液晶面板及其光阻图案形成方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106597732A(43)申请公布日2017.04.26(21)申请号201710064867.7(22)申请日2017.02.05(71)申请人武汉华星光电技术有限公司地址430070湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋(72)发明人龚成波(74)专利代理机构深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280代理人钟子敏(51)Int.Cl.G02F1/1335(2006.01)G03F7/00(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图4页(54)发明名称液晶面板及其光阻图案形成方法(57)摘要本发明提供了一种液晶面板及其光阻图案形成方法，该方法包括：在基板上涂布光阻材料层；在所述光阻材料层上设置带有图案的遮挡层；对所述遮挡层进行光照，以在所述光阻材料层上形成光阻图案；其中，所述遮挡层上的局部位置图案的线宽大于其他位置图案的线宽。相对于现有技术，本发明提供的液晶面板及其光阻图案形成方法，通过通过将面板上光阻材料层不同位置对应的遮挡层图案线宽设置为不同，具体为遮挡层的中部位置图案的线宽大于四周位置图案的线宽，以克服现有技术中由于整个基板上光阻材料层不同位置的溶剂残留量不同，还利用相同线宽的遮挡层进行光照而产生的最终形成光阻图案线宽存在差异的技术问题。CN106597732ACN106597732A权利要求书1/1页1.一种用于液晶面板上的光阻图案形成方法，其特征在于，所述方法包括：在基板上涂布光阻材料层；在所述光阻材料层上设置带有图案的遮挡层；对所述遮挡层进行光照，以在所述光阻材料层上形成光阻图案；其中，所述遮挡层上的局部位置图案的线宽大于其他位置图案的线宽。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述遮挡层的中部位置图案的线宽大于四周位置图案的线宽。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板上设有接触孔。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，基板上接触孔的直径为4um。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述遮挡层的中部位置图案的线宽比四周位置图案的线宽大0.2-1um。6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述遮挡层的中部位置图案的线宽比四周位置图案的线宽大0.3-0.6um。7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述遮挡层的中部位置图案的线宽比四周位置图案的线宽大0.5um。8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在光阻材料层上设置带有图案的遮挡层的步骤之前还包括利用减压干燥法去除所述光阻材料层中的溶剂。9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述利用减压干燥法去除所述光阻材料层中的溶剂的步骤具体为：在涂布有光阻材料层上的基板环周设置抽气干燥泵。10.一种液晶面板，其特征在于，所述液晶面板上的光阻图案通过权利要求1-9任一项所述的方法形成。2CN106597732A说明书1/4页液晶面板及其光阻图案形成方法技术领域[0001]本发明涉及液晶面板制作工艺的技术领域，具体是涉及一种液晶面板及其光阻图案形成方法。背景技术[0002]液晶面板的光阻层形成过程中，一般是利用光照透过遮挡层照射光阻材料层，以将遮挡层上的图案形成于光阻材料层上。[0003]然而现有技术中，在制作同一块基板上的光阻图案时，遮挡层的图案线宽一般都是均匀相同的，但是很多时候光阻材料层在去除溶剂的过程中，由于整个基板上光阻材料层不同位置的溶剂去除情况不尽相同，光阻材料层中残留溶剂的含量不一致，这种情况下，如果还是利用线宽均匀相同的遮挡层进行遮挡照射时，就会导致在显影液中的溶解速度不一样，进而会导致最终形成的光阻图案的线宽有差异。固定位置的光阻图案的线宽差异很难通过设备和工艺改善，因为设备和工艺方式都是基板整面性的，无法对局部进行区别对待。发明内容[0004]本发明实施例提供一种液晶面板及其光阻图案形成方法，以解决现有技术中基板不同位置形成的光阻图案线宽存在差异的技术问题。[0005]为解决上述问题，本发明实施例一方面提供了一种用于液晶面板上的光阻图案形成方法，所述方法包括：[0006]在基板上涂布光阻材料层；[0007]在所述光阻材料层上设置带有图案的遮挡层；[0008]对所述遮挡层进行光照，以在所述光阻材料层上形成光阻图案；[0009]其中，所述遮挡层上的局部位置图案的线宽大于其他位置图案的线宽。[0010]根据本发明一优选实施例，所述遮挡层的中部位置图案的线宽大于四周位置图案的线宽。[0011]根据本发明一优选实施例，所述基板上设有接触孔。[0012]根据本发明一优选实施例，基板上接触孔的直径为4um。[0013]根据本发明一优选实施例，所述遮挡层的中部位置图案的线宽比四周位置图案的线宽大0.2-1um。[0014]根据本