基板处理方法以及基板处理装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN105470109A(43)申请公布日2016.04.06(21)申请号201510633602.5H01L21/67(2006.01)(22)申请日2015.09.29(30)优先权数据2014-2017192014.09.30JP(71)申请人株式会社思可林集团地址日本国京都府京都市(72)发明人基村雅洋(74)专利代理机构隆天知识产权代理有限公司72003代理人宋晓宝向勇(51)Int.Cl.H01L21/02(2006.01)H01L21/306(2006.01)H01L21/3105(2006.01)H01L21/321(2006.01)权利要求书2页说明书15页附图8页(54)发明名称基板处理方法以及基板处理装置(57)摘要本发明涉及一种基板处理方法以及基板处理装置。该基板处理方法包括如下步骤：从多个最大高度中检索与在应处理的基板的表面形成的图案的宽度对应的最大高度，多个最大高度分别是在图案的某个特定的宽度下不会发生图案倒塌的图案的高度的最大值；然后，判定图案的高度是否大于最大高度；在图案的高度大于最大高度的情况下，向基板供给疏水化剂，以便在图案的侧面中的除了从图案的根部至最大高度为止的根部侧区域以外的区域即顶端侧区域整体形成疏水化区域，在图案的侧面中的根部侧区域的至少一部分残留非疏水化区域；然后，使基板干燥。CN105470109ACN105470109A权利要求书1/2页1.一种基板处理方法，其特征在于，包括：最大高度检索工序，从多个最大高度中检索与在应处理的基板的表面上形成的图案的宽度对应的最大高度，所述多个最大高度分别是在图案的某个特定的宽度下不会发生图案倒塌的图案的高度的最大值；高度比较工序，判定在所述基板的表面上形成的所述图案的高度是否大于在所述最大高度检索工序中检索到的所述最大高度；疏水化工序，在所述图案的高度大于所述最大高度的情况下，向所述基板供给疏水化剂，以便在所述图案的侧面中的除了根部侧区域以外的区域即顶端侧区域整体形成疏水化区域，在所述图案的侧面中的所述根部侧区域的至少一部分残留非疏水化区域，所述图案的侧面中的所述根部侧区域是从所述图案的根部至所述最大高度为止的区域；干燥前冲洗工序，在所述疏水化工序后，将表面张力比水的表面张力小的溶剂向所述基板供给，来将所述基板所保持的所述疏水化剂置换为所述溶剂；干燥工序，在所述干燥前冲洗工序后，除去所述基板所保持的所述溶剂来使所述基板干燥。2.如权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，该基板处理方法还包括加热工序，该加热工序与所述干燥前冲洗工序并行，对所述基板所保持的所述溶剂进行加热。3.如权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，所述疏水化工序包括：在所述图案的高度大于所述最大高度的情况下，使向所述基板供给的所述疏水化剂的供给流量以及供给时间中的至少一方比在所述图案的整个侧面形成所述疏水化区域时的所述疏水化剂的供给流量以及供给时间减少的工序。4.如权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，所述疏水化工序包括：在所述图案为层叠膜且所述图案的高度大于所述最大高度的情况下，将用于使构成所述图案的侧面中的所述顶端侧区域的至少一个膜疏水化的疏水化剂向所述基板供给的工序。5.如权利要求1～4中任一项所述的基板处理方法，其特征在于，该基板处理方法包括：在从所述疏水化工序结束起到所述干燥工序结束位置的期间，维持水不与所述基板接触的状态的非接触工序。6.一种基板处理方法，其特征在于，包括：确定图案高度定的工序，该图案高度是在应处理的基板的表面上形成的图案的宽度下不会发生图案倒塌的高度；疏水化工序，向所述基板供给疏水化剂，以便在所述图案的侧面中的除了根部侧区域以外的区域即顶端侧区域整体形成疏水化区域，在所述图案的侧面中的所述根部侧区域的至少一部分残留非疏水化区域，所述图案的侧面中的所述根部侧区域是从所述图案的根部至所述最大高度为止的区域；干燥前冲洗工序，在所述疏水化工序后，将表面张力比水的表面张力小的溶剂向所述基板供给，来将所述基板所保持的所述疏水化剂置换为所述溶剂；干燥工序，在所述干燥前冲洗工序后，除去所述基板所保持的所述溶剂来使所述基板干燥。2CN105470109A权利要求书2/2页7.如权利要求6所述的基板处理方法，其特征在于，所述图案是包括上层膜、中间膜以及下层膜的层叠图案，在确定所述图案高度的工序中，将所述中间膜的高度确定为所述图案高度，在所述疏水化工序中，向所述基板供给所述疏水化剂，以便在所述上层膜以及中间膜的侧面上形成疏水化区域，并且在所述下层膜的侧面的至少一部分残留非疏水化区域。8.一种基板处理装置，其特征在于，具有：基板保持单元，保持基板，疏水化剂供给单元，向所述基板保持单元所