铜及铜合金电化学抛光.pdf

卷第9期Vro-．27No．9

【抛光】

铜及铜合金电化学抛光

张述林，罗秭，陈世波

(1．四川理工学院材料与化学工程系，四川白贡463000；2．东方钢管有限公司，山东潍坊261011)

摘要：在酸性条件下对紫铜进行了电化学抛光，其工艺流程而电化学抛光可以代替许多金属机械精加工工序，且
主要包括：除油，活化，电化学抛光和真空干燥。采用正交试
不受加工尺寸、材料组成和零件形状等的限制。电化
验，讨论了抛光液中各组分及各工艺参数对抛光效果的影响，
学抛光通常所用的基础电解液主要由磷酸系、硫酸系、
得出了最佳配方和工艺条件：30％硫酸+60％磷酸+5％去离子
水+5％添加剂(即3％乙醇+1．8％尿素+0．2％苯并三氮唑)，磷酸一硫酸系、磷酸一铬酐、硫酸一铬酐或磷酸—硫酸一铬
温度45oC，电流密度40A／dm。酐，再配以各种添加剂组合而成【2]。因铬酐有毒，污染
关键宇：铜及铜合金；电化学抛光；正交试验；苯并三氮唑环境，故选择磷酸一硫酸系为研究对象，以新型添加剂
中图分类号：TG175文献标志码：A取代铬酐L3]。本文在酸性条件下对紫铜进行了电化学
文章编号：1004—227X(2008)09—0026—03
抛光的研究，通过试验找到了最佳工艺条件。经过处
Electrochemicalpolishingofcopperanditsalloys／／
ZHANGShu—lin．LUOWei．CHENShi—bo理后的铜具有镜面光泽，起到了美化产品的作用。
Abstract：Redcopperwaselectrochemicallypolishedunder
2实验
acidicconditions。TheprocessflOWmainlyincludes
degreasing，activating，electrochemicalpolishingandvacuum2．1试验材料
drying．Theeffectsofbathcompositionandprocess将紫铜加工成50nⅡn×251Tim×3mm的块状，并
parametersonpolishingeffectwerediscussedbyo~hogonal
且一端打上直径为3mm的小孔。加工时防止试件过
test．Theoptimalformulationandprocessconditionswere
热，因为过热将改变试件的晶体结构，抛光时可能产
obtainedasfollows：30％sulfuricacid+60％phosphoric
acid+5％deionizedwater+5％additivefnamely3％生纹路和划痕。如果试件的表面粗糙度很大，先进行
ethanol+l。8％urea+0．2％benzotriazole1，temperature机械抛光，这样有利于缩短电化学抛光的时间和延长
45。C．andcurrentdensity40A／dm。抛光液的使用寿命。
Keywords：copperanditsalloy；electrochemicalpolishing；
2．2试剂和仪器
o~hogonaltest；benzo仃iazole
First．author’Saddress：CollegeofMaterials&Chemical试剂：苯并三氮唑，磷酸，硫酸，OP—l0，碳酸钠，
Engineering，SichuanLigongUniversity，Zigong463000，磷酸钠，氢氧化钠。
China仪器：85—2型磁力搅拌机(上海司乐仪器厂)，
DB一207SGB真空干燥箱(成都天宇试验设备有限公
1前言司)，DHl7l8D一2双路跟踪稳压稳流电源(北京福凯仪

铜及铜合金具有良好的导热性及导电性，被广泛器有限公司)。
应用于电子、开关、军工产品等方面。抛光是金属表2．3工艺流程
面处理的常用方法之一，其目的是为了消除金属表面除油～水洗一活化一水洗～电化学抛光一水洗～
的细微不平，使表面具有镜面光泽。抛光主要分为机真空干燥。
械抛光、化学抛光、电化学抛光等n]。机械抛光的生产除油采用常用的碱性除油液(碳酸钠+磷酸钠+
强度较大，化学抛光会产生大量NOx、SOz等有害气体；OP—l0)。活化在l0％～l5％(质量分数，下同)的H2SO4
中预浸，操作时问越短越好，以防发生过腐蚀现象。
收稿日期：2008-05—12修回日期：2008—05—3O电解抛光以不锈钢作阴极，铜试件作阳极，时问5min。
作者简介：张述林(1964-)，男，四川自贡人，副教授，研究方向为
2．4正交试验
应用化学。
抛光液组成为：90％基础液+5％水+5％添加剂
作者联系方式：(Email)[e-mail]。

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