一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115181975A(43)申请公布日2022.10.14(21)申请号202210641684.8(22)申请日2022.06.08(71)申请人安徽应友光电科技有限公司地址239500安徽省滁州市全椒县十谭现代产业园(72)发明人李韬略(51)Int.Cl.C23F1/36(2006.01)C25D11/10(2006.01)C25D11/16(2006.01)C23F17/00(2006.01)B08B3/02(2006.01)权利要求书1页说明书4页(54)发明名称一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺(57)摘要本发明公开了一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺，其工艺流程如下：S1、测量DIFF孔径大小；S2、使用挂具装挂DIFF；S3、脱脂清洗处理脏污；S4、高压冲洗脱脂清洗处理残留药液；S5、碱腐蚀去除表面加工痕和部分的孔内毛刺；S6、中和处理除去碱腐蚀中表面产生的污灰物；S7、高压冲洗中和处理药液残留；S8、电化学处理使DIFF孔内毛刺在电解液中溶解，同时表面形成一定的AL2O3膜层；S9、水洗；S10、高压冲洗水洗残留；S11、碱腐蚀去除DIFF表面氧化铝膜层及孔内残留毛刺；S12、测量DIFF孔径是否达标。CN115181975ACN115181975A权利要求书1/1页1.一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺，其特征在于，其工艺流程如下：S1、测量DIFF孔径大小；S2、使用挂具装挂DIFF；S3、脱脂清洗处理脏污；S4、高压冲洗脱脂清洗处理残留药液；S5、碱腐蚀去除表面加工痕和部分的孔内毛刺；S6、中和处理除去碱腐蚀中表面产生的污灰物；S7、高压冲洗中和处理药液残留；S8、电化学处理使DIFF孔内毛刺在电解液中溶解，同时表面形成一定的AL2O3膜层；S9、水洗；S10、高压冲洗水洗残留；S11、碱腐蚀去除DIFF表面氧化铝膜层及孔内残留毛刺；S12、测量DIFF孔径是否达标。2.根据权利要求1所述的一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺，其特征在于：所述S3中脱脂清洗处理的槽液由铝材脱脂剂跟纯水构成，浓度在30‑40g/L，温度50‑60℃，浸泡时间5‑10min。3.根据权利要求1所述的一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺，其特征在于：所述S4、S7和S10中高压冲洗使用高压冲洗枪，压力设置0.8MPa以上，距离15‑30cm对产品表面进行冲洗。4.根据权利要求1所述的一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺，其特征在于：所述S5中碱腐蚀的槽液由分析纯NaOH跟纯水构成，浓度在2‑5g/L，温度30‑40℃，浸泡时间30‑60s。5.根据权利要求1所述的一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺，其特征在于：所述S6中中和处理槽液由硝酸跟纯水构成，浓度在200‑300g/L，温度30‑40℃，浸泡时间3‑10min。6.根据权利要求1所述的一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺，其特征在于：所述S8中电化学处理的槽液由草酸跟纯水构成，浓度在30‑40g/L，温度20‑25℃。7.根据权利要求1所述的一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺，其特征在于：所述S9中水洗的槽液由纯水构成，将产品浸泡槽内，时间5‑10min。8.根据权利要求1所述的一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺，其特征在于：所述S11中碱腐蚀处理的槽液由分析纯NaOH跟纯水构成，浓度在15‑20g/L，温度35‑40℃，浸泡时间2‑3min。2CN115181975A说明书1/4页一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺技术领域[0001]本发明涉及液晶显示面板生产技术领域，具体为一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺。背景技术[0002]在液晶显示面板的制造过程中，需要使用化学气相沉积(Chemicalvapordeposition，简称CVD)工艺在玻璃基板表面沉积一些功能薄膜。CVD设备中采用了一种气体扩散器Diffuser（以下简称DIFF）来进行沉积成膜，在CVD工艺过程中，除了一些特定气体外，在反应腔室内还需通电对气体解离形成Plasma（电浆），反应过程中如发生Arcing会损坏液晶面板玻璃和设备。[0003]DIFF新品为6061系铝材，孔径大小在0.4‑0.5mm之间，新品加工后孔内存在大量的毛刺无法进行表面研磨处理，且孔内的毛刺在CVD设备作业过程中发生Arcing的概率会大大提升，因此需对DIFF新品孔内毛刺进行去除，现有技术中对孔内毛刺去除的成本较大，无法更好的处理，为此我们提出一种去除DIFFUSER新品孔内毛刺的工艺用于解决上述问题。发明内容[0004]本发明的目的在于提供一种去除DIFFUSER新