TiO_2薄膜论文：修正板改善薄膜厚度均匀性的研究.doc

TiO_2薄膜论文：修正板改善薄膜厚度均匀性的研究

【中文摘要】经过一百多年的发展,薄膜光学已经成为近代光学的重要分支。光学薄膜技术在理论、设计、计算和工艺方面已形成了完整的体系,一些新型微观结构的功能薄膜被不断开发出来,这些功能薄膜的相继出现,使得光学薄膜技术广泛地渗透到各个新兴的科学研究领域中。薄膜技术也逐渐成为高科技产品加工技术中的重要手段。而其制备过程中可能会存在的膜层均匀性问题,是一个非常值得注意的问题。薄膜厚度的均匀性,反映了待镀基片上所沉积的薄膜厚度依基片在真空室里所处位置的变化而变化的情况。膜厚均匀性包括两个方面：一是在同一组镀制过程中处于不同基片位置沉积的薄膜有近似的膜厚分布；二是获得的每片薄膜只存在一定范围内的膜厚误差分布。前者保证产业化的镀膜效率,后者保证每个成品的性能。膜厚均匀性是衡量镀膜装置性能和薄膜质量的一项重要指标,直接影响到镀膜器件的可靠性、稳定性,以及产品的一致性。对光学、光电等器件生产的成品率影响很大。因此,需要把握膜厚的分布规律,寻求大面积、最佳膜厚均匀性的薄膜。本文介绍了制备薄膜的几种物理气相沉积方法的原理和特点：真空蒸发、溅射、离子镀。对膜厚均匀性的影响因素作了分析,包括蒸发源、基板温度、基板与蒸发源相对位置、真空...
【英文摘要】Filmopticshasbecomeanimportantbranchofmodernopticsafterahundredyearsofdevelopment.Thetechnologyoffilmopticshasformedcompletesystemintheory,design,calculationandpreparationcraft.Alotofdifferentfunctionalfilmshavebeenproducedwhichmadeopticalfilmstechnologybewidelyusedinemergingscientificresearcharea.Filmtechnologyhasgraduallybecomeasignificantmethodinprocessingtechnologyofhightechnologyproducts.Duringtheprocessofpreparation,theuniformi...
【关键词】TiO_2薄膜电子束蒸发膜厚均匀性修正档板
【英文关键词】TiO_2filmsElectronbeamevaporationThicknessuniformityModifyingmask
【目录】修正板改善薄膜厚度均匀性的研究

摘要

4-5

ABSTRACT

5-6

第1章绪论

9-24

1.1光学薄膜的发展及应用

9-12

1.1.1光学薄膜的研究与现状

9-10

1.1.2光学薄膜制备工艺的发展

10-11

1.1.3光学薄膜的应用

11-12

1.2薄膜的几种物理气相沉积制备方法

12-16

1.2.1真空蒸发

13-14

1.2.2溅射

14-15

1.2.3离子镀

15-16

1.3薄膜膜厚的均匀性及影响因素

16-22

1.3.1光学薄膜理论膜厚

16-18

1.3.2薄膜均匀性的影响因素

18-22

1.4本论文研究的背景、意义和内容

22-24

第2章光学薄膜的制备及膜厚分布

24-35

2.1实验设备

24-27

2.1.1真空的获得

25-26

2.1.2电子束蒸发

26-27

2.2薄膜的制备

27-28

2.2.1膜料属性

27-28

2.2.2TiO2薄膜的制备工艺

28

2.3几种常用夹具下的膜厚分布

28-33

2.3.1平面转动夹具

29-30

2.3.2球面转动夹具

30-31

2.3.3行星夹具

31-33

2.4薄膜光学常数的计算

33-35

第3章薄膜理论膜厚分布及实验验证

35-39

3.1球面夹具下的理论分析

35-36

3.2实验验证

36-38

3.3结果分析

38-39

第4章修正档板设计

39-44

4.1引言

39

4.2论设计

39-42

4.3实验验证

42-44

第5章全文总结

44-45

参考文献

45-49

致谢

49