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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利(10)授权公告号(10)授权公告号CNCN102759764102759764B(45)授权公告日2014.09.24(21)申请号201110164819.8EP0728580A1,1996.08.28,全文.CN1894625A,2007.01.10,1-14.(22)申请日2011.06.14CN1904651A,2007.01.31,全文.(30)优先权数据CN100437260C,2008.11.26,全文.1001142772011.04.25TWTW200724379A,2007.07.01,全文.(73)专利权人奇美实业股份有限公司WO2009/145049A1,2009.12.03,全文.地址中国台湾台南市JP特开2007-196397A,2007.08.09,全文.(72)发明人陈信宏郭俊良王崇豪审查员杜乃锋(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277代理人刘新宇李茂家(51)Int.Cl.G02B5/02(2006.01)G02B6/00(2006.01)(56)对比文件CN101142068A,2008.03.12,全文.JP特开2001-113538A,2001.04.24,全文.权权利要求书2页利要求书2页说明书8页说明书8页附图5页附图5页(54)发明名称具有高转写率的微结构光学板的制造方法及其成型装置(57)摘要一种具有高转写率的微结构光学板的制造方法及其成型装置,所述制造方法是将一模头内的高温树脂原料压出,然后将其注入二个间隔的压制滚轮使树脂原料被滚压而表面平坦,接着该树脂原料受到一转写滚轮滚压,并注入一可受光照而硬化的光敏树脂材料以流动于该树脂原料与该转写滚轮的表面间并提供光照。通过适当调控该模头压出的料温,及树脂原料接触至转写滚轮时的温度,而可让树脂原料维持较佳的高温可挠曲性以弯折覆贴于转写滚轮的轮面上,搭配高流动性并受光照而硬化成型的光敏树脂材料,可获得微结构转写率高的微结构光学板。CN102759764BCN10275964BCN102759764B权利要求书1/2页1.一种具有高转写率的微结构光学板的制造方法,其特征在于,所述制造方法配合成型装置来制造微结构光学板,所述成型装置包含:一个可压出熔融的树脂原料的模头、二个间隔的压制滚轮、一个位于所述压制滚轮下游处的转写滚轮、以及一个光照设备,所述转写滚轮的轮面上具有多个转写微结构,相邻的转写微结构之间共同界定一个成型空间,所述具有高转写率的微结构光学板的制造方法,包含:压出步骤:将所述模头内的树脂原料压出并通过所述两压制滚轮之间,被压制滚轮滚压后的树脂原料的表面平坦,并与所述转写滚轮接触而弧覆于所述转写滚轮的轮面上并受所述转写滚轮滚压带动,其中,所述树脂原料与转写滚轮接触时的温度控制在所述树脂原料的Tg℃~Tg+100℃范围内,Tg表示玻璃化转变温度;充填步骤:使一个可受光照而硬化的光敏树脂材料注入所述成型空间,并使成型空间受所述弧覆于所述转写滚轮轮面的树脂原料所覆盖;及光照成型步骤:使所述光照设备发出的光线朝所述转写滚轮照射,并使充填于成型空间内的光敏树脂材料受到光照而硬化成型;所述成型装置还包含一个位于所述转写滚轮的一侧的反射镜,所述光照成型步骤是使所述光照设备发出的光线被所述反射镜反射而朝所述转写滚轮照射,进而使充填于所述成型空间内的光敏树脂材料受到光照而硬化成型。2.根据权利要求1所述的具有高转写率的微结构光学板的制造方法,其特征在于,所述两压制滚轮为上下设置。3.根据权利要求1所述的具有高转写率的微结构光学板的制造方法,其特征在于,所述微结构光学板的厚度为0.1~10毫米。4.根据权利要求1所述的具有高转写率的微结构光学板的制造方法,其特征在于,所述树脂原料与所述转写滚轮接触时的温度控制在所述树脂原料的Tg℃~Tg+80℃范围内。5.根据权利要求4所述的具有高转写率的微结构光学板的制造方法,其特征在于,所述树脂原料与所述转写滚轮接触时的温度控制在所述树脂原料的Tg℃~Tg+60℃范围内。6.根据权利要求1所述的具有高转写率的微结构光学板的制造方法,其特征在于,所述光敏树脂材料为紫外光硬化胶,所述光照设备为紫外光光照设备。7.根据权利要求1所述的具有高转写率的微结构光学板的制造方法,其特征在于,所述光敏树脂材料是利用喷涂方式注入,其喷涂速度为50立方厘米/分钟·米~1200立方厘米/分钟·米。8.一种具有高转写率的微结构光学板的制造方法,其特征在于,所述制造方法配合成型装置来制造微结构光学板,所述成型装置包含:一个可压出熔融的树脂原料的模头、相间隔的一个压制滚轮及一个转写滚轮、一个反射镜、以及一个光照设备,所述转写滚轮的轮面上具有多个转写微结构,相邻