一种清洗装置以及清洗方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103551336103551336A(43)申请公布日2014.02.05(21)申请号201310560619.3(22)申请日2013.11.12(71)申请人合肥京东方光电科技有限公司地址230012安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号申请人京东方科技集团股份有限公司(72)发明人郑先锋徐涛金相旭左长云(74)专利代理机构北京路浩知识产权代理有限公司11002代理人李迪(51)Int.Cl.B08B3/12(2006.01)权权利要求书1页利要求书1页说明书5页说明书5页附图2页附图2页(54)发明名称一种清洗装置以及清洗方法(57)摘要本发明公开了一种清洗装置，用于清洗印刷版，包括：印刷版辊、转轴、超声波发生器、支架和清洗槽，印刷版辊套装在转轴上，转轴的两端设置在支架上，印刷版辊模拟印刷状态，印刷版辊的下方设置有清洗槽，支架的高度根据需要进行调节，通过调节支架的高度印刷版辊沉浸在清洗槽的清洗液中，超声波发生器可发射不同频率的超声波，用于对印刷版网点内的残留物进行清洗。本发明提供的清洗装置通过将印刷版辊一直模拟印刷状态，使得印刷版一直处于清洗液中，减少清洗时间，提高清洗效率，并能根据不同型号的印刷版上不同大小网点中的残留物使用不同频率的超声波进行清洗，能够实现良好的清洗效果。CN103551336ACN10356ACN103551336A权利要求书1/1页1.一种清洗装置，用于清洗印刷版，其特征在于，包括：印刷版辊、转轴、超声波发生器、支架和清洗槽；所述印刷版辊套装在所述转轴上，所述转轴的两端设置在所述支架上，所述印刷版辊模拟印刷状态，所述印刷版辊的下方设置有所述清洗槽，所述支架的高度根据需要进行调节，通过调节所述支架的高度所述印刷版辊沉浸在所述清洗槽的清洗液中，所述超声波发生器可发射不同频率的超声波，用于对所述印刷版网点内的残留物进行清洗。2.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，还包括自动控制单元，与所述超声波发生器连接，对所述超声波发生器发射的超声波的频率进行控制。3.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，还包括储液槽，设置在所述清洗槽的下方。4.如权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽的下方开设有下液阀和排出口，所述下液阀和所述排出口设置在所述清洗槽的底部，用于将清洗完成之后的清洗液排到所述储液槽中。5.如权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述排出口处还设置有浓度计，用于对所述清洗槽排出的清洗液浓度进行检测，确认所述清洗液浓度是否超过预设的浓度阈值，如果超过则对所述清洗槽中的清洗液进行更换，否则不更换清洗液。6.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，还包括上液泵，设置在所述支架的底部。7.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，还包括驱动单元，与所述转轴连接，为所述转轴提供动力。8.如权利要求2、4、6或7中任一项所述的清洗装置，其特征在于，所述自动控制单元还与所述下液阀、所述上液泵和所述驱动单元连接。9.一种清洗方法，其特征在于，所述方法包括：印刷版辊转动，模拟对印刷版进行印刷的状态；在超声波发生器的控制下对所述印刷版进行清洗，并将清洗之后的清洗液排出；对排出的清洗液的浓度进行检测，并对清洗液浓度进行判断是否对清洗槽中的清洗液进行更换；如果不更换所述清洗液则将其排出到储液槽中进行储存，并通过上液泵将其泵入到所述清洗槽中。10.如权利要求9所述的清洗方法，其特征在于，所述超声波发发生器发射超声波的频率大小可根据需要进行调节。11.如权利要求9所述的清洗方法，其特征在于，所述对清洗液浓度进行判断具体包括：将检测得到的清洗液浓度与预设的浓度阈值进行比较，如果超过所述浓度阈值则对所述清洗槽中的清洗液进行更换，否则不更换。2CN103551336A说明书1/5页一种清洗装置以及清洗方法技术领域[0001]本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种清洗装置以及清洗方法。背景技术[0002]TFT-LCD（ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，薄膜晶体场效应晶体管液晶显示器）制造行业在液晶成盒工艺过程中，需要在基板上涂覆取向膜，取向膜的材质为聚酰亚胺膜（Polyimide，简称PI），因此PI膜一般就是指取向膜。PI膜是由PICoater（取向膜印刷机）印刷在阵列（ThinFilmTransistor，TFT）基板和彩膜（ColorFilter，CF）基板上的，印刷版在基板上印刷取向膜的过程中，要经常转印取向液，而取向液中往往会存在少量杂质，且在印刷版的型号切换后需要对印刷版进行及时有效的清洗。[0003]现有的印刷版清洗装置如图1所示，将印刷版00垂直固定在清洗支