一种低残留的CF显影液及其制备方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114721237A(43)申请公布日2022.07.08(21)申请号202210368174.8(22)申请日2022.04.09(71)申请人福建省佑达环保材料有限公司地址362800福建省泉州市泉港区天盈路8号(72)发明人刘小勇田博侯琳熙房龙翔叶鑫煌肖小江刘文生(74)专利代理机构福州元创专利商标代理有限公司35100专利代理师俞舟舟蔡学俊(51)Int.Cl.G03F7/32(2006.01)权利要求书1页说明书7页(54)发明名称一种低残留的CF显影液及其制备方法(57)摘要本发明公开了一种低残留的CF显影液及其制备方法，是一种用于新型显示制造领域的高世代线CF制程用显影液，属于湿电子化学品领域，主要应用于8.5代线及以上大尺寸的TFT面板制造中。该显影液通过特定阴离子表面活性剂与有机溶剂和螯合剂协同作用，能有效提高显影精度，降低光刻胶膜渣的堵塞，易清洗不残留，特别适合水洗段设计较短的高世代线。CN114721237ACN114721237A权利要求书1/1页1.一种低残留的CF显影液，其特征在于，以质量百分含量计，其组成如下：无机碱4.5%‑10%；表面活性剂5%‑10%有机溶剂10%‑20%；螯合剂1%‑5%；去离子水余量；总质量分数之和为100%；所述表面活性剂为阴离子表面活性剂，结构如下：。2.根据权利要求1所述的低残留的CF显影液，其特征在于，所述无机碱是选自氢氧化钾、氢氧化钠、碳酸钾、碳酸钠中的一种。3.根据权利要求1所述的低残留的CF显影液，其特征在于，所述有机溶剂为丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、乙二醇己醚、二乙二醇丁醚、二乙二醇己醚、三乙二醇单丁醚中的一种或多种。4.根据权利要求1所述的低残留的CF显影液，其特征在于，所述螯合剂为乙二胺二邻苯基乙酸钠。5.根据权利要求1所述的低残留的CF显影液，其特征在于，所述去离子水为电子级去离子水，在25℃时，其电阻率不低于18MΩ。6.一种如权利要求书1‑5任一项所述的低残留的CF显影液的制备方法，其特征在于，常温下先将去离子水加入搅拌釜，在80r/min的转速下依次加入无机碱、有机溶剂、螯合剂、表面活性剂，每种材料投入后搅拌至体系澄清后再添加下一种材料；全部添加完毕后，继续搅拌30分钟，然后再依次通过2μm和0.5μm的两道滤芯进行过滤，最终获得所述显影液。2CN114721237A说明书1/7页一种低残留的CF显影液及其制备方法技术领域[0001]本发明属于新型显示制造领域，具体涉及一种低残留的CF显影液及其制备方法。背景技术[0002]在彩色滤光片(ColorFilter,CF)制作工艺中，为获得所需的精细pattern图形，需要使用光刻胶这样的感光材料，光刻胶由颜料分散液、溶剂、感光性树脂及相关添加剂组，其中含有聚合物的短链分子会因光照而交联成为长链分子。具体工艺，首先会以涂布的方式在玻璃基板或基材上形成一定厚度的薄膜，再经掩膜版曝光后，使用显影液进行显影，除去未曝光的可溶性树脂部分，以此获得所需要的图像。CF制程又可细分为黑色矩阵层（BM）、彩色光阻层（R、G、B）、间隙柱体层（PS）和保护层（OC）等多道工艺。每一道工艺都有经过完整光刻制程：清洗、涂胶、软烘、曝光、显影、硬烘后经过检测得到精准的图形才能进行到下一步。[0003]目前在CF制程的生产工厂线上基本都是使用的喷淋式显影设备，通过控制设备运转速度达到控制显影的时间长短，在显影段完成后经过再过水洗制程，将残余显影液彻底冲洗，保证产品显影品质。显影液在水洗阶段因为重复使用半循环水，引起显影液残存量逐渐升高，导致出现异常；另外显影液与光刻胶反应后的大分子光阻颗粒具有疏水性，如果显影液溶解性不佳，会导致光阻颗粒团聚，引起异常，严重时还会堵塞滤芯。显影制程的生产线都是初期设计好的，不可能为增加水洗而进行设备修改，如果延长水洗时间，又会降低产能，所以对一些水洗工序偏短的生产线，发明一种低残留的CF显影液至关重要。发明内容[0004]为解决上述技术问题，本发明提供一种低残留的CF显影液及其制备方法，该显影液通过添加特殊的表面活性剂，有效提高了大颗粒光阻分子的水溶性，再辅以特定的螯合剂，防止光阻分子的二次聚集；同时通过添加合适的有机溶剂，增强显影液的易漂洗性，在维持显影液的显影能力基础上，提高显影液的稳定性对环境友好，满足水洗制程薄弱的大尺寸TFT的生产线制程要求。[0005]本发明解决其技术问题所采用的方案为：一种低残留的CF显影液，以质量百分含量计，其组成如下：无机碱4.5%‑10%；表面活性剂5%‑10%有机溶剂10%‑20%；螯合剂1%‑5%；去离子水余量；总质量分数之和为100%。[0006]上述低残留的CF显影液中，所述无机碱是选