全反射型显示基板及其制作方法、全发射型显示装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111554696A(43)申请公布日2020.08.18(21)申请号202010402256.0(22)申请日2020.05.13(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号(72)发明人王继国孙建刘建涛(74)专利代理机构北京银龙知识产权代理有限公司11243代理人许静胡影(51)Int.Cl.H01L27/12(2006.01)H01L21/77(2017.01)权利要求书2页说明书6页附图5页(54)发明名称全反射型显示基板及其制作方法、全发射型显示装置(57)摘要本发明提供一种全反射型显示基板及其制作方法、全发射型显示装置，该全反射型显示基板包括：衬底基板，所述衬底基板包括显示区域和非显示区域；信号线，设置于所述显示区域内；绑定引脚，设置于所述非显示区域内，与所述信号线连接，且用于与驱动电路绑定；反射层，设置于所述显示区域内；刻蚀保护图形，与所述反射层同层同材料设置，设置于所述非显示区域内，且至少覆盖所述绑定引脚的侧面。本发明实施例中，在绑定引脚的至少侧面保留刻蚀保护图形，从而确保形成反射层的过程中绑定引脚不被刻蚀，同时，还提高了绑定引脚的抗划伤能力，从而提升了产品的稳定性。CN111554696ACN111554696A权利要求书1/2页1.一种全反射型显示基板，其特征在于，包括：衬底基板，所述衬底基板包括显示区域和非显示区域；信号线，设置于所述显示区域内；绑定引脚，设置于所述非显示区域内，与所述信号线连接，且用于与驱动电路绑定；反射层，设置于所述显示区域内；刻蚀保护图形，与所述反射层同层同材料设置，设置于所述非显示区域内，且至少覆盖所述绑定引脚的侧面。2.如权利要求1所述的全反射型显示基板，其特征在于，所述刻蚀保护图形完全覆盖所述绑定引脚。3.如权利要求1所述的全反射型显示基板，其特征在于，所述反射层和所述刻蚀保护图形包括层叠设置的至少一层金属膜层和至少一层透明金属氧化物膜层。4.如权利要求1或3所述的全反射型显示基板，其特征在于，所述刻蚀保护图形上开设有第一过孔，以裸露出部分所述绑定引脚。5.如权利要求4所述的全反射型显示基板，其特征在于，所述第一过孔设置于所述刻蚀保护图形的平坦区域。6.如权利要求5所述的全反射型显示基板，其特征在于，所述绑定引脚包括：第一金属层图形和第二金属层图形，所述第一金属层图形和所述第二金属层图形通过设置于两者之间的层间介质层上的第二过孔连接，所述第一过孔和所述第二过孔在所述衬底基板上的正投影不重叠。7.如权利要求1所述的全反射型显示基板，其特征在于，所述反射层复用为像素电极。8.一种全反射型显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-7任一项所述的全反射型显示基板。9.一种全反射型显示基板的制作方法，其特征在于，包括：提供衬底基板，所述衬底基板包括显示区域和非显示区域；在显示区域内形成信号线，在所述非显示区域内形成绑定引脚，所述绑定引脚与所述信号线连接，且用于与驱动电路绑定；在所述衬底基板上形成第一导电膜层，所述第一导电膜层覆盖所述显示区域和所述非显示区域；在所述第一导电膜层上形成第一光刻胶图形和第二光刻胶图形，所述第一光刻胶图形设置于所述显示区域内，所述第二光刻胶图形设置于所述非显示区域内；以所述第一光刻胶图形和第二光刻胶图形为掩膜，对所述第一导电膜层进行湿刻，得到反射层和刻蚀保护图形，所述反射层设置于所述显示区域内，所述刻蚀保护图形设置于所述非显示区域内，且至少覆盖所述绑定引脚的侧面；去除所述第一光刻胶图形和第二光刻胶图形。10.如权利要求9所述的全反射型显示基板的制作方法，其特征在于，所述得到反射层和刻蚀保护图形之后还包括：在所述刻蚀保护图形上形成第一过孔，以裸露出部分所述绑定引脚。11.如权利要求10所述的全反射型显示基板的制作方法，其特征在于，所述在所述刻蚀保护图形上形成第一过孔包括：2CN111554696A权利要求书2/2页在所述刻蚀保护图形的平坦区域形成所述第一过孔。3CN111554696A说明书1/6页全反射型显示基板及其制作方法、全发射型显示装置技术领域[0001]本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种全反射型显示基板及其制作方法、全发射型显示装置。背景技术[0002]全反射型显示装置依靠外界环境光显示，无需背光源，具备低功耗、低成本和可实现多色显示等优点，因而逐渐取代传统墨水型电子纸，应用于智能零售、电子标签(ESL)、电子书等领域。[0003]全反射型显示装置的显示基板包括显示区域和非显示区域，非显示区域通常设置于显示区域外围，显示区域内设置有反射层，非显示区域内设置有绑定引脚(pin)，绑定引脚与显示区域内的信号线连接，并与驱动电路(IC)