柔性显示基板及其制备方法、显示装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113036065A(43)申请公布日2021.06.25(21)申请号202110252157.3(22)申请日2021.03.08(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人成都京东方光电科技有限公司(72)发明人赵锦灿杨圣王一鸣崔艳周杰黄志军(74)专利代理机构北京风雅颂专利代理有限公司11403代理人李弘(51)Int.Cl.H01L51/56(2006.01)H01L27/32(2006.01)G09F9/30(2006.01)权利要求书1页说明书7页附图6页(54)发明名称柔性显示基板及其制备方法、显示装置(57)摘要本公开提供一种柔性显示基板及其制备方法、显示装置。所述柔性显示基板的制备方法，包括：在刚性基板上形成隔离保护膜层；在所述隔离保护膜层上形成柔性基底；在所述柔性基底上形成功能层；剥离所述刚性基板，形成所述柔性显示基板。本公开所述柔性显示基板及其制备方法、显示装置，在形成柔性基底之前先形成隔离保护膜层，在后续剥离刚性基板后由于隔离保护膜层仍会附着于柔性基底上起到保护作用，无需额外贴附下保护膜，避免因贴附下保护膜导致的贴合异物、贴合气泡、翘曲等工艺不良，同时减少了工艺步骤并降低了成本；同时，隔离保护膜层可以避免功能层蒸镀过程中无机材料残留于刚性基板中导致后续分离异常。CN113036065ACN113036065A权利要求书1/1页1.一种柔性显示基板的制备方法，包括：在刚性基板上形成隔离保护膜层；在所述隔离保护膜层上形成柔性基底；在所述柔性基底上形成功能层；剥离所述刚性基板，形成所述柔性显示基板。2.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述隔离保护膜层在所述刚性基板上的正投影面积大于所述功能层的蒸镀阴影区在所述刚性基板上的正投影面积。3.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述在所述柔性基底上形成功能层之后，还包括：在所述功能层上形成上保护膜层。4.根据权利要求3所述的制备方法，其中，所述上保护膜层在所述刚性基板上的正投影面积大于所述功能层在所述刚性基板上的正投影面积，且所述上保护膜层在所述刚性基板上的正投影面积大于所述隔离保护膜层在所述刚性基板上的正投影面积。5.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述在刚性基板上形成隔离保护膜层，包括：采用有机树脂，在所述刚性基板上涂覆形成所述隔离保护膜层。6.一种柔性显示基板，包括：隔离保护膜层；柔性基底，设置于所述隔离保护膜层上；以及，功能层，设置于所述柔性基底上。7.根据权利要求6所述的柔性显示基板，其中，所述隔离保护膜层在所述刚性基板上的正投影面积大于所述功能层的蒸镀阴影区在所述刚性基板上的正投影面积。8.根据权利要求6所述的柔性显示基板，其中，还包括：上保护膜层，设置于所述功能层上。9.根据权利要求8所述的柔性显示基板，其中，所述上保护膜层在所述刚性基板上的正投影面积大于所述功能层在所述刚性基板上的正投影面积，且所述上保护膜层在所述刚性基板上的正投影面积大于所述隔离保护膜层在所述刚性基板上的正投影面积。10.根据权利要求6所述的柔性显示基板，其中，所述隔离保护膜层包括有机树脂膜层。11.一种显示装置，包括如权利要求6‑10任一项所述的柔性显示基板。2CN113036065A说明书1/7页柔性显示基板及其制备方法、显示装置技术领域[0001]本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种柔性显示基板及其制备方法、显示装置。背景技术[0002]有机电致发光显示屏(OrganicElectroluminesenceDisplay，OLED)相对于液晶显示屏(LiquidCrystalDisplay，LCD)，具有自发光、轻薄、宽视角、高亮度、高对比度、低驱动电压和快速响应等优点，被认为是下一代显示技术。[0003]目前在OLED生产过程的柔性衬底工艺制作中，一般是直接在玻璃基板上生长PI膜，在PI膜层之上进行器件制作；之后将PI膜从玻璃基板上剥离后贴合一层下保护膜。其中，在剥离玻璃基板时容易出现分离异常，且下保护膜贴合过程中容易出现翘曲与气泡。发明内容[0004]有鉴于此，本公开的目的在于提出一种柔性显示基板及其制备方法、显示装置。[0005]基于上述目的，本公开提供了一种柔性显示基板的制备方法，包括：[0006]在刚性基板上形成隔离保护膜层；[0007]在所述隔离保护膜层上形成柔性基底；[0008]在所述柔性基底上形成功能层；[0009]剥离所述刚性基板，形成所述柔性显示基板。[0010]可选的，所述隔离保护膜层在所述刚性基板上的正投影面积大于所述功能层的蒸镀阴影区在所述刚性基板上的正投影面积。[0011]可选的，所述在所述柔性基底上形成功能层之后，还