiO249～55％、Al2O311.8～15％、Fe2O30.1～0.2％、TiO20.2～0.5％、CaO2.6～5％、MgO6.5～9％、K2O2.7～3.8％、Na2O3.5～5％、ZnO2～4％、SrO21～3％、BaO0.5～1％、LOI3～6％。3.如权利要求1所述的细干粒釉，其特征在于，所述胶水选用纤维素醚的水溶液；所述细干粒釉的比重为1.3-1.5g/mL，流速为30～35s。4.如权利要求1所述的细干粒釉，其特征在于，所述细干粒的粒度为250-350目。5.一种细干粒陶瓷砖，其特征在于，其含有如权利要求1-4任一项所述的细干粒釉形成的细干粒釉层。6.一种如权利要求5所述的细干粒陶瓷砖的制备方法，其特征在于，包括：(1)制备陶瓷坯体；(2)在陶瓷坯体表面施底釉；(3)在步骤(2)得到的坯体表面施加如权利要求1-5任一项所述的细干粒釉；(4)将步骤(3)所得的陶瓷坯体烧成，并抛光后得到细干粒陶瓷砖成品；其中，所述细干粒陶瓷砖包括陶瓷砖坯体以及依次设于所述陶瓷砖坯体上的由底釉烧成后得到的底釉层和由细干粒釉经烧成、抛光后得到的细干粒釉层。7.如权利要求6所述的细干粒陶瓷砖的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，细干粒釉的施釉量为400-800g/m2。8.如权利要求6所述的细干粒陶瓷砖的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述底釉烧成后整体上呈深灰色、黑色或灰黑色；所述底釉的比重为1.8～1.9g/mL，流速为40～50s，底釉的施釉量为350～400g/m2。9.如权利要求6所述的细干粒陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述底釉层厚度为0.4～0.5mm，细干粒釉层的厚度为0.5～0.6mm。10.如权利要求6所述的细干粒陶瓷砖的制备方法，其特征在于，步骤(4)包括：(4.1)将步骤(3)所得的陶瓷坯体在1180～1210℃下烧成，得到陶瓷砖坯体；(4.2)采用100-500目的尼龙金刚石磨片对陶瓷砖坯体进行粗抛；(4.3)采用600-2000目的树脂磨片对陶瓷砖坯体进行精抛，得到细干粒陶瓷砖成品。2CN111116235A说明书1/7页一种细干粒陶瓷砖及其制备方法、细干粒釉技术领域[0001]本发明涉及陶瓷砖技术领域，尤其涉及一种细干粒陶瓷砖及其制备方法、细干粒釉。背景技术[0002]随着陶瓷砖技术的发展，人们对于陶瓷砖的功能性、装饰性性能要求日益提升。对于功能性而言，防滑、耐污是目前主要的关注方向。对于装饰性而言，陶瓷砖的光泽、花纹等则是主要的关注方向。在此背景下，“干粒”作为一种新的装饰以及功能化手段，逐渐被应用在陶瓷砖生产过程中。[0003]