OLED显示基板及其制作方法、显示装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107302061A(43)申请公布日2017.10.27(21)申请号201710631205.3(22)申请日2017.07.28(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号(72)发明人刘文渠张锋吕志军党宁董立文张世政(74)专利代理机构北京银龙知识产权代理有限公司11243代理人许静张博(51)Int.Cl.H01L51/52(2006.01)H01L27/32(2006.01)H01L21/77(2017.01)权利要求书2页说明书8页附图3页(54)发明名称OLED显示基板及其制作方法、显示装置(57)摘要本发明提供了一种OLED显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，OLED显示基板的制作方法，包括在形成有阳极的基板上形成隔离柱的步骤和形成像素界定层的图形的步骤，所述形成隔离柱的步骤不迟于所述形成像素界定层的图形的步骤。可以在所述形成像素界定层的图形的步骤之前，形成所述隔离柱；或者通过一次构图工艺形成所述隔离柱和所述像素界定层的图形。本发明的技术方案能够避免有机感光材料残留在阳极上，提高OLED显示基板的良率。CN107302061ACN107302061A权利要求书1/2页1.一种OLED显示基板的制作方法，包括在形成有阳极的基板上形成隔离柱的步骤和形成像素界定层的图形的步骤，其特征在于，所述形成隔离柱的步骤不迟于所述形成像素界定层的图形的步骤。2.根据权利要求1所述的OLED显示基板的制作方法，其特征在于，在所述形成像素界定层的图形的步骤之前，形成所述隔离柱。3.根据权利要求2所述的OLED显示基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法具体包括：在形成有阳极的基板上涂覆一层有机感光材料；对所述有机感光材料进行曝光显影后形成所述隔离柱；在形成有所述隔离柱的基板上涂覆一层绝缘材料，对所述绝缘材料进行构图形成所述像素界定层的图形。4.根据权利要求1所述的OLED显示基板的制作方法，其特征在于，通过一次构图工艺形成所述隔离柱和所述像素界定层的图形。5.根据权利要求4所述的OLED显示基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法具体包括：在形成有阳极的基板上涂覆一层绝缘层；在所述绝缘层上涂覆一层光刻胶，曝光显影后形成光刻胶完全保留区域、光刻胶部分保留区域和光刻胶完全去除区域；刻蚀掉光刻胶完全去除区域的绝缘层；去除光刻胶部分保留区域的光刻胶，刻蚀掉光刻胶部分保留区域的部分厚度的绝缘层；去除光刻胶完全保留区域的光刻胶，形成绝缘层的图形，所述绝缘层的图形包括第一部分和凸设于所述第一部分上的第二部分，所述第一部分形成为所述像素界定层的图形，所述第二部分形成为所述隔离柱。6.根据权利要求1-5中任一项所述的OLED显示基板的制作方法，其特征在于，形成所述像素界定层的图形的步骤之后，所述制作方法还包括：在形成有像素界定层的图形的基板上依次制备有机发光层和阴极。7.一种OLED显示基板，其特征在于，采用如权利要求1-6中任一项所述的制作方法制作得到。8.根据权利要求7所述的OLED显示基板，其特征在于，所述OLED显示基板具体包括：衬底基板；位于所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列层；位于形成有所述薄膜晶体管阵列层的基板上的阳极；位于形成有所述阳极的基板上的隔离柱；位于形成有所述隔离柱的基板上、覆盖所述隔离柱的像素界定层的图形；位于形成有所述像素界定层的图形的基板上的有机发光层和阴极。9.根据权利要求7所述的OLED显示基板，其特征在于，所述OLED显示基板具体包括：衬底基板；位于所述衬底基板上的薄膜晶体管阵列层；2CN107302061A权利要求书2/2页位于形成有所述薄膜晶体管阵列层的基板上的阳极；位于形成有所述阳极的基板上的绝缘层的图形，所述绝缘层的图形包括第一部分和凸设于所述第一部分上的第二部分，所述第一部分形成为所述像素界定层的图形，所述第二部分形成为所述隔离柱；位于形成有所述绝缘层的图形的基板上的有机发光层和阴极。10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求7-9中任一项所述的OLED显示基板。3CN107302061A说明书1/8页OLED显示基板及其制作方法、显示装置技术领域[0001]本发明涉及显示技术领域，特别是指一种OLED显示基板及其制作方法、显示装置。背景技术[0002]随着科学技术的不断进步，视觉资讯在人们的生活中的地位越来越重要，因而承载视觉资讯信息的平板显示器件也在人们生活中占据了越来越重要的地位。OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管)显示器作为新一代显示器，具有低能耗、对比度高等诸多优点，因而获得了越来越多厂商的关注。[0003]现有OL