一种网状金银复合纳米薄膜的制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111302653A(43)申请公布日2020.06.19(21)申请号202010207743.1B82Y40/00(2011.01)(22)申请日2020.03.23B82Y30/00(2011.01)(71)申请人天水师范学院地址741000甘肃省天水市秦州区藉河南路(72)发明人龙世佳司长代王晓峰赵天宇(74)专利代理机构西安合创非凡知识产权代理事务所(普通合伙)61248代理人于波(51)Int.Cl.C03C17/40(2006.01)C23C14/04(2006.01)C23C14/18(2006.01)C23C14/24(2006.01)C23C14/35(2006.01)权利要求书2页说明书4页附图1页(54)发明名称一种网状金银复合纳米薄膜的制备方法(57)摘要本发明公开了一种网状金银复合纳米薄膜的制备方法，通过透明基底层结构的优化，利用物理气相沉积制备具有网状纳米结构的金或银材料；在此基础上旋涂一层光刻胶，并将透明基底一面进行曝光、烘焙、显影，去除具有网状纳米结构的金或银材料孔洞中的光刻胶涂层，保留下附着于其正上方的光刻胶涂层，并以此为基础进行二次物理气相沉积过程，制备一层第二种金或银纳米材料；完成后进行剥离，去除附着于具有网状纳米结构的金或银材料正上方的光刻胶涂层以及第二种金或银纳米材料，留下填充在孔洞中的第二种金或银纳米材料，即得网状金银复合纳米薄膜。本发明可以通过调节金、银体积比以及镂空图案的尺寸、位置的不同来调节薄膜的表面等离激元光谱。CN111302653ACN111302653A权利要求书1/2页1.一种网状金银复合纳米薄膜的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：S1、制作透明基底层该透明基底层包括带目标镂空图案的上玻璃层以及分别与上玻璃层卡合的下玻璃层A和下玻璃层B；下玻璃层A和下玻璃层B上表面均设有所述目标镂空图案相配合的凸起，卡合后，下玻璃层A的凸起的水平面略高于上玻璃层，下玻璃层B的凸起的水平面与上玻璃层齐平；S2、将上玻璃层与下玻璃层A对接并固定后，在凸起上表面以及凸出部分的四周侧面分别旋涂一层光刻胶，并置于100℃的烘干炉内烘干，在凸起上表面以及凸出部分的四周侧面留下光刻胶涂层；S3、在凸起上表面的光刻胶涂层表面，利用真空热蒸镀或磁控溅射制备一层厚度为1nm-20nm的金或银纳米薄膜；S4、在步骤S3的基础上，去除步骤S2中的光刻胶涂层，完成上玻璃层与下玻璃层A的分离操作，并去除步骤S2中附着于光刻胶涂层正上方的金或银纳米材，得具有网状纳米结构的金或银材料；S5、将附着有网状纳米结构的金或银材料的上玻璃层与下玻璃层B对接并固定后，在具有网状纳米结构的金或银材料的表面旋涂一层光刻胶，对光刻胶进行软烘后，将透明基底一面朝向曝光光源，进行曝光；曝光后100℃后烘，烘完后进行显影，去除具有网状纳米结构的金或银材料孔洞中的光刻胶涂层，并在正上方保留下与具有网状纳米结构的金或银材料相同图案的光刻胶涂层；S6、在步骤S5制备的材料基础上，在光刻胶涂层表面，利用热蒸镀或磁控溅射技术再次制备一层第二种金或银纳米材料；第二种金或银纳米材料选用的材料不同于具有网状纳米结构的金或银材料，第二种金或银纳米材料的厚度为5nm-15nm，且小于具有网状纳米结构的金或银材料的厚度；S7、去除多余的光刻胶和第二种金或银纳米材料；在步骤S6基础上，对整体材料进行剥离处理，去除步骤S6中的光刻胶涂层以及步骤S6中附着于光刻胶涂层正上方的第二种金或银纳米材料，保留下填充在步骤二中具有网状纳米结构的金或银材料孔洞中的第二种金或银纳米材料，即得网状金银复合纳米薄膜。2.如权利要求1所述的一种网状金银复合纳米薄膜的制备方法，其特征在于：所述步骤S2和步骤S5中，光刻胶的厚度控制在100nm-200nm。3.如权利要求1所述的一种网状金银复合纳米薄膜的制备方法，其特征在于：凸起四周外壁与目标镂空图案的内壁之间的间隙小于100nm-200nm。4.如权利要求1所述的一种网状金银复合纳米薄膜的制备方法，其特征在于：上玻璃层的下底面上设有若干凸起，从而使得上玻璃层与下玻璃层A对接固定后，两玻璃层之间设有间隙，便于后续光刻胶涂层的清除。5.如权利要求1所述的一种网状金银复合纳米薄膜的制备方法，其特征在于：上玻璃层的下底面上设有若干凸起，且下玻璃层B上表面设有与该凸起相配合的凹槽，从而使得上玻璃层与下玻璃层B对接后，两玻璃层之间呈无间隙对接。6.如权利要求1所述的一种网状金银复合纳米薄膜的制备方法，其特征在于：所述具有网状纳米结构的金或银材料和具有网状纳米结构的金或银材料孔洞中的第二种金或银纳2CN111302653A权利要求书2/2页米材料均呈薄膜二维分布。7.