一种显示面板的信号线的制程方法及显示面板.pdf
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一种显示面板的信号线的制程方法及显示面板.pdf
本发明公开了一种显示面板的信号线的制程方法及显示面板,方法包括在显示面板上形成信号线的材料层;在材料层上形成光致抗蚀剂层;使用掩膜板对光致抗蚀剂层进行光罩处理,以使光致抗蚀剂层形成阶梯状图案,且阶梯状图案化的光致抗蚀剂层包括第一类型曝光区域和第二类型曝光区域,其中,第一类型曝光区域的高度不同于第二类型曝光区域的高度;将阶梯状图案化的光致抗蚀剂层第一类型曝光区域去除,而保留第二类型曝光区域;利用剩余的光致抗蚀剂层的第二类型曝光区域作为掩膜对材料层进行蚀刻,以在显示面板上得到图案化的材料层。通过上述方式,本发
一种显示面板及显示面板制程方法.pdf
本申请实施例提供一种显示面板,该显示面板包括:驱动电路层、第一电极层、辅助电极层、像素定义层以及电子传输层。驱动电路层包括相对设置的第一面和第二面,第一电极层部分覆盖所述第一面,辅助电极层部分覆盖第一面,辅助电极层与第一电极层同层设置,且辅助电极层与第一电极层之间留有间隙,像素定义层覆盖驱动电路层、第一电极层以及辅助电极层,像素定义层上设置有第一通孔,电子传输层设置于像素定义层远离驱动电路层的一侧,并通过第一通孔与辅助电极层连接。通过将电子传输层的最低空轨道与辅助电极层功函的能级差设置为2.0eV以下,降
一种显示面板制程方法及显示面板.pdf
本申请公开了一种显示面板制程方法及显示面板。所述显示面板制程方法中,在光刻时增加了一层辅助层。一方面,辅助层相对于光阻层更便于剥离,并且剥离辅助层能够直接带离显影后残留的光阻层。这样能够避免光阻层残留,进而避免了残留的光阻层影响设备性能的问题。另一方面,由于光刻时设置了辅助层,在设置后续的光阻层时,光阻层无需直接接触下方发光层。因此,所述显示面板制程方法能够防止光刻和剥离时对发光层造成影响,也能避免发光层上形成陷阱位点,进而避免发光层发生猝灭。
一种显示面板的制程方法和显示面板.pdf
本发明公开了一种显示面板的制程方法和显示面板,制程方法包括第一基板的制程方法,第一基板的制程方法包括步骤:在基板沉积底层材料;对底层材料的上表面,采用准分子紫外光照射操作,并进行水洗操作,完成底层结构的表面的洁净工作;在底层材料上方沉积第二层金属;通过光罩制程蚀刻第二层金属以形成第二金属层;在第二金属层的上方形成钝化层和透明导电层;在镀第二层金属之前进行准分子紫外光照射和水洗的制程,可以有效减少底层结构表面的有机物和氧化物的残留,减少第二层金属的数据线短路或断路的现象,从而提升4mask工艺的良率。
一种显示面板的显示方法、显示面板和显示装置.pdf
本发明提供了一种显示面板的显示方法、显示面板和显示装置。显示面板的显示区包括第一显示区和第二显示区,子像素包括位于第一显示区的第一子像素和位于第二显示区的第二子像素,第二显示区的像素密度小于第一显示区的像素密度;显示方法包括:在显示一帧画面中:第一显示区和第二显示区采用不同的显示算法进行显示,两个显示区中至少一者采用子像素渲染的方式进行显示,向第一显示区提供的数据信号个数与第一子像素的个数相同,向第二显示区提供的数据信号个数与第二子像素的个数相同,在像素电路驱动子像素进行显示过程中,数据线向像素电路写入的