激光熔覆系统填料分布装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CN104619455A(43)申请公布日(43)申请公布日2015.05.13(21)申请号201380047628.0(51)Int.Cl.(22)申请日2013.08.12B23K26/342(2014.01)B23K26/70(2014.01)(30)优先权数据B05B7/22(2006.01)13/611,1442012.09.12USC23C24/10(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2015.03.12(86)PCT国际申请的申请数据PCT/US2013/0544532013.08.12(87)PCT国际申请的公布数据WO2014/074188EN2014.05.15(71)申请人西门子能量股份有限公司地址美国佛罗里达州(72)发明人G.J.布鲁克(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所11105代理人吴俊权利要求书2页说明书8页附图6页(54)发明名称激光熔覆系统填料分布装置(57)摘要通过具有直线形或多边形散布孔(331-336)的填料分布装置(300)在基底(200)上以某个图案引入激光熔覆填料，以实现在激光束(180)向基底(200)传递光能之前或在该过程中均匀布料。分布装置(300)包括限定分布孔阵列(331-336)的外壳(310)(或相互结合的外壳的组件)和与分布孔(331-336)相通并适于留存填料(F)的内腔(320)。机械供料机构(例如螺旋(340))适于从内腔(320)经由分布孔(331-336)供送填料(F)。供料机构驱动系统(135)耦合至机械供料机构(340)，并适于有选择性地改变填料供送速度。可有选择性地重新配置分布孔阵列(331-336)，以有选择性地改变填料分布图案。CN104619455ACN104619455A权利要求书1/2页1.一种激光熔覆填料分布装置，包括：模块化外壳，具有限定分布孔的外表面和与分布孔相通内腔，所述内腔适于留存填料，该模块化外壳适合于与其它模块化外壳组合，从而有选择性地组成不同的分布孔阵列；机械供料机构，适于有选择性地从所述内腔经由分布孔供送填料；和驱动系统，耦合至机械供料机构，并适于有选择性地改变填料供送速率。2.如权利要求1所述的装置，包括：组合出分布孔阵列的多个模块化外壳；把所述多个模块化外壳结合为分布孔阵列的安装结构；和驱动系统，有选择性地改变经由分布孔阵列中的每个孔供料的填料供送速率。3.如权利要求2所述的装置，其中，机械供料机构包括螺旋。4.如权利要求1所述的装置，其中，机械供料机构包括螺旋。5.如权利要求1所述的装置，包括分布孔隔离机构，该隔离机构用于有选择性地把分布孔与所述内腔中的填料源隔离。6.如权利要求1所述的装置，包括用于有选择性地改变分布孔尺寸的孔调整机构。7.如权利要求1所述的装置，包括耦合至所述驱动系统的控制系统，该控制系统用于控制经由分布孔供料的填料供送速率。8.一种激光熔覆填料分布装置，包括：外壳，具有限定由至少两个分布孔构成的分布孔阵列以控制熔覆基底上的填料分布的外表面、以及与分布孔相通并适于留存填料的内腔；机械供料机构，适于有选择性地从所述内腔经由分布孔阵列中的分布孔供送填料；和供料机构驱动系统，耦合至机械供料机构，并适于有选择性地改变填料供送速率。9.如权利要求8所述的装置，其中，机械供料机构包括螺旋。10.如权利要求8所述的装置，包括孔隔离机构，该隔离机构用于有选择性地把分布孔与所述内腔中的填料隔离。11.如权利要求8所述的装置，包括用于有选择性地改变分布孔尺寸的孔调整机构。12.如权利要求8所述的装置，其中，分布孔阵列包括由至少三个分布孔组成的直线形阵列。13.如权利要求8所述的装置，其中，分布孔阵列包括由至少三个分布孔组成的多边形阵列。14.一种激光熔覆系统，包括：激光熔覆填料分布装置，该激光熔覆填料分布装置具有：外壳，具有限定由至少两个分布孔构成的分布孔阵列以控制熔覆基底上的填料分布的外表面、以及与分布孔相通并适于留存填料的内腔；机械供料机构，适于有选择性地从所述内腔经由分布孔阵列中的分布孔供送填料；和供料机构驱动系统，耦合至机械供料机构，并适于有选择性地改变填料供送速率；激光器，产生用于向基底以及该基底上的填料传递光能的激光束，该光能使填料熔合到该基底上，作为填料层；移动反射镜，拦截激光束，用于把激光束定向到所述基底上；和激光器驱动系统，耦合至每一个相应的移动反射镜以及激光器，用于使激光束和所述2CN104619455A权利要求书2/2页基底之间相对运动。15.如权利要求14所述的系统，其中，激光器驱动系统以多维路径在所述基底上移动反光镜，填料分布装置分布孔阵列在向所述基底传递光能的激光束的前方沿