一种清洗干燥系统及清洗干燥方法.pdf
Jo****63
亲,该文档总共14页,到这已经超出免费预览范围,如果喜欢就直接下载吧~
相关资料
一种清洗干燥系统及清洗干燥方法.pdf
本发明公开一种清洗干燥系统和清洗干燥方法。洗干燥系统适于对掩膜板进行清洗干燥,包括清洗槽、移动装置、干燥装置和监控装置。移动装置适于从清洗槽中抓取掩膜板进行移动。干燥装置包括吹气单元和连接部件,吹气单元与连接部件可转动连接,吹气单元适于喷射出方向可控的线状气流;监控装置连接移动装置和干燥装置,监控装置适于控制移动装置从清洗槽中抓取掩膜板至第一预设位置,监控装置适于控制吹气单元围绕连接部件转动至第二预设位置。通过控制掩膜板移动和吹气单元转动,能够针对性的对掩膜板的不同倾斜角度的对位孔进行作业,对对位孔的侧壁
清洗干燥系统及清洗干燥方法.pdf
本申请公开了一种清洗干燥系统及清洗干燥方法,清洗干燥系统包括第一干燥装置和第二干燥装置,第一干燥装置包括第一壳体和多个吹扫单元,第一壳体包括第一腔体,吹扫单元设置于第一腔体内,以吹扫位于第一腔体内的待处理件;第二干燥装置包括第二壳体和多个喷射单元,第二壳体包括密闭的第二腔体,喷射单元设置于第二腔体内,以向位于第二腔体内的待处理件喷射流体介质。根据本申请提供的实施例,本申请清洗干燥的待处理件上无水渍、杂质等残留物。
干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法.pdf
本发明公开了一种干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法。干燥系统包括:具有相对的第一侧壁和第二侧壁的干燥腔室;多个第一风刀,设置在第一侧壁和第二侧壁上,用于对清洗后的掩膜版进行吹风干燥;和分离装置,用于在多个第一风刀吹风干燥清洗后的掩膜版时,使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、以增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距,使得空间相交区域内更好地进行空气流通,从而实现空间相交区域内的清洗液也一并被吹除掉,避免掩膜版上残留清洗液。
半导体基板的清洗干燥方法.pdf
本发明提供一种半导体基板的清洗干燥方法,其可在不用特殊装置的情况下,抑制对清洗基板后的清洗液进行干燥时发生的图案倒塌或损坏及图案底部的树脂分解,能有效去除清洗液,其特征在于包括以下工序:(I)用清洗液清洗形成图案的半导体基板;(II)用包含含通式(1)所示的重复单元的树脂(A)及溶剂的组合物置换所述基板上残留的清洗液并以小于所述树脂(A)的分解温度的温度加热去除该已置换的组合物中的溶剂;(III)通过将所述半导体基板保持0℃以上且小于所述树脂(A)的分解温度的温度并同时对所述树脂(A)吹气温度为所述树脂(
一种晶圆清洗干燥装置.pdf
本发明公开了一种晶圆清洗干燥装置,包括:用于对晶圆进行清洗的箱体,箱体的顶部设有用于供晶圆进、出所述箱体的开口;设于箱体内且用于承接晶圆的支撑机构,支撑机构可升降;设于开口处且用于对清洗后的晶圆表面喷洒干燥气体的喷淋管。该晶圆清洗干燥装置通过在箱体的开口处设置喷淋管,利用喷淋管对清洗后的晶圆喷洒干燥气体,来干燥晶圆表面。可以理解的是,该方式利用了马兰戈尼效应,也即,利用表面张力梯度差,将附着在晶圆表面的水去除,相比于现有技术利用离心力甩干晶圆表面的清洗液,该晶圆清洗干燥装置可以有效地减少水渍残留,避免整片