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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利(10)授权公告号(10)授权公告号CNCN103102158103102158B(45)授权公告日2014.07.16(21)申请号201110352096.4microstructureonsurfaceandsubsurfacedamageofsinteredsiliconcarbideduring(22)申请日2011.11.09grindingandpolishing.《Wear》.2010,第270(73)专利权人中国科学院上海硅酸盐研究所卷左栏2试验步骤部分,左栏第地址200050上海市长宁区定西路1295号3.结果与讨论部分.(72)发明人高剑琴黄政仁陈健刘桂玲审查员栾奇刘学建(74)专利代理机构上海专利商标事务所有限公司31100代理人项丹(51)Int.Cl.C04B35/565(2006.01)C04B35/622(2006.01)(56)对比文件JP平4-31364A,1992.02.03,全文.US4981665A,1991.01.01,全文.JianqinGaoetal..Roleof权权利要求书1页利要求书1页说明书5页说明书5页附图1页附图1页(54)发明名称表面质量提高的固相烧结碳化硅陶瓷的制备方法(57)摘要本发明涉及表面质量提高的固相烧结碳化硅陶瓷的制备方法,该方法包括以下步骤:测量SiC粉体表面的氧含量,并根据3C+SiO2=SiC+2CO↑计算出所需的碳含量;加入烧结助剂B和C混合浆料,配比如下:烧结助剂与SiC粉体的混合物∶磨球∶分散介质=1∶3∶1;烘干浆料、过筛,成型后除去粘结剂;在流动惰性气体保护下,以烧结温度为2050-2200℃进行烧结,保温时间1-4小时,生成致密的SiC陶瓷;对所得的致密的SiC陶瓷进行机械加工;对经机械加工的SiC陶瓷进行超声清洗以去除陶瓷表面上的残留粒子和沾污物。CN103102158BCN103258BCN103102158B权利要求书1/1页1.一种表面质量提高的固相烧结碳化硅陶瓷的制备方法,该方法包括以下步骤:测量SiC粉体表面的氧含量,并根据3C+SiO2=SiC+2CO↑计算出所需的碳含量;加入烧结助剂B和C混合浆料,配比如下:烧结助剂与SiC粉体的混合物∶磨球∶分散介质=1∶3∶1;烘干浆料、过筛,成型后除去粘结剂;在流动惰性气体保护下,以烧结温度为2050-2200℃进行烧结,保温时间1-4小时,生成致密的SiC陶瓷;对所得的致密的SiC陶瓷进行机械加工;对经机械加工的SiC陶瓷进行超声清洗以去除陶瓷表面上的残留粒子和沾污物。2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述烧结助剂B和C分别以0.4-1.0重量%和1-3重量%加入,以所述SiC粉体的总重量为100%计。3.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,使用无水乙醇作为分散介质,SiC球作为磨球。4.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述除去粘结剂在900℃的真空中进行。5.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述惰性气体使用Ar气。6.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述机械加工包括如下步骤:先采用B4C磨粒进行粗磨,然后采用金刚石磨粒细磨,最后采用金刚石悬浮液抛光。7.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述烧结助剂C使用C单质、酚醛树脂或两者的混合物;所述烧结助剂B使用B单质、B4C或两者的混合物。8.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述SiC粉体的粒径为亚微米级,纯度大于99.99%。9.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述浆料在60℃烘箱烘干,过100目筛;在平板机上以50MPa压力成型,再经200MPa冷等静压。10.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述机械加工包括如下步骤:依次采用粒径为63-75μm和35-38μm的B4C磨粒粗磨10-40分钟,转速为50-60rpm;依次采用粒径为20μm和10μm的金刚石磨粒细磨10-40分钟,转速为40-50rpm;依次采用5μm、3μm和1μm的金刚石悬浮液抛光,时间分别为4-5小时、2-3小时和2小时,转速分别为40rpm、35rpm、30rpm;机械加工时控制压力在100-700g/cm2。2CN103102158B说明书1/5页表面质量提高的固相烧结碳化硅陶瓷的制备方法技术领域[0001]本发明属于碳化硅陶瓷领域,涉及一种提高以B、C体系为烧结助剂的固相烧结碳化硅陶瓷的表面质量的方法。更具体地说,本发明涉及表面质量提高的固相烧结碳化硅陶瓷的制备方法。背景技术[0002]碳化硅陶瓷具有优良的力学性能、高温抗氧化性、耐磨性、抗热震性以及特殊的电、热学性能,它作为新型高性能结构材料广泛应用于现代国防、核能和空间技术等