一种IGBT栅极总线结构.pdf
是秋****写意
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一种IGBT栅极总线结构.pdf
本发明公开了一种IGBT栅极总线结构,包括衬底,沿衬底上表面一端从外到内依次设置的场氧化层和栅极多晶硅,场氧化层和栅极多晶硅之间留有空隙;还包括介质层,介质层覆盖于衬底的整个上表面以及场氧化层和栅极多晶硅的上表面,栅极多晶硅上表面的介质层内开设有栅极接触孔;使得栅极多晶硅的上表面避免出现台阶和不平整,当在栅极多晶硅上表面的介质层内刻蚀栅极接触孔时,不再受栅极多晶硅上表面不平整的影响,能够刻蚀出完整的栅极接触孔。
一种实现栅极可控性增强的新型IGBT结构.pdf
本发明提供了一种实现栅极可控性增强的新型IGBT结构,该结构在具有浮空P区的常规沟槽栅IGBT结构的基础上,在浮空P区上方添加钳位二极管,首先将浮空P区上方的场氧开槽,离子注入形成二极管的P+端,然后在开槽处沉积N+掺杂的多晶硅组成钳位二极管,最后将N+多晶硅连接器件发射极。钳位二极管在器件开启阶段通过将浮空P区钳位至低电位,从而降低了密勒电容并抑制从浮空P区流向栅极的反向栅极充电电流,进而使栅极电阻对器件集电极‑发射极电压有更好的可控性。同时,在器件关断阶段,由于钳位二极管形成额外的空穴提取路径,基区空
低应力IGBT沟槽型栅极的成长方法.pdf
本发明公开了一种低应力IGBT沟槽型栅极的成长方法,该方法在成长完栅极氧化层后,进行以下工艺步骤:1)在栅极氧化层上沉积一层多晶硅,并确保沉积后,沟槽内留有缝隙;2)多晶体回刻,形成上方开口的沟槽填充形貌;3)高温退火;4)多晶硅补沉积,形成无缝填充的沟槽作为栅极。其中,步骤1)至2)或步骤1)至3)可以重复多次进行。该方法通过多次多晶硅成膜和高温退火,使多晶硅的大部分应力得以释放,避免了后续高温工艺引入的应力累积,从而降低了硅片的面内应力,改善了硅片的翘曲度,保证了后续工艺流程中硅片的正常传送。
一种在IGBT管栅极下方形成厚场氧的方法.pdf
本发明公开了一种形成厚场氧的方法,用于在IGBT管半成品栅极下方形成厚场氧,该方法包括:向放有IGBT管半成品的加工炉中通入符合第一预定条件的第一气体,对IGBT管半成品进行场氧化,在IGBT管半成品的光刻区生成场氧化层,获得第一IGBT管半成品;将第一IGBT管半成品的光刻区以外的其它区域的氧化层剥离,并在剥离氧化层后的第一IGBT管半成品表面形成牺牲氧化层,获得第二IGBT管半成品;将第二IGBT管半成品的牺牲氧化层剥离,用于清除残留在第二IGBT管半成品表面的杂质,并在剥离牺牲氧化层后的第二IGBT
栅极边缘化IGBT芯片的制作方法及结构.pdf
本发明提供了一种栅极边缘化IGBT芯片的制作方法及结构,涉及半导体器件制造领域。制作方法包括步骤1:沉积发射极金属层和栅极金属层;步骤2:淀积钝化层;步骤3:进行刻蚀;步骤4:沉积第二金属层。由以上方法制作而成的结构,包括衬底,衬底上设有位于中部的有源区以及包围该有源区的终止区,IGBT芯片的发射极自有源区引出,有源区外侧设有IGBT芯片的栅极,栅极自终止区引出。本发明在相同的芯片面积下、增加了发射极所占有源区的面积,从而解决了现有的IGBT芯片结构中,栅极在有源区的面积占比限制了发射极所占有源区的面积大