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一种蓝宝石晶片清洗剂及其制备方法.pdf
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一种蓝宝石晶片清洗剂及其制备方法.pdf
本发明属于宝石晶片加工技术领域，具体涉及一种蓝宝石晶片清洗剂及其制备方法。所述蓝宝石晶片清洗剂包括以下质量份组分：二氧化硅35‑48份、乙醚38‑44份、壳聚糖8‑15份、聚乙二醇7‑11份、二硼化钛8‑14份、甘油11‑15份、炭黑6‑7份、椰子油6‑9份、茶树油1‑3.5份、表面活性剂4‑7份、去离子水150‑180份。本发明制备得到的清洁剂可祛除蓝宝石基片表面颗粒、金属离子和有机物残留等研磨、抛光过程中留下来的残留物，清洗后无任何可见杂物残留，且本发明的制备方法简单有效，对环境友好，适合工业化生产。
2023-11-14
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一种硅晶片清洗剂及其制备方法.pdf
本发明提供一种硅晶片清洗剂,涉及硅晶片领域,所述硅晶片清洗剂包括重量份数的如下组分:20?30份的基底材料,10?15份的低HLB值脂肪醇聚氧乙烯醚,6?10份的高HLB值脂肪醇聚氧乙烯醚,2?5份的杀菌剂,2?5份的二乙二醇、1?3份的消泡剂、5?8份的硅酸盐类抗氧化剂和30?40份的纯水;此外,还提供了硅晶片清洗剂的制备方法,包括:加入低HLB值脂肪醇聚氧乙烯醚和高HLB值脂肪醇聚氧乙烯醚,搅拌至均匀,得到基底溶液;向基底溶液中边搅拌边加入纯水;向反应容器中加入剩余材料,搅拌均匀,得到最终成品;通过上
2023-05-16
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一种蓝宝石清洗剂及其制备方法.pdf
本发明属于宝石加工技术领域，具体涉及一种蓝宝石清洗剂及其制备方法。蓝宝石清洗剂包括以下质量份组分：碳酸钠20‑26份、无水偏硅酸钠19‑24份、EDTA四钠11‑14份、2‑甲基戊烷10‑18份、环己烷9‑14份、庚烷7‑11份、壳聚糖12‑17份、纳米碳化钛8‑11份、无机碱7‑9份、分散剂3‑6份、去离子水28‑34份。本发明制备的清洗剂浓缩度高、性能好、便于运输，可同时去除蓝宝石基片表面颗粒、金属离子和有机物残留，实现集中清洗，清洗后无任何可见杂物残留，且本发明的制备方法简单有效，适合工业化生产。
2023-11-14
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一种蓝宝石去蜡清洗剂及其制备方法.pdf
本发明提供了一种蓝宝石去蜡清洗剂，按质量百分比由以下原料组成：无机碱2～10wt％，有机碱3～6wt％，络合剂2～6wt％，缓蚀剂3～5wt％，非离子表面活性剂8～10wt％，渗透剂3～5wt％，分散剂2～4wt％，消泡剂0.2～0.8wt％，余量为水。本发明的蓝宝石去蜡清洗剂能够快速彻底去蜡，蓝宝石表面污垢残留少，使用周期长，环保无污染，且使用方法简单，可代替进口去蜡清洗剂，大大地节约了成本。
2023-11-17
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一种蓝宝石晶圆清洗剂及其制备方法.pdf
本发明提供了一种蓝宝石晶圆清洗剂及其制备方法，该清洗剂由无机碱、有机碱、螯合剂、有机助剂、阴离子表面活性及高纯水组成。本发明通过特定的阴离子表面活性剂与无机强碱混配，能有效解决现有技术中蓝宝石晶圆制程工艺中线切清洗、研磨后清洗、退火前清洗以及上蜡前清洗洗剂的四合一，有利于提高蓝宝石晶圆的清洗效果，有效减少蓝宝石上污染物的残留数量，在优化客户工艺制程的同时大大降低了客户成本且环保。
2023-11-06
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