显示基板及其制作方法、显示装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111650787A(43)申请公布日2020.09.11(21)申请号202010528548.9H04N5/225(2006.01)(22)申请日2020.06.11(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司(72)发明人刘弘徐敬义张永强刘鹏霍培荣陈婉芝许晓春刘建涛李波(74)专利代理机构北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201代理人王佳璐(51)Int.Cl.G02F1/1343(2006.01)H01L27/32(2006.01)H04M1/02(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图4页(54)发明名称显示基板及其制作方法、显示装置(57)摘要本发明提出了显示基板及其制作方法、显示装置。该显示基板包括：基板，其上限定有盲孔区；缓冲层，覆盖基板的一侧；有机膜层，设置在缓冲层远离基板的表面，且在盲孔区中具有第一开孔；钝化层，设置在有机膜层远离基板的一侧，且在盲孔区中具有第二开孔；透明电极层，覆盖钝化层和第二开孔中的缓冲层。本发明所提出的显示基板，其缓冲层在盲孔区中的表面虽会被钝化层的干法刻蚀成凹凸不平，但通过在缓冲层的表面进一步形成平整的透明电极层，从而使盲孔区内的均一性更好，在减缓盲孔区发黄问题的同时，还可保证盲孔区的透过率达到90％以上。CN111650787ACN111650787A权利要求书1/1页1.一种显示基板，其特征在于，包括：基板，所述基板上限定有盲孔区；缓冲层，所述缓冲层覆盖所述基板的一侧；有机膜层，所述有机膜层设置在所述缓冲层远离所述基板的表面，且在所述盲孔区中具有第一开孔；钝化层，所述钝化层设置在所述有机膜层远离所述基板的一侧，且在所述盲孔区中具有第二开孔；透明电极层，所述透明电极层覆盖所述钝化层和所述第二开孔中的所述缓冲层。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述基板上还限定有显示区，且所述透明电极层与所述显示区内的像素电极层是同层设置的。3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述透明电极层的厚度为400～1000埃。4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，形成所述透明电极层的材料包括氧化铟锡。5.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述显示区环绕所述盲孔区设置；所述显示基板进一步包括功能层，所述功能层设置在所述缓冲层与所述有机膜层之间，且在所述显示区内，并且，所述功能层具有第三开孔，且所述盲孔区落入所述第三开孔在所述基板上的正投影之内。6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述第一开孔在所述基板上的正投影落入所述第三开孔在所述基板上的正投影之内，且所述有机膜层通过所述第三开孔与所述缓冲层直接接触。7.一种制作显示基板的方法，其特征在于，包括：在基板的一侧形成缓冲层；在所述缓冲层远离所述基板的一侧形成有机膜层，并在所述基板的盲孔区中形成有第一开孔；在所述有机膜层远离所述基板的一侧形成钝化层，并在所述盲孔区中干法刻蚀出第二开孔；在所述钝化层和所述第二开孔中的所述缓冲层远离所述基板的一侧形成透明电极层。8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述透明电极层与所述基板的显示区内的像素电极是通过一次构图工艺形成的。9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在所述形成有机膜层的步骤之前，所述方法进一步包括：在所述缓冲层远离所述基板的一侧形成功能层，且所述功能层形成在所述显示区内。10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，在所述功能层上干法刻蚀出第三开孔，并且，所述盲孔区落入所述第三开孔在所述基板上的正投影之内。11.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6中任一项所述的显示基板。2CN111650787A说明书1/6页显示基板及其制作方法、显示装置技术领域[0001]本发明涉及显示结构设计技术领域，具体的，本发明涉及显示基板及其制作方法、显示装置。背景技术[0002]全面屏手机(Mobile)中的某些形态，会在屏幕的左上角设计一个放置摄像头的透明区域，被俗称为“盲孔”，且产品一般要求盲孔的透过率＞90％，所以，对盲孔内的膜层结构不仅要求材料具有较高透过率，还尽可能地保持孔内膜层结构要更少。[0003]具体的，参考图1，盲孔区C中的膜层结构较多，且缓冲层200表面还存在着明显的凹凸不平，从而造成点灯时盲孔区会发黄的现象(参考图7中的改善前)，严重的甚至会影响摄像头(Camera)的拍摄效果。发明内容[0004]本发明是基于发明人的下列发现而完成的：[0005]本发明的发明人为了改善盲孔区的发黄问题，所以提出一种显示基板的结构，其盲孔区的缓冲层虽然容易被钝化层等膜层的干法刻蚀成凹凸不平的表面，但是，