一种用于确定流体样品中的颗粒特性和/或用于确定流体样品的污染特性的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113795744A(43)申请公布日2021.12.14(21)申请号201980096366.4(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公(22)申请日2019.05.13司72001代理人李雪娜吕传奇(85)PCT国际申请进入国家阶段日2021.11.12(51)Int.Cl.G01N15/00(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据G01N15/02(2006.01)PCT/IB2019/0539342019.05.13G01N15/06(2006.01)(87)PCT国际申请的公布数据G01N1/28(2006.01)WO2020/229876EN2020.11.19(71)申请人通用表面增强光谱学有限公司地址瑞士苏黎世(72)发明人F·瓦尔特权利要求书3页说明书13页附图3页(54)发明名称的电磁射线；或者在光电二极管阵列处接收所述一种用于确定流体样品中的颗粒特性和/或反射的电磁射线；(g)形成包括像素的图像，其中用于确定流体样品的污染特性的方法图像中的每个像素对应于所述阵列中的相应光(57)摘要电二极管，其中所述图像中每个像素的亮度对应根据本发明，提供了一种用于确定流体样品于与该像素相对应的光电二极管接收到的电磁中的颗粒特性和/或用于确定流体样品的污染特射线的强度；(h)处理所述形成的图像以确定所性的方法，所述方法包括以下步骤，(a)在衬底的述颗粒特性，和/或处理所述形成的图像以确定表面上沉积金属膜，以在所述衬底上提供光滑的流体样品的污染特性。金属表面；(b)使流体样品与衬底的所述金属表面接触；(c)从所述金属表面移除与所述金属表面接触的所述流体样品，使得仅所述流体样品中的颗粒保留在衬底的金属表面上；(d)在所述金属表面和保留在衬底的所述金属表面上的所述颗粒上沉积金属层，使得每个所述颗粒被提供有相应金属层，并且所述金属表面的没有颗粒的区域被提供有金属层，其中，对于每个颗粒，在颗粒上的金属层和所述金属表面上的金属层之间存在间隙；(e)用电磁射线照射所述颗粒和金属表面上的所述金属层，使得所述电磁射线被所述颗粒上的金属层散射以分别产生散射的电磁射线；或者用电磁射线照射所述颗粒和金属表面上的所述金属层，使得所述电磁射线的至少一部分被所述颗粒上的金属层吸收，并且所述电磁射线的另一部分被衬底上的金属表面反射以产生反射CN113795744A的电磁射线；(f)在光电二极管阵列处接收散射CN113795744A权利要求书1/3页1.一种用于确定流体样品中的颗粒特性和/或用于确定流体样品的污染特性的方法，所述方法包括以下步骤，(a)在衬底的表面上沉积金属膜，以在所述衬底上提供光滑的金属表面；(b)使流体样品与衬底的所述金属表面接触；(c)从所述金属表面移除与所述金属表面接触的所述流体样品，使得仅所述流体样品中的颗粒保留在衬底的金属表面上；(d)在所述金属表面和保留在衬底的所述金属表面上的所述颗粒上沉积金属层，使得每个所述颗粒被提供有相应金属层，并且所述金属表面的没有颗粒的区域被提供有金属层，其中，对于每个颗粒，在颗粒上的金属层和所述金属表面上的金属层之间存在间隙；(e)用电磁射线照射所述颗粒和金属表面上的所述金属层，使得所述电磁射线被所述颗粒上的金属层散射以分别产生散射的电磁射线；或者用电磁射线照射所述颗粒和金属表面上的所述金属层，使得所述电磁射线的至少一部分被所述颗粒上的金属层吸收，并且所述电磁射线的另一部分被衬底上的金属表面反射以产生反射的电磁射线；(f)在光电二极管阵列处接收散射的电磁射线；或者在光电二极管阵列处接收所述反射的电磁射线；(g)形成包括像素的图像，其中图像中的每个像素对应于所述阵列中的相应光电二极管，其中所述图像中每个像素的亮度对应于与该像素相对应的光电二极管接收到的电磁射线的强度；(h)处理所述形成的图像以确定所述颗粒特性，和/或处理所述形成的图像以确定流体样品的污染特性。2.根据权利要求1的方法，其中所述方法包括以下步骤，(a)在衬底的表面上沉积金属膜，以在所述衬底上提供光滑的金属表面；(b)使流体样品与衬底的所述金属表面接触；(c)从所述金属表面移除与所述金属表面接触的所述流体样品，使得仅所述流体样品中的颗粒保留在衬底的金属表面上；(d)在所述金属表面和保留在衬底的所述金属表面上的所述颗粒上沉积金属层，使得每个所述颗粒被提供有相应金属层，并且所述金属表面的没有颗粒的区域被提供有金属层，其中，对于每个颗粒，在颗粒上的金属层和所述金属表面上的金属层之间存在间隙；(e)用电磁射线照射所述颗粒和金属表面上的所述金属层，使得所述电磁射线被所述颗粒上的金属层散射以产生散射的电磁射线；(f)在光电二极管阵列处接收散射的电磁射线；