一种改善氮化钽薄膜均匀性的制备工艺.pdf

本发明公开了一种改善氮化钽薄膜均匀性的制备工艺,包括以下步骤:步骤1、将基材传入工艺腔室;步骤2、对工艺腔室抽真空处理;步骤3、在最低的启辉功率下向工艺腔室通入氩气2?5min;步骤4、在正常功率下通入氩气和氮气进行氮化钽薄膜制备。在最低启辉功率下,利用氩气的辉光放电对基片的表面进行等离子处理,有效改善成核的均匀性,改善膜层的质量,提升产品合格率。