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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102906814A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102906814A(43)申请公布日2013.01.30(21)申请号201180025053.3帕里查·提帕阳宫谷克明(22)申请日2011.05.18(74)专利代理机构中原信达知识产权代理有限(30)优先权数据责任公司112192010-1165892010.05.20JP代理人王海川穆德骏2010-1309942010.06.08JP(51)Int.Cl.(85)PCT申请进入国家阶段日G11B5/84(2006.01)2012.11.20C03C23/00(2006.01)(86)PCT申请的申请数据PCT/JP2011/0614582011.05.18(87)PCT申请的公布数据WO2011/145662JA2011.11.24(71)申请人旭硝子株式会社地址日本东京(72)发明人三代均田村昌彦权利要求书权利要求书1页1页说明书说明书1313页页附图附图22页(54)发明名称信息记录介质用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法(57)摘要一种经由使用含有氧化铈磨粒的浆料对玻璃圆板进行抛光的抛光工序来制造信息记录介质用玻璃基板的方法,该方法抑制氧化铈磨粒的残留,而且减少主表面的表面粗糙。本发明涉及一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法,包括:对玻璃圆板进行研磨的研磨工序和然后使用氧化铈磨粒进行抛光的氧化铈抛光工序,其中,紧接在氧化铈抛光工序后,在对玻璃圆板进行干燥的干燥工序(a)之后或者在使用选自由硫酸和硝酸组成的组中的一种以上无机酸的浓度为55质量%以上、温度为30℃以下的第一清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(b)之后,具有:使用硫酸的浓度为55~80质量%、过氧化氢的浓度为1~10质量%、温度为70℃以上的第二清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(c)。CN1029684ACN102906814A权利要求书1/1页1.一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法,包括:对玻璃圆板进行研磨的研磨工序和然后使用氧化铈磨粒进行抛光的氧化铈抛光工序,其中,紧接在氧化铈抛光工序后,在对玻璃圆板进行干燥的干燥工序(a)之后或者在使用选自由硫酸和硝酸组成的组中的一种以上无机酸的浓度为55质量%以上、温度为30℃以下的第一清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(b)之后,具有:使用硫酸的浓度为55~80质量%、过氧化氢的浓度为1~10质量%、温度为70℃以上的第二清洗液对玻璃圆板进行清洗的清洗工序(c)。2.如权利要求1所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,所述干燥工序(a)中,通过旋转干燥或异丙醇蒸气干燥对玻璃圆板进行干燥。3.如权利要求1所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,所述清洗工序(b)中,所述无机酸为硫酸。4.如权利要求1或3所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,第一清洗液的硫酸的浓度为98质量%以下。5.如权利要求1所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,所述清洗工序(b)中,所述无机酸为硝酸。6.如权利要求1或5所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,第一清洗液的硝酸的浓度为70质量%以下。7.如权利要求1、3~6中任一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,所述清洗工序(b)中,将玻璃圆板浸渍在第一清洗液中来清洗玻璃圆板。8.如权利要求1~7中任一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,所述清洗工序(c)中,将玻璃圆板浸渍在第二清洗液中来清洗玻璃圆板。9.如权利要求1~8中任一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,在所述清洗工序(c)之后,具有使用含有胶态二氧化硅磨粒的浆料对玻璃圆板的主表面进行抛光的精抛光工序。10.如权利要求9所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,所述胶态二氧化硅磨粒的平均粒径为10~50nm。11.如权利要求9或10所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,所述精抛光工序是使用pH为1~6的含有胶态二氧化硅磨粒的浆料对玻璃圆板的主表面进行抛光的工序。12.如权利要求1~11中任一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,信息记录介质为磁盘。13.一种磁盘的制造方法,其特征在于,通过权利要求12所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法制造磁盘用玻璃基板,并在该磁盘用玻璃基板的主表面上形成磁记录层。2CN102906814A说明书1/13页信息记录介质用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法技术领域[0001]本发明涉及信息记录介质用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法,特别是涉及玻璃基板制造时的清洗工序。背景技术[0002]在近年来磁盘高容量化的趋势中,关于玻璃基板存在两大技术课题。一个是高速旋转时的振动特性和强度等机械特性的问题,