一种显示面板的制程方法和显示面板.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109755259A(43)申请公布日2019.05.14(21)申请号201811568113.6(22)申请日2018.12.21(71)申请人惠科股份有限公司地址518000广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民营工业园惠科工业园厂房1、2、3栋，九州阳光1号厂房5、7楼(72)发明人葛邦同(74)专利代理机构深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙)44240代理人邢涛(51)Int.Cl.H01L27/12(2006.01)H01L21/77(2017.01)H01L21/02(2006.01)权利要求书2页说明书9页附图8页(54)发明名称一种显示面板的制程方法和显示面板(57)摘要本发明公开了一种显示面板的制程方法和显示面板，制程方法包括第一基板的制程方法，第一基板的制程方法包括步骤：在基板沉积底层材料；对底层材料的上表面，采用准分子紫外光照射操作，并进行水洗操作，完成底层结构的表面的洁净工作；在底层材料上方沉积第二层金属；通过光罩制程蚀刻第二层金属以形成第二金属层；在第二金属层的上方形成钝化层和透明导电层；在镀第二层金属之前进行准分子紫外光照射和水洗的制程，可以有效减少底层结构表面的有机物和氧化物的残留，减少第二层金属的数据线短路或断路的现象，从而提升4mask工艺的良率。CN109755259ACN109755259A权利要求书1/2页1.一种显示面板的制程方法，其特征在于，所述制程方法包括第一基板的制程方法，所述第一基板的制程方法包括步骤：在基板沉积底层材料；对底层材料的上表面，采用准分子紫外光照射操作，并进行水洗操作，完成底层结构的表面的洁净工作；在底层材料上方沉积第二层金属；通过光罩制程蚀刻第二层金属以形成第二金属层；在第二金属层的上方形成钝化层和透明导电层。2.如权利要求1所述显示面板的制程方法，其特征在于，所述对底层材料的上表面，采用准分子紫外光照射操作，并进行水洗操作，完成底层结构的表面的洁净工作的步骤包括：使用准分子紫外光照射操作对底层材料上表面进行洁净工作；对完成准分子紫外光照射操作的底层材料上表面进行水洗操作。3.如权利要求1所述显示面板的制程方法，其特征在于，所述准分子紫外光照射操作和水洗操作之后还包括步骤：对完成准分子紫外光照射操作和水洗操作之后的底层结构的上表面使用风刀吹干操作。4.如权利要求1所述显示面板的制程方法，其特征在于，所述底层材料用于形成有源层，所述第二金属层包括同层形成的源极和漏极；所述在基板沉积底层材料的步骤包括：在基板上依次形成栅极和栅极绝缘层；在栅极绝缘层的上方沉积有源层材料作为底层材料；所述通过光罩制程蚀刻第二层金属以形成第二金属层的步骤包括：通过同一道光罩制程，先蚀刻第二层金属形成包括源极和漏极的第二金属层；再蚀刻底层材料形成有源层。5.如权利要求1所述显示面板的制程方法，其特征在于，所述底层材料用于形成有源层，所述第二金属层包括同层形成的源极和漏极；所述在基板沉积底层材料的步骤包括：在基板上依次形成栅极和栅极绝缘层；在栅极绝缘层上方沉积有源层材料；在有源层材料沉积一层光阻；并使用光罩制程形成预设图案的光阻层；使用光阻层蚀刻有源层材料形成有源层；进行光阻去除操作去除有源层上方的光阻层；所述准分子紫外光照射操作和水洗操作是应用于去除光阻层之后的所述有源层的上表面的。6.如权利要求1所述显示面板的制程方法，其特征在于，所述准分子紫外光的波长为100至360纳米。7.如权利要求1所述的显示面板的制程方法，其特征在于，准分子紫外光的波长为274纳米。8.如权利要求1所述显示面板的制程方法，其特征在于，所述第二层金属包括同层形成2CN109755259A权利要求书2/2页的源极和漏极；所述底层材料用于形成栅绝缘层、栅极和层间介质层；所述在基板沉积底层材料的步骤包括：在基板上依次形成的缓冲层和有源层；在有源层上方依次沉积栅绝缘材料和栅极材料；蚀刻栅极材料形成栅极层；在栅极层上方沉积层间介质材料；在层间介质材料上方形成预设图案的光阻层；基于预设图案的光阻层蚀刻得到栅极绝缘层和层间介质层；进行光阻去除操作去除层间介质层上方的光阻层；所述栅极绝缘层和层间介质层相对于栅极的两侧部，形成连接所述层间介质层两侧部上表面和有源层两侧部上表面的两个镂空结构；所述源极和漏极分别设置在所述层间介质层的两侧，并分别通过对应侧部的所述镂空结构分别连接于所述有源层的上表面；所述准分子紫外光照射操作和水洗操作是应用于去除光阻层之后的所述有源层的上表面的。9.一种显示面板的制程方法，其特征在于，所述制程方法包括第一基板的制程方法，所述第一基板的制程方法包括步骤：在基板上依次形成栅极和栅极绝缘层；在栅极绝缘层的上方沉积有源层材料作为底层材