回收衬底和载体衬底的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106463451A(43)申请公布日2017.02.22(21)申请号201580028692.3(74)专利代理机构广州嘉权专利商标事务所有限公司(22)申请日2015.02.1644205代理人江侧燕(30)优先权数据61/972,5752014.03.31US(51)Int.Cl.H01L21/683(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日H01L33/00(2010.01)2016.11.29H01L33/08(2010.01)(86)PCT国际申请的申请数据PCT/SG2015/0000482015.02.16(87)PCT国际申请的公布数据WO2015/152817EN2015.10.08(71)申请人南洋理工大学地址新加坡新加坡市(72)发明人希勒米·沃尔坎·德米尔陈瑞添权利要求书3页说明书12页附图10页(54)发明名称回收衬底和载体衬底的方法(57)摘要在各实施例中，提供了回收载体衬底的方法。该方法包括：提供所述载体衬底；通过在载体衬底上沉积合适的材料形成缓冲层，在缓冲层上形成一层或多层组件层；从载体衬底上分离一层或多层组件层，以便分离后缓冲层的至少一部分保留在载体衬底上；以及在分离后，通过在缓冲层的部分上沉积合适的材料形成另一缓冲层，以回收载体衬底。还提供了回收衬底的方法，该方法包括：在衬底上形成绝缘层；除去绝缘层的第一部分，以暴露衬底的第一部分；在衬底的第一部分形成一层或多层组件层；以及从衬底上分离一层或多层组件层，用于回收衬底。CN106463451ACN106463451A权利要求书1/3页1.回收载体衬底的方法，该方法包括：提供所述载体衬底；通过在载体衬底上沉积合适的材料形成缓冲层，从而形成包括载体衬底和缓冲层的复合衬底；在缓冲层上形成一层或多层组件层；在分离工艺中从载体衬底分离一层或多层组件层，以使一层或多层组件层从载体衬底分离时缓冲层的至少一部分保留在载体衬底上；以及在分离工艺后，通过沉积合适的材料，从所述缓冲层部分形成另一缓冲层，以回收载体衬底。2.根据权利要求1所述的方法，其中在分离工艺中从复合衬底上除去所述缓冲层的至少另一部分。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述另一缓冲层的厚度基本上等于所述缓冲层的厚度。4.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述另一缓冲层的厚度与所述缓冲层的厚度不同。5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其中所述合适的材料包括氮化铝。6.根据权利要求1-5中任一项所述的方法，进一步包括：在缓冲层上形成辐射吸收层；及在辐射吸收层上形成一层或多层组件层。7.根据权利要求6所述的方法，其中所述一层或多层组件层包括：在所述辐射吸收层上的第一导电类型层；在所述第一导电类型层上的活性层；以及在所述活性层上的第二导电类型层。8.根据权利要求1-5所述的方法，其中所述一层或多层组件层包括辐射吸收层；且其中所述辐射吸收层在缓冲层上。9.根据权利要求8所述的方法，其中所述辐射吸收层是第一导电类型；且其中所述一层或多层组件层进一步包括：在所述辐射吸收层上的活性层；以及在所述活性层上的第二导电类型层。10.根据权利要求6-9中任一项所述的方法，其中从复合衬底分离一层或多层组件层包括用电磁波照射所述辐射吸收层。11.根据权利要求10所述的方法，其中所述载体衬底和缓冲层能够透过电磁波。12.根据权利要求10或11所述的方法，其中所述电磁波穿过载体衬底和缓冲层以照射辐射吸收层。13.根据权利要求10-12中任一项所述的方法，进一步包括：其中用电磁波照射辐射吸收层分解辐射吸收层。14.根据权利要求1-13中任一项所述的方法，进一步包括：在分离工艺前形成一个或多个隔离沟槽，所述一个或多个隔离沟槽延伸通过所述一层或多层组件层。15.根据权利要求14所述的方法，其中所述一个或多个隔离沟槽在缓冲层终止。2CN106463451A权利要求书2/3页16.根据权利要求14或15所述的方法，进一步包括：在所述一个或多个隔离沟槽中沉积绝缘材料，以形成钝化结构。17.根据权利要求1-16中任一项所述的方法，进一步包括：在分离工艺前，在所述一层或多层组件层上形成一个或多个电极结构。18.根据权利要求17所述的方法，进一步包括：在分离工艺前，在所述一个或多个电极结构上形成支撑层。19.根据权利要求18所述的方法，其中包括所述一层或多层组件层、所述一个或多个电极结构和所述支撑层的中间结构在分离工艺中从复合结构上分离。20.根据权利要求17-19中任一项所述的方法，分离工艺后，在中间结构上形成一个或多个另一电极结构。21.根据权利要求1-20中任一项所述的方法，进一步包括：其中所述一层或多层组件层是发光二极管的一部分。22.