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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112095147A(43)申请公布日2020.12.18(21)申请号201910474241.2(22)申请日2019.06.02(71)申请人尹翠哲地址051230河北省石家庄市赞皇县龙门乡白壁村南区二巷160号申请人王小兵(72)发明人尹翠哲王小兵(51)Int.Cl.C30B29/06(2006.01)C30B11/00(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称一种生产铸造单晶时籽晶层的保护方法(57)摘要本发明专利公开了一种生产铸造单晶时籽晶层的保护方法,包括以下步骤:直拉单晶棒去除边皮,再经过切割后得到长方体形状的籽晶,把其铺设在坩埚底部;将制备的支撑腿和保护板放置在坩埚底部,使籽晶层与保护板之间留有一定空隙,在保护板上放置原生多晶硅料和头尾边等循环料,采用半融工艺得到铸造单晶硅锭。本发明可以防止装硅料时硅粉或小硅颗粒掉入籽晶之间的拼接缝内,可以减小铸造单晶锭中多晶产生的概率;保护板和籽晶层之间留有一定的空隙,硅料不直接压在籽晶层上,可以减小因压应力而产生位错的概率,提升了铸造单晶硅锭的质量。CN112095147ACN112095147A权利要求书1/1页1.一种生产铸造单晶时籽晶层的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤a制备保护板,保护板尺寸比坩埚埚口稍小;步骤b制备小长方体形状支撑腿;步骤c直拉单晶棒去除边皮,再经过切割后得到长方体形状的籽晶;步骤d将所述籽晶铺设在坩埚底部,形成完整的籽晶层;步骤e将所述小长方体形状支撑腿放置在坩埚底部四周位置;步骤f将所述保护板水平放置在所述支撑腿上,所述籽晶层与所述保护板之间留有一定空隙;步骤g在所述保护板上放置原生多晶硅料和头尾边等循环料;步骤h将所述装满多晶硅料的坩埚放入铸锭炉中,采用半融工艺得到铸造单晶硅锭。2.根据权利要求书1所述的一种生产铸造单晶时籽晶层的方法,其特征在于,所述步骤a中保护板厚度在10mm-50mm之间,所述保护板尺寸和G5、G6、G7、G8坩埚埚口尺寸相匹配,可以放入相应坩埚中。3.根据权利要求书1所述的一种生产铸造单晶时籽晶层的方法,其特征在于,所述步骤a中保护板材质为硅。4.根据权利要求书1所述的一种生产铸造单晶时籽晶层的方法,其特征在于,所述步骤f所述籽晶层与所述保护板的空隙在2mm-50mm之间。2CN112095147A说明书1/3页一种生产铸造单晶时籽晶层的保护方法技术领域[0001]本发明涉及光伏制造领域,尤其涉及一种生产铸造单晶时籽晶层的保护方法。背景技术[0002]目前生产铸造单晶的一般步骤为:在坩埚底部铺设一层单晶籽晶,在单晶籽晶上面装正常铸锭的头料、尾料、边皮和原生多晶硅料,采用半融工艺得到铸造单晶。由于籽晶层与硅料直接接触,硅粉和小硅颗粒容易落入籽晶拼接缝之间,硅粉和小硅颗粒容易形核,在籽晶之间生长出多晶;由于硅料直接压在籽晶层上,籽晶承受较大的压应力,从而导致位错产生,位错和多晶会严重影响铸造单晶的质量。[0003]本发明提供了一种生产铸造单晶时籽晶层的保护方法,采用此方法后,可以减小铸造单晶中位错和多晶的产生概率,提高铸造单晶硅锭的质量。发明内容[0004]本发明的目的是:在生产铸造单晶时,提供一种籽晶层的保护方法,包括以下步骤:步骤a制备保护板,保护板尺寸比坩埚埚口稍小。[0005]步骤b制备小长方体形状支撑腿,材质为硅。[0006]步骤c直拉单晶棒去除边皮,再经过切割后得到长方体形状的籽晶。[0007]步骤d将所述籽晶铺设在坩埚底部,形成完整的籽晶层。[0008]步骤e将所述小长方体形状支撑腿放置在坩埚底部四周位置。[0009]步骤f将所述保护板水平放置在所述支撑腿上,所述籽晶层与所述保护板之间留有一定空隙。[0010]步骤g在所述保护板上放置原生多晶硅料和头尾边等循环料。[0011]步骤h将所述装满多晶硅料的坩埚放入铸锭炉中,采用半融工艺得到铸造单晶硅锭。[0012]优选地,步骤a所述保护板厚度在10mm-50mm之间,所述保护板尺寸和G5、G6、G7、G8坩埚埚口尺寸相匹配,可以放入相应坩埚中。[0013]优选地,步骤a所述保护板材质为硅。[0014]优选地,步骤b所述小长方体形状支撑腿放置在坩埚底部,且靠近坩埚侧壁的部位。[0015]优选地,步骤b所述小长方体形状支撑腿放置在籽晶层上方,且靠近坩埚侧壁的部位。[0016]优选地,步骤f所述述籽晶层与所述保护板的空隙在2mm-50mm之间。[0017]本发明提供的生产铸造单晶时籽晶层保护方法具有以下有益效果:装料时防止硅粉或小硅颗粒掉入籽晶之间的拼接缝内,减少了硅粉和小硅颗粒在籽晶拼接缝内形核长大的概率,从而减少了铸造单晶硅锭中的多晶;保护板和籽晶层之间留有