薄膜组件用粘着剂、薄膜组件和选择薄膜组件用粘着剂的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107608175A(43)申请公布日2018.01.19(21)申请号201710555994.7(22)申请日2017.07.10(30)优先权数据2016-1370762016.07.11JP(71)申请人信越化学工业株式会社地址日本东京都(72)发明人簗濑优堀越淳(74)专利代理机构北京市隆安律师事务所11323代理人权鲜枝(51)Int.Cl.G03F1/62(2012.01)G03F1/64(2012.01)权利要求书1页说明书7页附图1页(54)发明名称薄膜组件用粘着剂、薄膜组件和选择薄膜组件用粘着剂的方法(57)摘要提供：一种粘着剂，其基本上不包含表面改性剂，并且在薄膜组件分离后留下较少的残留物；一种薄膜组件；以及一种选择留下较少残留物的粘着剂的方法。更具体地说，提供：一种薄膜组件用粘着剂，该粘着剂的剥离强度与拉伸强度之比为0.10～0.33；一种薄膜组件，其包括薄膜组件框架、设置在所述薄膜组件框架的上端面上方的薄膜组件膜和粘附到所述薄膜组件框架的下端面的所述粘着剂；以及一种选择粘着剂的方法，包括以下步骤：测量粘着剂的剥离强度和拉伸强度，以及选择前者与后者之比为0.10至0.33的粘着剂作为所述薄膜组件用粘着剂。CN107608175ACN107608175A权利要求书1/1页1.粘着剂在制备薄膜组件中的用途，所述粘着剂的剥离强度与拉伸强度之比为0.10至0.33。2.根据权利要求1所述的粘着剂在制备薄膜组件中的用途，其中所述粘着剂具有660％以下的行程，其中所述行程是在测量所述拉伸强度中断裂时的伸长率。3.根据权利要求1或2所述的粘着剂在制备薄膜组件中的用途，其中，所述剥离强度为1.20N/cm2以上。4.根据权利要求1至3中任一项所述的粘着剂在制备薄膜组件中的用途，其中所述粘着剂是丙烯酸粘着剂。5.根据权利要求1至3中任一项所述的粘着剂在制备薄膜组件中的用途，其中所述粘着剂是由组合物固化的粘着剂，该组合物包含：丙烯酸烷基酯或甲基丙烯酸烷基酯共聚物，其包含90-99重量％的丙烯酸烷基酯或甲基丙烯酸烷基酯单体单元和1-10重量％的与环氧基或异氰酸酯基具有反应性的单体单元，以及固化剂，其为环氧化合物或异氰酸酯化合物，其中所述组合物基本上不含表面改性剂。6.一种薄膜组件，其包括：薄膜组件框架；设置在所述薄膜组件框架的上端面上方的薄膜组件膜；以及粘附到所述薄膜组件框架的下端面的权利要求1-5任一项中所述的粘着剂。7.一种选择薄膜组件用粘着剂的方法，其包括以下步骤：测量粘着剂的拉伸强度和剥离强度，以及选择剥离强度与拉伸强度之比为0.10～0.33的粘着剂作为薄膜组件用粘着剂。2CN107608175A说明书1/7页薄膜组件用粘着剂、薄膜组件和选择薄膜组件用粘着剂的方法技术领域[0001]本发明涉及在生产半导体装置、印刷板、液晶显示器和类似装置时用作防尘罩的光刻用薄膜组件(pellicle)。背景技术[0002]在诸如LSI和超级LSI的半导体、液晶显示器或类似装置的生产中，用光照射半导体晶片或液晶的主板以形成图案。当使用附着有灰尘的光掩模或光罩(以下简称为“光掩模”)进行图案化时，所得到的图案具有粗糙的边缘，或者基底具有黑色污渍，例如导致尺寸受损、质量较差或外观差。[0003]为了解决这些问题，通常在洁净室中进行这种工艺，但是仍然难以恒定地保持光掩模清洁。因此，在曝光之前，将作为防尘罩的薄膜组件附着到光掩模的表面。在这种情况下，异物不直接附着到光掩模的表面，而是附着在该薄膜组件上。当光刻的焦点设置在光掩模上的图案时，该薄膜组件上的异物不会干扰转印。[0004]在薄膜组件的典型生产中，将薄膜组件膜的良溶剂施加在由铝、不锈钢、聚乙烯等制成的薄膜组件框架的上端面上；然后将充分透光的硝酸纤维素、乙酸纤维素、氟碳树脂等的透明薄膜组件膜置于其上；并将该溶剂风干以粘合该薄膜组件膜(JP58-219023A)。或者，使用诸如丙烯酸树脂粘着剂和环氧树脂粘着剂的粘着剂将薄膜组件膜附着到该薄膜组件框架(JP60-083032A)。该薄膜组件还包括：粘着剂层，其在该薄膜组件框架的下端面处，包含聚丁烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、丙烯酸树脂、硅树脂等，用于将该薄膜组件粘合到光掩模；和脱模层(分离层)，用于保护该粘着剂层。[0005]与光掩模直接接触的该粘着剂需要具有如下的粘着性，即在曝光期间不使薄膜组件与光掩模分离，并且在薄膜组件分离之后减少残留物。基本上，薄膜组件可以被半永久地使用。当在薄膜组件附着后观察到光掩模异常或薄膜组件异常时，分离该薄膜组件，然后对光掩模进行洗涤或再处理，并且再次附着薄膜组件。为了在这种情况下促进光掩模的再生，需要在薄膜组件分离后留下较少残留物的粘