一种蓝宝石晶片用的清洗剂.pdf
雨巷****彦峰
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一种蓝宝石晶片用的清洗剂.pdf
本发明公开了一种蓝宝石晶片用的清洗剂,包括以下按重量份数计的组分:改性淀粉10‑18份、碳酸钾3‑5份、表面活性剂9‑12份、柠檬酸钠15‑20份、偏酒石酸10‑15份、醋酸甲酯25‑35份、聚乙二醇1‑3份、稳定剂0.3‑0.8份、硼砂30‑50份、磷酸二丁酯5‑10份、去离子水30‑40份;所述改性淀粉由淀粉、甲基羟丙基纤维素与纳米石墨烯按照摩尔比为25‑38:1:4‑8。该清洗剂组分简单,成本低廉,即能清洗加工过程中各种液体的残留,且能有效降低蓝宝石表面反光。
一种蓝宝石晶片清洗剂及其制备方法.pdf
本发明属于宝石晶片加工技术领域,具体涉及一种蓝宝石晶片清洗剂及其制备方法。所述蓝宝石晶片清洗剂包括以下质量份组分:二氧化硅35‑48份、乙醚38‑44份、壳聚糖8‑15份、聚乙二醇7‑11份、二硼化钛8‑14份、甘油11‑15份、炭黑6‑7份、椰子油6‑9份、茶树油1‑3.5份、表面活性剂4‑7份、去离子水150‑180份。本发明制备得到的清洁剂可祛除蓝宝石基片表面颗粒、金属离子和有机物残留等研磨、抛光过程中留下来的残留物,清洗后无任何可见杂物残留,且本发明的制备方法简单有效,对环境友好,适合工业化生产。
一种蓝宝石晶片退火工艺.pdf
本发明属于晶片加工制作技术领域,提供了一种蓝宝石晶片退火工艺,多级退火处理如下:第一步,退火炉升温,由室温升温至1000℃,梯度2.5‑3℃/min,并恒温30‑60min;第二步,升温至1450℃,梯度2.5‑3℃/min,恒温8‑12h;第三步,缓慢降温至1200℃,降温梯度1.5‑2℃/min,并恒温2‑3h;第四步,继续降温至600℃,降温梯度1.5‑2℃/min,并继续恒温2‑3h;退火炉停止工作,将晶片自然降温至室温。通过本发明可以将切割、研磨的warp进行分类退火,达到应力释放,并使得蓝宝石
一种蓝宝石晶片加工载具.pdf
本发明公开了一种蓝宝石晶片加工载具,包括底座、支撑柱、载物盘、扇叶、电机、电机盒、支撑板、横板、支撑杆、横杆、振动马达、连接杆、轴杆、进料口、转接口、壳体、导管、固定杆和固定架。本发明结构简单,设置设置有进料口、导管、振动马达以及载物盘,通过驱动振动马达从而带动进料口以及导管振动,能够完成对待加工蓝宝石晶片的进料,载物盘上开设有限位槽可以放置待加工的蓝宝石晶片;通过设置电机、电机盒以及扇叶,驱动电机带动扇叶转动,从而实现对蓝宝石晶片加工时产生的粉尘进行清理,整个装置结构紧凑,增加了实用性。
一种蓝宝石晶片的退火方法.pdf
本发明涉及蓝宝石衬底的退火工序,属于晶体材料的加工技术领域。本发明提供了一种用于高质量蓝宝石衬底的退火方法,在于切割、研磨或抛光后的蓝宝石晶片分阶段升温并且保温一段时间至900℃~1600℃,对蓝宝石晶片进行退火处理,以消除切割、研磨或抛光的加工应力,并在保温阶段旋转晶片,使整个晶片退火均匀,消除退火炉温度场不均的影响。采用该方法退火的晶片加工应力基本消除,整个晶片退火均匀,退火后的晶片翘曲度小。