一种无残留水基清洗剂及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112159735A(43)申请公布日2021.01.01(21)申请号202011052440.3C11D3/30(2006.01)(22)申请日2020.09.29C11D3/34(2006.01)C11D3/36(2006.01)(71)申请人昆山诺奎尔材料科技有限公司C11D3/37(2006.01)地址215000江苏省苏州市昆山开发区夏C11D3/60(2006.01)荷路99号港龙商务大厦1号楼912室C11D11/00(2006.01)(72)发明人窦树君(74)专利代理机构北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙)11465代理人崔自京(51)Int.Cl.C11D1/83(2006.01)C11D3/04(2006.01)C11D3/20(2006.01)C11D3/22(2006.01)权利要求书1页说明书3页(54)发明名称一种无残留水基清洗剂及其制备方法(57)摘要本发明公开了一种无残留水基清洗剂，按质量分数计，包括如下组分：表面活性剂20‑32份、防锈剂3‑9份、防腐剂0.1‑0.2份、渗透剂2‑5份、助剂10‑13.5份和水40‑50份。本发明提供的无残留水基清洗剂不含氢氧化钠(钾)、碳酸钠、碳酸氢钠、磷酸钠等无机碱或盐，容易漂洗并且漂洗后无残留，大大降低了对后续工序的影响。CN112159735ACN112159735A权利要求书1/1页1.一种无残留水基清洗剂，其特征在于，按质量分数计，包括如下组分：表面活性剂20-32份、防锈剂3-9份、防腐剂0.1-0.2份、渗透剂2-5份、助剂10-13.5份和水40-50份。2.根据权利要求1所述的一种无残留水基清洗剂，其特征在于，包括如下组分：表面活性剂32份、防锈剂6份、防腐剂0.1份、渗透剂5份、助剂13.5份和水43.4份。3.根据权利要求1所述的一种无残留水基清洗剂，其特征在于，所述表面活性剂由脂肪醇聚氧乙烯醚、异构脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪酸胺皂和聚氧乙烯脱水山梨醇单油酸酯组成。这个是表面活性剂的一种。4.根据权利要求1所述的一种无残留水基清洗剂，其特征在于，所述防锈剂由硼酸、山梨酸、葵二酸、十二碳二元酸、三元羧酸、二聚酸、新葵酸、正辛酸、苯并三氮唑或硅酸钠中的一种或几种组成。5.根据权利要求1所述的一种无残留水基清洗剂，其特征在于，所述防腐剂由1,2-苯并异噻唑-3-酮、1，3，5-三(2-羟乙基)-六氢三嗪或3-碘-2-丙炔基丁基氨基甲酸酯中的一种或几种组成。6.根据权利要求1所述的一种无残留水基清洗剂，其特征在于，所述渗透剂由乙醇、乙二醇、二乙二醇、丙三醇或二乙二醇单丁醚中的一种或几种组成。7.根据权利要求1所述的一种无残留水基清洗剂，其特征在于，所述助剂包括：清洗剂13份、消泡剂0.5份。8.根据权利要求7所述的一种无残留水基清洗剂，其特征在于，所述清洗剂由一乙醇胺、二乙醇胺，三乙醇胺、1-异丙醇胺、二环己胺、醇醚羧酸或烷基糖苷中的一种或几种组成。9.根据权利要求8所述的一种无残留水基清洗剂，其特征在于，所述消泡剂为二甲基硅油乳液或聚醚消泡剂。10.根据权利要求9所述的一种无残留水基清洗剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：先将清洗助剂溶解于一部分水中，搅拌均匀，然后边搅拌边加入防锈剂，搅拌至混合液透明后加入表面活性剂和渗透剂，冷却后加入防腐剂和消泡剂，最后再加入剩余的水搅拌均匀即可。2CN112159735A说明书1/3页一种无残留水基清洗剂及其制备方法技术领域[0001]本发明涉及清洗剂领域，更具体地说是涉及一种无残留水基清洗剂及其制备方法。背景技术[0002]水基清洗剂广泛用于工业清洗中，对塑胶、光学玻璃镜片、金属制品(铜、铁、铝、钢、锌、合金)等材料表面的拉伸油、切削油、防锈油、润滑油、冲压油等各种油污、污渍、油脂等有很好的清洗效果。并且，水基清洗剂不燃不爆，无毒无害，使用安全，不污染环境。[0003]现有的水基清洗剂主要是一些碱性较强的无机碱或无机盐，如氢氧化钠、碳酸钠、硅酸盐、磷酸盐等。但这类清洗剂由于含有无机碱或无机盐，后续漂洗不容易从金属或者其他硬表面工件表面去除，导致部分无机碱或者无机盐残留于工件表面，从而不利于镀膜、氧化及涂装等后续工序的进行。[0004]因此，如何提供一种无残留水基清洗剂是本领域技术人员亟需解决的技术问题。发明内容[0005]有鉴于此，本发明针对现有技术中存在的问题提供了一种无残留水基清洗剂，由于其不残留于金属等硬表面，对于工件后处理没有影响，减少了清洗工序，降低了成本。[0006]为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：[0007]一种无残留水基清洗剂，按质量分数计，包括如下组分：表面活性剂20