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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113692638A(43)申请公布日2021.11.23(21)申请号202080000298.X(51)Int.Cl.(22)申请日2020.03.18H01L21/027(2006.01)H01L51/56(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2020.03.19(86)PCT国际申请的申请数据PCT/CN2020/0799962020.03.18(87)PCT国际申请的公布数据WO2021/184256ZH2021.09.23(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号(72)发明人梅文海张振琦张爱迪张晓远王好伟(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所11105代理人王晓燕(54)发明名称一牺牲层图案(1041)以去除第一牺牲层图案量子点发光器件及其制备方法、量子点显示(1041)以及位于其上的第一光刻胶图案(1051)面板的制备方法和第一量子点材料层(106),并保留位于第一功(57)摘要能层(103)的第二部分(1032)上的第一量子点材本公开的实施例提供一种量子点发光器件料层(106)以形成第一量子点发光层(106’);在及其制备方法以及量子点显示面板的制备方法,第一量子点发光层(106’)上形成第二电极该量子点发光器件的制备方法,包括:提供衬底(108)。基板(101);在衬底基板(101)上形成第一电极(102);在第一电极(102)上形成第一功能层(103);在第一功能层(103)上依次形成第一牺牲层(104)和第一光刻胶层(105);对第一光刻胶层(105)进行构图工艺形成第一光刻胶图案(1051);以第一光刻胶图案(1051)为掩膜对第一牺牲层(104)进行构图工艺以形成第一牺牲层图案(1041),其中,第一功能层(103)包括第一部分(1031)和第二部分(1032),第一部分(1031)上依次堆叠第一牺牲层图案(1041)和第一光刻胶图案(1051),第二部分(1032)被第一牺牲层图案(1041)和第一光刻胶图案(1051)露出;在第一光刻胶图案(1051)和第一功能层(103)的第二部分CN113692638A(1032)上形成第一量子点材料层(106);剥离第