一种带抛光面的防滑防污瓷砖及其生产工艺和用途.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113814801A(43)申请公布日2021.12.21(21)申请号202111407809.2B24B29/02(2006.01)(22)申请日2021.11.25C09G1/02(2006.01)E04F13/14(2006.01)(71)申请人佛山市东鹏陶瓷有限公司地址528000广东省佛山市禅城区江湾三路8号二层申请人广东东鹏控股股份有限公司丰城市东鹏陶瓷有限公司佛山市东鹏陶瓷发展有限公司(72)发明人钟保民金国庭祁明熊勋旺徐瑜杨涛谢穗(74)专利代理机构佛山市禾才知识产权代理有限公司44379代理人何慧敏单蕴倩(51)Int.Cl.B24B1/00(2006.01)权利要求书1页说明书7页附图1页(54)发明名称一种带抛光面的防滑防污瓷砖及其生产工艺和用途(57)摘要一种带抛光面的防滑防污瓷砖及其生产工艺和用途，涉及防滑防污瓷砖技术领域，生产工艺包括：（1）将第一抛光助剂布施于砖面，砖面进行第一次抛光处理；（2）去除残留氧化铝，对砖面进行第二次抛光处理；（3）在砖面涂覆一层保护材料；将第三抛光助剂布施于保护材料的表面，对砖面进行第三次抛光处理；（4）将具有防滑防污功能的第四抛光剂布施于砖面，对砖面进行第四次抛光处理。本方案通过抛光工艺的改进和防滑材料的改进以及组合应用，首先在砖面形成微孔，最后再打一层防滑材料，使得砖面形成微凹凸的防滑层，最终制得防滑防污的效果的抛光面防滑产品，解决了现有技术中瓷砖基本难以达到光泽度高、防滑性高和防污性高的性能。CN113814801ACN113814801A权利要求书1/1页1.一种带抛光面的防滑防污瓷砖的生产工艺，其特征在于，包括以下步骤：（1）将第一抛光助剂布施于砖面，对砖面进行第一次抛光处理；第一抛光助剂包括：硅溶胶液和氧化铝；（2）清洗砖面，去除残留氧化铝后，对砖面进行第二次抛光处理；（3）在砖面均匀涂覆一层可剥离的保护材料；将第三抛光助剂布施于保护材料的表面，对砖面进行第三次抛光处理；第三抛光助剂包括：氢氟酸溶液；（4）将具有防滑防污功能的第四抛光剂布施于砖面，对砖面进行第四次抛光处理；第四抛光剂包括：有机硅氧烷和/或有机硅氧烷的改性物。2.根据权利要求1所述的带抛光面的防滑防污瓷砖的生产工艺，其特征在于，所述步骤（1）中，砖面的微孔小于等于40μm；氧化铝的粒径为50‑100μm。3.根据权利要求1所述的带抛光面的防滑防污瓷砖的生产工艺，其特征在于，所述步骤（3）中，保护材料包括：乙烯基树脂。4.根据权利要求1所述的带抛光面的防滑防污瓷砖的生产工艺，其特征在于，所述步骤（3）中，第三抛光助剂还包括：氟化铵。5.根据权利要求4所述的带抛光面的防滑防污瓷砖的生产工艺，其特征在于，所述步骤（3）中，第三抛光助剂包括：1‑20wt%的氢氟酸溶液和占氢氟酸总质量1‑20%的氟化铵。6.根据权利要求1所述的带抛光面的防滑防污瓷砖的生产工艺，其特征在于，所述步骤（4）中，第四抛光剂的固含量为1‑20%。7.根据权利要求1‑6任意一项所述的带抛光面的防滑防污瓷砖的生产工艺，其特征在于，所述步骤（2）中，第二次抛光处理的压力为10‑15MPa；所述步骤（3）中，第三次抛光处理的压力为17‑20MPa；所述步骤（4）中，第四次抛光处理的压力为10‑12Mpa。8.根据权利要求7所述的带抛光面的防滑防污瓷砖的生产工艺，其特征在于，所述步骤（3）中，将第三抛光助剂通过抛光处理布施于保护材料的表面，压力为5‑8MPa。9.一种带抛光面的防滑防污瓷砖，其特征在于，由权利要求1‑8任意一项所述的带抛光面的防滑防污瓷砖的生产工艺制备而成。10.一种瓷砖在制备带抛光面、防滑防污的装饰基材中的用途，其特征在于，所述瓷砖由权利要求1‑8任意一项所述的带抛光面的防滑防污瓷砖的生产工艺制备而成；至少一块所述瓷砖铺贴于所述装饰基材。2CN113814801A说明书1/7页一种带抛光面的防滑防污瓷砖及其生产工艺和用途技术领域[0001]本发明涉及防滑防污瓷砖技术领域，尤其涉及一种带抛光面的防滑防污瓷砖及其生产工艺和用途。背景技术[0002]随着工业的发展，抛光面瓷砖由于其光泽度高，结合其纹理结构所表现出的装饰效果大受消费者喜爱；但抛光面瓷砖其光泽度是基于表面光滑，然而表面光滑会给抛光面瓷砖带来防滑性下降；而若提高防滑性，会导致光泽度下降，防污性差的问题，即现有的瓷砖基本难以达到光泽度高、防滑性高和防污性高的性能。发明内容[0003]本发明的目的在于提出一种带抛光面的防滑防污瓷砖的生产工艺，通过首先在砖面形成微孔，最后再打一层防滑材料，使得砖面形成微凹凸的防滑层，最终制得防滑防污的效果的抛光面防滑产品。[0004]本发明还提出一种带抛光面