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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107671691A(43)申请公布日2018.02.09(21)申请号201711018386.9(22)申请日2017.10.26(71)申请人广东科达洁能股份有限公司地址528313广东省佛山市陈村镇广隆工业园环镇西路1号(72)发明人周祖兵徐斌韦厚丞(74)专利代理机构广州圣理华知识产权代理有限公司44302代理人顿海舟李唐明(51)Int.Cl.B24B29/02(2006.01)B24B1/00(2006.01)B24B27/00(2006.01)权利要求书2页说明书5页附图2页(54)发明名称一种瓷砖抛光装置及其方法(57)摘要本发明公开了一种瓷砖抛光装置及方法,包括控制系统、瓷砖进给系统以及瓷砖抛光系统;瓷砖抛光系统包括抛光组单元、横梁摆动驱动单元以及横梁支撑架;通过设置至少两个抛光组单元及至少两个横梁摆动驱动单元,使得不同的抛光组单元可以由不同的横梁摆动驱动装置驱动,并且每个抛光组单元包括至少一个磨头;每个抛光组单元的运动是独立的,从而在瓷砖表面形成一种复合的运动轨迹,能有效减少漏抛及过磨的现象,并且提高瓷砖表面的抛光均匀度,提高瓷砖抛光效率。CN107671691ACN107671691A权利要求书1/2页1.一种瓷砖抛光装置,包括控制系统、瓷砖进给系统以及瓷砖抛光系统,其特征在于:所述瓷砖抛光系统包括抛光组单元、横梁摆动驱动单元以及横梁支撑架,所述抛光组单元的数量至少为2个,所述横梁摆动驱动单元的数量至少为2个,所述横梁支撑架的数量至少为3个;抛光组单元由横梁摆动驱动单元驱动,使得抛光组单元在横梁支撑架上摆动,每个所述抛光组单元的摆动为独立的;每个所述抛光组单元包括至少一个磨头,所述磨头固定在横梁上。2.如权利要求1所述的瓷砖抛光装置,其特征在于:相邻的两个所述抛光组单元共用一个所述横梁支撑架,所述横梁支撑架的数量比所述抛光组单元的数量多一个。3.如权利要求1所述的瓷砖抛光装置,其特征在于:所述横梁摆动驱动单元的数量与所述抛光组单元的数量相等。4.如权利要求1所述的瓷砖抛光装置,其特征在于:每个所述抛光组单元包括两个磨头。5.如权利要求1所述的瓷砖抛光装置,其特征在于:两个所述磨头可平行排列或错位排列。6.如权利要求3所述的瓷砖抛光装置,其特征在于:每个所述抛光组单元由不同的横梁摆动驱动装置驱动。7.一种应用权利要求1-6中任一项所述瓷砖抛光装置的瓷砖抛光方法,根据瓷砖规格和进给速度确定抛光组单元的起始位置和摆动频率,其特征在于,每组抛光组单元的起始位置不同,摆动频率相同;当抛光组单元摆动到瓷砖的一端,磨头伸出瓷砖边缘的距离为A时,横梁距离瓷砖的另一端最短的距离为B,抛光组单元的数量为N,第一组抛光组单元的起始位置为,第一组抛光组单元离瓷砖一边的距离为B/N;第二组抛光组单元离瓷砖的同一边的距离为2B/N;第三组抛光组单元离瓷砖的同一边的距离为3B/N...依次类推,第N组抛光组单元离瓷砖的同一边的距离为B;摆动频率根据瓷砖的进给速度和瓷砖的规格确定。8.一种应用权利要求1-6中任一项所述瓷砖抛光装置的瓷砖抛光方法,根据瓷砖规格和进给速度确定抛光组单元的起始位置和摆动频率,其特征在于:每组抛光组单元的起始位置相同,摆动频率不同;根据输入的瓷砖规格和瓷砖进给速度确定第一组抛光组单元的摆动频率,后一组抛光组单元的摆动频率比前一组抛光组单元的摆动频率大1Hz或2Hz;每组抛光单元的运动均为从磨头伸出瓷砖边缘的距离为A时的位置开始。9.一种应用权利要求1-6中任一项所述瓷砖抛光装置的瓷砖抛光方法,根据瓷砖规格和进给速度确定抛光组单元的起始位置和摆动频率,其特征在于:每组抛光组单元的起始位置不同,摆动频率不同;每组抛光组单元的起始位置按如下方法设置:当抛光组单元摆动到瓷砖的一端,磨头伸出瓷砖边缘的距离为A时,横梁距离瓷砖的另一端最短的距离为B,抛光组单元的数量为N,第一组抛光组单元的起始位置为:第一组抛光组单元离瓷砖一边的距离为B/N;第二组抛光组单元离瓷砖的同一边的距离为2B/N;第三组抛光组单元离瓷砖的同一边的距离为3B/N...依次类推,第N组抛光组单元离瓷砖的同一边的距离为B;每组抛光组单元的摆动频率按如下方法设置:根据输入的瓷砖的规格和瓷砖的进给速度确定第一组抛光组单元的摆动频率,后一组抛光组单元的摆动频率比前一组抛光组单元的摆动频率大1Hz或2Hz。2CN107671691A权利要求书2/2页10.一种应用权利要求1-6中任一项所述瓷砖抛光装置的瓷砖抛光方法,根据瓷砖规格和进给速度确定抛光组单元的起始位置和摆动频率,其特征在于:每组抛光组单元的起始位置相同,摆动频率相同;每组抛光单元的运动均为从磨头伸出瓷砖边缘的距离为A时的位