背光模组及其制作方法、显示装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110161620A(43)申请公布日2019.08.23(21)申请号201910614835.9(22)申请日2019.07.09(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号(72)发明人谭伟董水浪谭纪风孟宪东(74)专利代理机构北京银龙知识产权代理有限公司11243代理人黄灿张博(51)Int.Cl.G02B6/00(2006.01)G03F7/00(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图3页(54)发明名称背光模组及其制作方法、显示装置(57)摘要本发明提供了一种背光模组及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，背光模组的制作方法包括：在导光板的出光面形成取光光栅材料层；通过纳米压印工艺在所述取光光栅材料层上形成压印胶图形；在待形成取光光栅的区域形成覆盖所述压印胶图形的光刻胶图形；去除未被所述光刻胶图形覆盖的压印胶图形；去除所述光刻胶图形，以残留的压印胶图形为掩膜对所述取光光栅材料层进行刻蚀，形成取光光栅。本发明的技术方案能够改善显示装置的对比度。CN110161620ACN110161620A权利要求书1/1页1.一种背光模组的制作方法，其特征在于，包括：在导光板的出光面形成取光光栅材料层；通过纳米压印工艺在所述取光光栅材料层上形成压印胶图形；在待形成取光光栅的区域形成覆盖所述压印胶图形的光刻胶图形；去除未被所述光刻胶图形覆盖的压印胶图形；去除所述光刻胶图形，以残留的压印胶图形为掩膜对所述取光光栅材料层进行刻蚀，形成取光光栅。2.根据权利要求1所述的背光模组的制作方法，其特征在于，所述去除未被所述光刻胶图形覆盖的压印胶图形包括：利用能够溶解所述压印胶图形的溶液清洗掉未被所述光刻胶图形覆盖的压印胶图形或降解去除未被所述光刻胶图形覆盖的压印胶图形。3.根据权利要求2所述的背光模组的制作方法，其特征在于，所述压印胶图形采用乙酸-1-甲氧基-2-丙基酯和丙烯酸酯单体的混合物。4.根据权利要求3所述的背光模组的制作方法，其特征在于，所述压印胶图形中，乙酸-1-甲氧基-2-丙基酯的重量百分比为70％-80％，丙烯酸酯单体的重量百分比为15％-25％。5.根据权利要求3所述的背光模组的制作方法，其特征在于，所述溶液采用N-甲基吡咯烷酮溶液。6.根据权利要求1所述的背光模组的制作方法，其特征在于，所述取光光栅材料层采用折射率大于1.8的透明无机材料。7.根据权利要求1所述的背光模组的制作方法，其特征在于，形成取光光栅之后，所述制作方法还包括：形成覆盖所述取光光栅的平坦层。8.根据权利要求7所述的背光模组的制作方法，其特征在于，所述平坦层采用折射率低于1.3的透明材料。9.一种背光模组，其特征在于，采用如权利要求1-8中任一项所述的制作方法制作得到。10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的背光模组。2CN110161620A说明书1/5页背光模组及其制作方法、显示装置技术领域[0001]本发明涉及显示技术领域，特别是指一种背光模组及其制作方法、显示装置。背景技术[0002]相关技术的背光模组包括导光板和位于导光板出光侧的取光光栅，取光光栅能够将在导光板中全反射传播的大角度光线以准直角度取出，实现了高透过率的准直光源。但在导光板的出光侧制作取光光栅时，会对导光板的出光面造成损伤，增加导光板的出光面的粗糙度，使得光波导界面出现漏光现象，从而导致显示对比度降低。发明内容[0003]本发明要解决的技术问题是提供一种背光模组及其制作方法、显示装置，能够改善显示装置的对比度。[0004]为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：[0005]一方面，提供一种背光模组的制作方法，包括：[0006]在导光板的出光面形成取光光栅材料层；[0007]通过纳米压印工艺在所述取光光栅材料层上形成压印胶图形；[0008]在待形成取光光栅的区域形成覆盖所述压印胶图形的光刻胶图形；[0009]去除未被所述光刻胶图形覆盖的压印胶图形；[0010]去除所述光刻胶图形，以残留的压印胶图形为掩膜对所述取光光栅材料层进行刻蚀，形成取光光栅。[0011]可选地，所述去除未被所述光刻胶图形覆盖的压印胶图形包括：[0012]利用能够溶解所述压印胶图形的溶液清洗掉未被所述光刻胶图形覆盖的压印胶图形或降解去除未被所述光刻胶图形覆盖的压印胶图形。[0013]可选地，所述压印胶图形采用乙酸-1-甲氧基-2-丙基酯和丙烯酸酯单体的混合物。[0014]可选地，所述压印胶图形中，乙酸-1-甲氧基-2-丙基酯的重量百分比为70％-80％，丙烯酸酯单体的重量百分比为15％-25％。[0015]可选地，所述溶液采用N-甲基吡咯烷酮溶液。[0016]可选