掩模检查装置和方法以及虚拟图产生装置和方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利(10)授权公告号(10)授权公告号CNCN101826475101826475B(45)授权公告日2015.02.11(21)申请号201010107033.8C23C16/04(2006.01)(22)申请日2010.01.29(56)对比文件(30)优先权数据JP特开2006-171816A,2006.06.29,10-2009-00184612009.03.04KRJP特开2001-50906A,2001.02.23,JP特开2003-149161A,2003.05.21,(73)专利权人三星显示有限公司CN1030846A,1989.02.01,地址韩国京畿道审查员程凯芳(72)发明人赵赞衡闵卿旭(74)专利代理机构北京德琦知识产权代理有限公司11018代理人罗正云王琦(51)Int.Cl.H01L21/66(2006.01)H01L21/00(2006.01)H01L51/56(2006.01)G01N21/88(2006.01)C23C14/04(2006.01)权权利要求书2页利要求书2页说明书7页说明书7页附图5页附图5页(54)发明名称掩模检查装置和方法以及虚拟图产生装置和方法(57)摘要本发明涉及一种掩模检查装置和方法以及虚拟图产生装置和方法。掩模检查装置用于检查以期望图案进行沉积中所用到的具有多个开口的掩模，能够通过掩模的开口检查掩模的缺陷。掩模检查装置包括：检测单元，检测掩模的开口中的每一个的边界线；存储单元，存储待被利用掩模执行沉积的部件的信息；设置单元，利用所存储的待被执行沉积的部件的信息为开口中的每一个设置第一边界线、第二边界线和安全区域，其中第一边界线形成沉积区域的轮廓，第二边界线包围第一边界线，安全区域插入在第一边界线与第二边界线之间；以及控制单元，确定被检测单元检测的掩模的边界线是否不接触第一边界线和第二边界线以及边界线是否在安全区域中。CN101826475BCN10826475BCN101826475B权利要求书1/2页1.一种掩模检查装置，用于检查以期望图案进行沉积中所用到的具有多个开口的掩模，所述装置包括：检测单元，检测所述掩模的所述多个开口中的每一个的边界线；存储单元，存储与待被利用所述掩模执行沉积的部件有关的信息；设置单元，利用所存储的与待被执行沉积的部件有关的信息为所述多个开口中的每一个设置第一边界线、第二边界线和安全区域，其中所述第一边界线形成相应的开口的沉积区域的轮廓，所述第二边界线包围所述第一边界线，所述安全区域插入在所述第一边界线与所述第二边界线之间；以及控制单元，确定被所述检测单元检测的所述掩模的所述多个开口中的每一个的被检测到的边界线是否不接触相应的第一边界线和相应的第二边界线并且所述被检测到的边界线是否存在于相应的安全区域中，其中所述与待被执行沉积的部件有关的信息包括与基板、所述基板上的室和子像素以及所述子像素之间的间距有关的信息。2.根据权利要求1所述的掩模检查装置，其中所述设置单元根据所述与待被执行沉积的部件有关的信息将所述第一边界线、所述第二边界线和所述安全区域设置为虚拟图。3.根据权利要求1所述的掩模检查装置，其中所述检测单元是电荷耦合器件照相机。4.根据权利要求1所述的掩模检查装置，进一步包括输出单元，用于输出与所述多个开口中的一些开口有关的信息，其中所述一些开口的被检测到的边界线接触相应的第一边界线和相应的第二边界线中的至少一个并且不存在于相应的安全区域中。5.一种检查掩模的方法，所述掩模具有多个开口并用于以期望图案进行沉积，所述方法包括：准备以期望的图案进行沉积中所用到的具有多个开口的所述掩模，所述多个开口以预定的图案形成；根据与待被执行沉积的部件有关的信息为所述多个开口中的每一个设置第一边界线、第二边界线和安全区域，其中所述第一边界线形成相应的开口的沉积区域的轮廓，所述第二边界线包围所述第一边界线，所述安全区域在所述第一边界线与所述第二边界线之间；以及确定所述掩模的所述多个开口中的每一个的被检测到的边界线是否不接触相应的第一边界线和相应的第二边界线并且所述被检测到的边界线是否存在于相应的安全区域中，其中所述与待被执行沉积的部件有关的信息包括与基板、在所述基板上的室和子像素以及所述子像素之间的间距有关的信息。6.根据权利要求5所述的检查掩模的方法，其中在设置所述第一边界线、所述第二边界线和所述安全区域的过程中，根据所述与待被执行沉积的部件有关的信息将所述第一边界线、所述第二边界线和所述安全区域存储为虚拟图。7.根据权利要求5所述的检查掩模的方法，其中使用检测单元来检测所述多个开口的被检测到的边界线。8.根据权利要求7所述的检查掩模的方法，其中所述检测单元是电荷耦合器件照相机。9.根据权利要求5所述