微透镜阵列制备装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102233634A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102233634A(43)申请公布日2011.11.09(21)申请号201010158503.3(22)申请日2010.04.28(71)申请人鸿富锦精密工业（深圳）有限公司地址518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号申请人鸿海精密工业股份有限公司(72)发明人陈祥弘(51)Int.Cl.B29C43/02(2006.01)B29C43/52(2006.01)B29L11/00(2006.01)权利要求书1页说明书2页附图3页(54)发明名称微透镜阵列制备装置(57)摘要本发明提供一种微透镜阵列制备装置，用于在基材表面成形微透镜阵列，其特征在于：所述制备装置包括一张紧装置、一压印滚轮和一冷却设备，所述张紧装置张紧固定基材于压印滚轮表面并带动基材运动；所述压印滚轮设置有多个加热条和压印孔，基材与压印滚轮贴合部分经加热条加热成软化状态后被吸入压印孔中；所述冷却设备用于持续固化受张紧装置带动与压印孔脱离的基材部分而在基材表面成型微透镜阵列。CN102364ACCNN110223363402233636A权利要求书1/1页1.一种微透镜阵列制备装置，用于在基材表面成形微透镜阵列，其特征在于：所述制备装置包括一张紧装置、一压印滚轮和一冷却设备，所述张紧装置张紧固定基材于压印滚轮表面并带动基材运动；所述压印滚轮设置有多个加热条和压印孔，基材与压印滚轮贴合部分经加热条加热成软化状态后被吸入压印孔中而在基材表面成型微透镜阵列；所述冷却设备用于持续固化受张紧装置带动与压印孔脱离的微透镜阵列。2.根据权利要求1所述的微透镜阵列制备装置，其特征在于：所述张紧装置包括平行设置于压印滚轮两端的第一滚轮和第二滚轮，所述两滚轮旋转使得基材张紧固定于压印滚轮表面并相对压印滚轮运动。3.根据权利要求2所述的微透镜阵列制备装置，其特征在于：所述第一滚轮和第二滚轮的转动速度相同，可通过调解第一滚轮和第二滚轮的转动速度来调整基材的运动速度及张紧程度。4.根据权利要求1所述的微透镜阵列制备装置，其特征在于：所述压印滚轮为一空心圆柱体，所述多个加热条平行滚轮轴线设置于滚轮的内壁上。5.根据权利要求4所述的微透镜阵列制备装置，其特征在于：所述压印孔阵列开设于压印滚轮外壁上。6.根据权利要求5所述的微透镜阵列制备装置，其特征在于：所述压印滚轮两端开设有吸气孔，所述制备装置还包括一吸气设备，所述吸气孔连通压印孔和该吸气设备。7.根据权利要求1所述的微透镜阵列制备装置，其特征在于：所述冷却设备向外输出特定温度的气体。2CCNN110223363402233636A说明书1/2页微透镜阵列制备装置技术领域[0001]本发明涉及一种微透镜阵列的制备装置，尤其涉及一种可改善影像感应器感光灵敏度的微透镜阵列的制备装置。背景技术[0002]微透镜阵列(MicroLensArray；MLA)广泛应用于影像感应器当中，例如电荷耦合元件(Charge-coupledDevice；CCD)和互补金属氧化物半导体(ComplementaryMetalOxideSemiconductor；CMOS)影像感应器，用于改善其感光灵敏度。[0003]采用UV固化材料制作微透镜阵列，一般在基材表面涂布一层UV固化材料，通过压印于基材表面成型微透镜阵列，最后通过UV固化使得微透镜固定于基材表面。使用该方法制备微透镜阵列，步骤复杂且成本高。发明内容[0004]有鉴于此，有必要提供一种制备步骤简单且成本低廉的微透镜阵列制备装置。[0005]一种微透镜阵列制备装置，用于在基材表面成形微透镜阵列，所述制备装置包括一张紧装置、一压印滚轮和一冷却设备，所述张紧装置张紧固定基材于压印滚轮表面并带动基材运动；所述压印滚轮设置有多个加热条和压印孔，基材与压印滚轮贴合部分经加热条加热成软化状态后被吸入压印孔中；所述冷却设备用于持续固化受张紧装置带动与压印孔脱离的基材部分而在基材表面成型微透镜阵列。[0006]本发明提供一种微透镜阵列制备装置，该制备装置结构简单且相比现有的使用UV固化材料制备微透镜阵列步骤简单，成本低廉。附图说明[0007]图1为本发明一较佳实施方式微透镜阵列制备装置的示意图。[0008]图2为图1所示微透镜阵列制备装置内压印滚轮的立体图。[0009]图3为图1所示微透镜阵列制备装置内压印滚轮的剖视图。[0010]主要元件符号说明[0011]微透镜阵列制备装置100[0012]基材200[0013]张紧装置10[0014]第一滚轮11[0015]第二滚轮12[0016]压印滚轮20[0017]加热条21[0018]压印孔22[0019]端盖233CCNN110223363402233