一种曝光机光源系统.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114779589A(43)申请公布日2022.07.22(21)申请号202210611178.4(22)申请日2022.06.01(71)申请人广东科视光学技术股份有限公司地址523000广东省东莞市东城区主山振兴路333号（B幢一楼）(72)发明人陈志特王华吴中海(74)专利代理机构深圳市华盛智荟知识产权代理事务所(普通合伙)44604专利代理师王晓艳(51)Int.Cl.G03F7/20(2006.01)权利要求书2页说明书7页附图3页(54)发明名称一种曝光机光源系统(57)摘要本发明提供了一种曝光机光源系统，涉及曝光机领域，包括光源组件、回转阻挡组件和清洗组件；光源组件包括激光器，激光器具有出射口；清洗组件包括清洗腔；回转阻挡组件包括回转件和挡片组，回转件沿预设轨迹回转，每一组挡片组包括若干个反射件，反射件固结在回转件的外侧预设位置上，且反射件具有反射面；在回转件的回转过程中，反射件均经过工作区和清洗区，且同一组挡片组中的反射件能够同时位于工作区上；当一组挡片组中的反射件同时位于工作区中时，挡片组中的所有反射件的反射面位于一预设凹曲面上。该曝光机光源系统，利用动态运动的回转阻挡组件取代静态的反射镜，并通过清洗组件及时清理燃烧残留物，可实现及时清理燃烧残留物的功能。CN114779589ACN114779589A权利要求书1/2页1.一种曝光机光源系统，其特征在于，包括光源组件、回转阻挡组件和清洗组件；所述光源组件包括激光器，所述激光器具有出射口，以所述出射口的指向方向为基准，距离所述出射口预设距离的位置为打击位置；所述清洗组件包括清洗腔；所述回转阻挡组件包括回转件和挡片组，所述回转件沿预设轨迹回转，每一组所述挡片组包括若干个反射件，每一个反射件固结在所述回转件的外侧预设位置上，且每一个反射件具有预设结构的反射面；基于空间位置进行划分，所述回转件具有工作区和清洗区；所述工作区位于所述打击位置与所述出射口之间，所述清洗区位于所述清洗腔内；在所述回转件的回转过程中，每一个反射件均经过所述工作区和所述清洗区，且同一组所述挡片组中的所有反射件能够同时位于所述工作区上；当一组所述挡片组中的所有反射件同时位于所述工作区中时，所述挡片组中的所有反射件的反射面位于一预设凹曲面上，所述预设曲面具有唯一的焦点，所述挡片组在所述出射口与所述打击位置的连线经过位置上设置有透光结构。2.如权利要求1所述的曝光机光源系统，其特征在于，所述回转件在工作区中的轨迹为直线；在一组所述挡片组中，每一个所述反射件均经过对应的连接件固结在所述回转件的外侧预设位置上，且从所述挡片组的边缘至所述挡片组的中部，连接件的长度逐渐减小。3.如权利要求2所述的曝光机光源系统，其特征在于，所述回转件在清洗区中的轨迹为朝远离所述激光器方向凸起的弧线轨迹。4.如权利要求1所述的曝光机光源系统，其特征在于，所述回转件在工作区中的轨迹为朝所述出射口凹陷的弧线轨迹；在一组所述挡片组中，每一个所述反射件均经过对应的连接件固结在所述回转件的外侧预设位置上，且所有连接件的长度相同。5.如权利要求4所述的曝光机光源系统，其特征在于，所述回转件在清洗区中的轨迹为直线。6.如权利要求1所述的曝光机光源系统，其特征在于，所述清洗组件包括超声波震荡模块，所述超声波震荡模块位于所述清洗腔中；所述超声波震荡模块的作用对象为反射件。7.如权利要求6所述的曝光机光源系统，其特征在于，每一个反射件通过连接单元固结在所述回转件的外侧预设位置上；所述连接单元具有松动状态和固定状态，且所述连接单元能够在所述松动状态和所述固定状态重复切换；所述连接单元处于所述固定状态时，所述反射件与所述连接单元之间刚性连接，所述连接单元处于所述松动状态时，所述反射件与所述连接单元脱离刚性连接；所述反射件位于所述工作区时，所述反射件对应的连接单元为固定状态；所述反射件位于所述清洗区时，所述反射件对应的连接单元为松动状态。8.如权利要求7所述的曝光机光源系统，其特征在于，所述连接单元的松动状态和固定状态通过物理开关或电子开关切换。2CN114779589A权利要求书2/2页9.如权利要求7所述的曝光机光源系统，其特征在于，所述连接单元包括固定块、活动杆和控制件；所述活动杆的根部为软杆，所述活动杆的端部为硬杆，所述连接单元对应的反射件与所述硬杆连接固定；所述固定块设置有适配所述活动杆的盲孔，所述活动杆配合在所述盲孔中；所述控制件用于控制所述活动杆的根部与所述盲孔的底部的距离。10.如权利要求9所述的曝光机光源系统，其特征在于，所述控制件包括一个限位件、一个受力磁体、一个永磁体和一个电磁体；所述限位件用于防止所述活动杆从所述盲孔中脱出；所述永磁体和所述电磁体均嵌在所述盲孔的