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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112695278A(43)申请公布日2021.04.23(21)申请号202011621166.7(22)申请日2020.12.31(71)申请人福建省将乐县长兴电子有限公司地址353300福建省三明市将乐县古镛镇东门新村3号(72)发明人吕锡昌谢建辉廖建伟(74)专利代理机构北京阳光天下知识产权代理事务所(普通合伙)11671代理人赵飞(51)Int.Cl.C23C14/28(2006.01)C23C14/18(2006.01)权利要求书2页说明书4页附图3页(54)发明名称一种真空镀膜加工装置(57)摘要本发明公开了一种真空镀膜加工装置,包括底座,所述底座的上面设有壳体和冷却系统,所述底座内设有真空泵,所述壳体的顶部设有升降机构,所述升降机构能够带着石英晶体上下移动,所述壳体的内部设有镀膜装置和防护装置,所述镀膜装置包括激光发射装置和覆膜装置,所述激光发射装置外接激光发射器,所述防护装置设置在所述底座的内腔底部,所述激光发射装置安装在所述底座的右侧壁上,所述覆膜装置位于所述防护装置内,所述升降机构包括可上下移动的连接板,所述连接板上安装有旋转板,所述旋转板的下面设有加热板,所述加热板的下面连接有基板,所述基板用于放置石英晶体,本发明具有加工效率高、覆膜效果好的优点。CN112695278ACN112695278A权利要求书1/2页1.一种真空镀膜加工装置,其特征在于,包括底座(1),所述底座(1)的上面设有壳体(3)和冷却系统(7),所述冷却系统(7)设置在所述壳体(3)的左侧,所述底座(1)内设有真空泵(2),所述真空泵(2)的上端和所述壳体(3)的内部贯通,所述壳体(3)的顶部设有升降机构(5),所述升降机构(5)的下端伸入所述壳体(3)内,所述升降机构(5)能够带着石英晶体上下移动,所述壳体(3)的内部设有镀膜装置和防护装置,所述镀膜装置包括激光发射装置和覆膜装置,所述激光发射装置外接激光发射器,所述防护装置设置在所述底座(1)的内腔(11)底部,所述激光发射装置安装在所述底座(1)的右侧壁上,所述覆膜装置位于所述防护装置内,所述升降机构(5)包括可上下移动的连接板(52),所述连接板(52)上安装有可转动的旋转板(54),所述旋转板(54)的下面设有加热板(55),所述加热板(55)的下面通过若干个基板座(56)连接有基板(561),所述基板(561)用于放置石英晶体。2.根据权利要求1所述的真空镀膜加工装置,其特征在于,所述激光发射装置包括反射镜(42)和聚焦镜(43),所述反射镜(42)和所述聚焦镜(43)均安装在所述壳体(3)的右侧壁上,所述反射镜(42)位于所述聚焦镜(43)的右上方,所述激光发射器发出激光束(4),通过所述反射镜(42)和所述聚焦镜(43)照射在所述覆膜装置上。3.根据权利要求2所述的真空镀膜加工装置,其特征在于,所述覆膜装置包括坩埚(45),所述坩埚(45)通过坩埚座(44)设置在所述壳体(3)的底部,且所述坩埚(45)位于所述防护装置的安装座(6)内,所述坩埚(45)内存放有金属液(46),所述激光束(4)照射所述金属液(46)能够使得所述金属液(46)蒸发,所述金属液(46)内的金属离子上升,从而覆在所述石英晶体的表面,形成一层膜。4.根据权利要求3所述的真空镀膜加工装置,其特征在于,所述防护装置还包括保护罩(62),所述保护罩(62)通过若干个螺钉(61)安装在所述安装座(6)的上面,所述保护罩(62)的前面设有门(622),所述门(622)上设有把手(623)。5.根据权利要求4所述的真空镀膜加工装置,其特征在于,所述冷却系统(7)包括冷却箱(72),所述冷却箱(72)安装在所述壳体(3)的左侧,所述冷却箱(72)的左侧安装有冷凝器(73),所述冷凝器(73)的上端连接有冷凝管(74),所述冷凝管(74)的上端穿过所述冷却箱(72)的左侧壁的上端并伸入所述冷却箱(72)内,且所述冷凝管(74)的下端从所述冷却箱(72)的左侧壁的下端穿出并连接在所述冷凝器(73)的下端。6.根据权利要求5所述的真空镀膜加工装置,其特征在于,所述冷却箱(72)内设有冷却液(75),所述冷凝管(74)位于所述冷却箱(72)内的部分浸在所述冷却液(75)中,且所述冷凝管(74)位于所述冷却箱(72)内的部分呈S形设置。7.根据权利要求6所述的真空镀膜加工装置,其特征在于,所述冷却系统(7)还包括气泵(71)和排气管(76),所述气泵(71)安装在所述底座(1)内且位于所述底座(1)的左端,所述气泵(71)上设有第二出气管(711),所述第二出气管(711)伸入所述冷却箱(72)内,所述排气管(76)贯通连接在所述冷却箱(72