显示基板、显示单元的制备方法和显示基板母板.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111508973A(43)申请公布日2020.08.07(21)申请号202010333574.6(22)申请日2020.04.24(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人成都京东方光电科技有限公司(72)发明人唐润民王向楠王军赫贵龙沈天宇赵乾成徐宝强(74)专利代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司11112代理人柴亮姜春咸(51)Int.Cl.H01L27/12(2006.01)H01L21/78(2006.01)H01L21/683(2006.01)权利要求书2页说明书6页附图2页(54)发明名称显示基板、显示单元的制备方法和显示基板母板(57)摘要本发明提供一种显示基板、显示单元的制备方法和显示基板母板，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的显示基板在其制备过程中会对真空吸附设备的性能具有不良影响的问题。本发明的一种显示基板，包括保留区域以及位于保留区域周边的第一可切割区域，显示基板包括：柔性基底，具有相对的第一表面和第二表面，柔性基底位于保留区域中；第一胶层，位于柔性基底的第一表面，且由保留区域延伸至第一可切割区域；偏光层，位于第一胶层远离柔性基底的一侧；保护层组件，位于柔性基底的第二表面，在第一可切割区域中，保护层组件在柔性基底的第一表面所在平面上的投影覆盖第一胶层在柔性基底的第一表面所在平面上的投影。CN111508973ACN111508973A权利要求书1/2页1.一种显示基板，其特征在于，包括保留区域以及位于所述保留区域周边的第一可切割区域，所述显示基板包括：柔性基底，具有相对的第一表面和第二表面，所述柔性基底位于所述保留区域中；第一胶层，位于所述柔性基底的第一表面，且由所述保留区域延伸至所述第一可切割区域；偏光层，位于所述第一胶层远离所述柔性基底的一侧；保护层组件，位于所述柔性基底的第二表面，在所述第一可切割区域中，所述保护层组件在所述柔性基底的第一表面所在平面上的投影覆盖所述第一胶层在所述柔性基底的第一表面所在平面上的投影。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述保护层组件包括：第二胶层，位于所述柔性基底的第二表面；支撑层，位于所述第二胶层远离所述柔性基底的一侧，所述支撑层在所述柔性基底的第一表面所在平面上的投影覆盖所述第一胶层在所述柔性基底的第一表面所在平面上的投影。3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述保护层组件还包括：第一保护层，位于所述支撑层远离所述柔性基底的一侧，所述第一保护层在所述柔性基底的第一表面所在平面上的投影覆盖所述第一胶层在所述柔性基底的第一表面所在平面上的投影。4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述第二胶层由所述保留区域延伸至所述第一可切割区域，在所述保留区域指向所述第一可切割区域的方向上，所述第二胶层在所述第一可切割区域的部分的尺寸为第一尺寸，在所述保留区域指向所述第一可切割区域的方向上，所述支撑层和所述第一保护层在所述第一可切割区域的部分的尺寸分别为第二尺寸，所述第二尺寸大于所述第一尺寸。5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述第二尺寸大于0.5mm，且小于1mm。6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述保留区域分为显示单元区域和第二可切割区域，所述显示单元区域的显示基板用于形成显示面板，所述第二可切割区域位于所述显示单元区域和所述第一可切割区域之间，在所述显示单元区域指向所述第一可切割区域的方向上，所述第二可切割区的尺寸为1.3-1.5mm。7.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括：第二保护层，位于所述偏光层远离所述性基底的一侧。8.一种显示单元的制备方法，其特征在于，基于权利要求1至权利要求7中任意一项所述的显示基板，所述显示单元由所述显示基板制备形成，所示制备方法包括：沿显示基板的保留区域和第一可切割区域的分界线将所述显示基板进行第一切割；采用吸附设备至少将所述显示基板位于所述第一可切割区域的部分吸附，所述吸附设备的吸附方向为所述柔性基底具有所述保护层组件的一侧。9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，基于权利要求6所述的显示基板，所述沿显示基板的保留区域和第一可切割区域的分界线将所述显示基板进行第一切割和所述采用吸附设备至少将所述显示基板位于所述第一可切割区域的部分吸附之间还包括：沿显示基板的显示单元区域和第二可切割区域的分界线将所述显示基板进行第二切割；2CN111508973A权利要求书2/2页所述采用吸附设备至少将所述显示基板位于所述第一可切割区域的部分吸附包括：采用吸附设备将所述显示基板位于所述第一可切割区域和第二可切割区域的部分吸附，所述吸附设备为真空吸附设备