增透膜与高反膜.doc
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增透膜与高反膜薄膜干涉使用扩展光源,虽然相干性不好,但因能在明亮环境观察,所以实用价值高。利用上述原理可以测定薄膜的厚度e或光波波长。在光学器件上镀上一层厚度为d的薄膜,使强度相等的两束反射光(或透射光)的光程差满足干涉加强(=k)或减弱(=(k+1/2))条件,可以提高光学器件的透射率或反射率。增加透射率(即透射光的光程差=k)的薄膜叫增透膜,增加反射率(即反射光的光程差=k)的薄膜叫高反膜。增透膜和高反膜常用在光学仪器的镜头上。由于相邻两束光的强度不等,实际常采用多层膜,使高反膜的
增透膜和增反膜.docx
增透膜和增反膜1增透膜当光从空气n1=1到玻璃n2=1.5,代入得R=4%,即透镜表面约反射4%的入射光.在各种光学仪器中,为了矫正像差或其他原因,往往采用多透镜的镜头.为了避免反射损失,在近代光学中都在透镜表面敷上一层薄膜,其折射率小于仪器基板折射率使入射光在薄膜上下两表面的反射光干涉相消,就可使反射光能减小,透射光能相对增大,这样的膜,叫做增透膜或消反膜。显然,仅镀一层增透膜不可能同时对所有的波长和所有入射角都是消反射的。2对目视光学仪器人眼视觉最敏感的波长是λ0=550nm的绿光至黄绿光,对照相底片
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193nm氟化物高反膜研究摘要:本文研究了193nm氟化物高反膜技术的相关问题。通过对氟化物高反膜技术的常见材料、制备方法、成膜性能参数的介绍和分析,结合目前应用的现状进行了深入剖析和阐述。结论表明:随着半导体工业的不断发展,氟化物高反膜技术在大规模集成电路制备中将得到更广泛的应用和推广,同时,氟化物高反膜技术的研究和发展也将成为未来材料科学领域的一个重要研究方向。关键词:氟化物高反膜;半导体工业;集成电路制备第一章绪论193nm氟化物高反膜技术是半导体工业中重要的加工技术之一,广泛应用于半导体制造工艺。