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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102398338A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102398338A(43)申请公布日2012.04.04(21)申请号201010287334.3(22)申请日2010.09.17(71)申请人奇美实业股份有限公司地址中国台湾台南县(72)发明人陈信宏曾炜展王崇豪(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277代理人刘新宇李茂家(51)Int.Cl.B29C43/28(2006.01)B29C43/58(2006.01)B29L11/00(2006.01)权利要求书1页说明书7页附图4页(54)发明名称具有高转写率的微结构光学板的制造方法(57)摘要一种具有高转写率的微结构光学板的制造方法,所述制造方法将一个模头内的高温树脂原料压出,然后将其注入一支压制滚轮与一支转写滚轮间,再注入一个可受光照而硬化的光敏树脂材料以流动在所述树脂原料与转写滚轮的表面间并提供光照。通过适当调控模头压出的料温,及树脂原料接触至转写滚轮时的温度,而让树脂原料维持较佳的高温及可挠曲性,以弯折覆贴在转写滚轮的轮面上,再搭配高流动性并受光照而硬化成型的光敏树脂材料,可获得微结构转写率高的微结构光学板。CN102398ACCNN110239833802398337A权利要求书1/1页1.一种具有高转写率的微结构光学板的制造方法,配合一个成型装置来制造一片微结构光学板,所述成型装置包含:一个可压出熔融态树脂原料的模头、一支转写滚轮,以及一组光照设备,所述转写滚轮的轮面上具有多个转写微结构,相邻的转写微结构间共同界定一个成型空间,其特征在于,该制造方法包含:一个压出步骤,用以将所述模头内的树脂原料压出,并与该转写滚轮接触而弧覆于转写滚轮的轮面上,并续受转写滚轮带动,所述树脂原料与转写滚轮接触时的温度控制在树脂原料的玻璃化转变温度到其玻璃化转变温度+100℃的范围内;一个充填步骤,使一种可受光照而硬化的光敏树脂材料注入所述成型空间,且该位于成型空间内的光敏树脂材料受所述弧覆于转写滚轮轮面的树脂原料所封闭覆盖;及一个光照成型步骤,使所述被封盖于成型空间内的光敏树脂材料受该光照设备照射而硬化成型。2.根据权利要求1所述的具有高转写率的微结构光学板的制造方法,其特征在于,该微结构光学板的厚度为0.1~10毫米。3.根据权利要求1所述的具有高转写率的微结构光学板的制造方法,其特征在于,该树脂原料与转写滚轮接触时的温度控制在树脂原料的玻璃化转变温度到其玻璃化转变温度+80℃范围内。4.根据权利要求1所述的具有高转写率的微结构光学板的制造方法,其特征在于,该树脂原料与转写滚轮接触时的温度控制在树脂原料的玻璃化转变温度到其玻璃化转变温度+60℃范围内。5.根据权利要求1所述的具有高转写率的微结构光学板的制造方法,其特征在于,该树脂原料与转写滚轮接触时的温度控制在树脂原料的玻璃化转变温度到其玻璃化转变温度+40℃范围内。6.根据权利要求1所述的具有高转写率的微结构光学板的制造方法,其特征在于,由该模头内压出的树脂原料通过一段冷却空间后再与转写滚轮接触,而该冷却空间使树脂原料与转写滚轮接触时的温度控制在树脂原料的玻璃化转变温度到其玻璃化转变温度+100℃范围内。7.根据权利要求6所述的具有高转写率的微结构光学板的制造方法,其特征在于,该冷却空间位于空气中。8.根据权利要求1所述的具有高转写率的微结构光学板的制造方法,其特征在于,所述光敏树脂材料利用喷涂方式而注入,其喷涂速度介于50立方厘米/分钟·米~1200立方厘米/分钟·米之间,而所述光敏树脂材料为紫外光硬化胶、红外光硬化胶或卤素光硬化胶。9.根据权利要求1所述的具有高转写率的微结构光学板的制造方法,其特征在于,该制造方法还包含一个在微结构光学板上贴覆一片保护膜的贴膜步骤。10.根据权利要求1所述的具有高转写率的微结构光学板的制造方法,其特征在于,所述光照射设备位于转写滚轮旁,并邻近树脂原料弧覆于转写滚轮的轮面处,而所述光照射设备是紫外光光照设备。2CCNN110239833802398337A说明书1/7页具有高转写率的微结构光学板的制造方法技术领域[0001]本发明涉及一种微结构光学板的制造方法,特别涉及一种用来制造例如扩散板、导光板或其它具有不同光学效果的光学板,且制得的光学板具有高微结构转写率的制造方法。背景技术[0002]在特开2001-113538的日本公开专利案中,图1显示一种在光学膜上成型微结构的技术,其将一片绕曲成卷筒状的光学膜基材1引取拉出,并在所述基材1表面涂布一层紫外光硬化树脂10,接着通过一个表面具微结构图案的转写滚轮11压印,同时用一组光照设备12照光,并加上后续的压延膜贴步骤(图未示)而形成一片表面具突出微结构13的多