一种新型真空镀膜装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108531870A(43)申请公布日2018.09.14(21)申请号201810490217.3(22)申请日2018.05.21(71)申请人陈宝泗地址362403福建省泉州市安溪县金谷镇洋中村后辽6号(72)发明人陈宝泗(51)Int.Cl.C23C14/34(2006.01)C23C14/24(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称一种新型真空镀膜装置(57)摘要本发明公开了一种新型真空镀膜装置，包括机箱，所述机箱的一侧安装有真空室，所述真空室的内部底端安装有加热炉，所述真空室的内部下方通过固定架安装有坩埚，所述真空室的上方安装有密封盖，所述阳极板的顶部安装有第一基片，所述真空罩的内部上方通过支架安装有阴极板，所述阴极板的下方安装有溅射靶材。本发明安装有真空罩和真空室，在真空罩内安装有阴极板和阳极板，通过溅射镀膜原理进行镀膜，且在真空室的内部安装有坩埚，在坩埚的下方安装有加热炉，通过其可以通过蒸发镀膜原理进行镀膜，两种不同的镀膜方式同时使用，大大增大了装置的通用性，提高了适用范围。CN108531870ACN108531870A权利要求书1/1页1.一种新型真空镀膜装置，包括机箱（8），其特征在于:所述机箱（8）的一侧安装有真空室（19），所述真空室（19）的内部底端安装有加热炉（11），所述真空室（19）的内部下方通过固定架（9）安装有坩埚（10），所述真空室（19）的上方安装有密封盖（15），所述密封盖（15）的顶部安装有第二把手（14），所述密封盖（15）的下方安装有镶嵌板（16），所述镶嵌板（16）的下方安装有基片固定板（17），所述基片固定板（17）上安装有夹板（21），所述夹板（21）的一侧安装有弹簧（20），所述机箱（8）的上方安装有控制面板（7），所述控制面板（7）的上方安装有真空罩（12），所述真空罩（12）的一侧安装有氩气充入口（4），所述真空罩（12）的顶端一侧安装有第一把手（13），所述真空罩（12）的内部下方安装有阳极板（6），所述阳极板（6）的顶部安装有第一基片（5），所述真空罩（12）的内部上方通过支架（1）安装有阴极板（2），所述阴极板（2）的下方安装有溅射靶材（3）。2.根据权利要求1所述的一种新型真空镀膜装置，其特征在于：所述加热炉（11）位于坩埚（10）的正下方，且坩埚（10）位于第二基片（18）的正下方。3.根据权利要求1所述的一种新型真空镀膜装置，其特征在于：所述镶嵌板（16）的两侧均设置有滑槽，且镶嵌板（16）通过滑槽与真空室（19）的内侧壁滑动连接。4.根据权利要求1所述的一种新型真空镀膜装置，其特征在于：所述溅射靶材（3）与第一基片（5）正对安装，且第一基片（5）通过夹具固定在阴极板（2）上。5.根据权利要求1所述的一种新型真空镀膜装置，其特征在于：所述夹板（21）共设置有六个，且六个夹板（21）之间通过弹簧（21）连接。2CN108531870A说明书1/3页一种新型真空镀膜装置技术领域[0001]本发明涉及真空镀膜装置领域，具体是一种新型真空镀膜装置。背景技术[0002]真空镀膜装置是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上，此项技术最先用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等，后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等，如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工红硬性，在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。[0003]目前阶段的真空镀膜装置存在诸多的不足之处，例如，通用性能差，安装拆卸不方便，不方便使用。发明内容[0004]本发明的目的在于提供一种新型真空镀膜装置，以解决现有技术中的通用性能差，安装拆卸不方便，不方便使用的问题。[0005]为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种新型真空镀膜装置，包括机箱，所述机箱的一侧安装有真空室，所述真空室的内部底端安装有加热炉，所述真空室的内部下方通过固定架安装有坩埚，所述真空室的上方安装有密封盖，所述密封盖的顶部安装有第二把手，所述密封盖的下方安装有镶嵌板，所述镶嵌板的下方安装有基片固定板，所述基片固定板上安装有夹板，所述夹板的一侧安装有弹簧，所述机箱的上方安装有控制面板，所述控制面板的上方安装有真空罩，所述真空罩的一侧安装有氩气充入口，所述真空罩的顶端一侧安装有第一把手，所述真空罩的内部下方安装有阳极板，所述阳极板的顶部安装有第一基片，所述真空罩的内部上方通过支架安装有阴极板，所述阴