透镜阵列坯生产方法、透镜阵列生产方法以及透镜阵列.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102603161A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102603161A(43)申请公布日2012.07.25(21)申请号201210083514.9(22)申请日2012.03.27(71)申请人四川钟顺太阳能开发有限公司地址610207四川省成都市双流县西南航空港经济开发区西航港大道二段1455号(72)发明人黄忠(74)专利代理机构成都虹桥专利事务所51124代理人刘世平(51)Int.Cl.C03B11/00(2006.01)C03B25/00(2006.01)G02B3/00(2006.01)权利要求书权利要求书1页1页说明书说明书66页页附图附图11页(54)发明名称透镜阵列坯生产方法、透镜阵列生产方法以及透镜阵列(57)摘要本发明公开了一种透镜阵列坯生产方法、透镜阵列生产方法以及透镜阵列，可生产出满足形状要求和尺寸要求的透镜阵列，尤其适合生产大型透镜阵列。该透镜阵列坯的生产方法主要是在模压后依次进行一次退火、面型校正和二次退火。该透镜阵列生产方法是利用上述透镜阵列坯进行抛光工序制成。本发明的方法尤其适合生产长度为300～1200mm，宽度为300～600mm的大型透镜阵列。生产出的大型透镜阵列的轮廓度在0.015mm以下，光学透过率达到90％以上。CN10263ACN102603161A权利要求书1/1页1.透镜阵列坯的生产方法，包括依次进行的坯料制造、软化、模压和退火，所述坯料制造步骤中所用坯料为玻璃坯料，其特征是：所述退火为一次退火：将模压后得到的坯料在700℃～400℃通过逐渐降温进行退火处理；面型校正：对一次退火后得到的坯料进行面型校正，在300℃～400℃通过上下两块压板对位于上下两块压板之间的坯料施加压力；二次退火：将面型校正后得到的坯料在600℃～300℃通过逐渐降温进行退火处理。2.如权利要求1所述的透镜阵列坯的生产方法，其特征是：所述坯料制造步骤中，所用坯料为平板形状。3.如权利要求2所述的透镜阵列坯的生产方法，其特征是：所述平板形状的坯料的长度为300～1200mm，宽度为300～600mm，厚度为8～12mm。4.如权利要求3所述的透镜阵列坯的生产方法，其特征是：所述坯料的软化点为680～720℃，软化时间为5～10分钟。5.如权利要求3所述的透镜阵列坯的生产方法，其特征是：所述一次退火的处理时间为25～40分钟；所述面型校正步骤中施加的压力为80～100kg，施压时间为5～10分钟；所述二次退火的处理时间为50～70分钟。6.如权利要求3所述的透镜阵列坯的生产方法，其特征是：所述模压步骤中，模压温度控制在500～800℃，压力为40～50吨，模压时间为4～10分钟。7.如权利要求3所述的透镜阵列坯的生产方法，其特征是：所述一次退火步骤是在隧道式退火炉内进行，坯料放置在托盘上，由隧道式退火炉的一端运行至另一端，总运行时间为25～40分钟，隧道式退火炉内的温度由一端700℃至另一端400℃连续变化。8.如权利要求3所述的透镜阵列坯的生产方法，其特征是：所述二次退火步骤是在隧道式退火炉内进行，坯料放置在托盘上，由隧道式退火炉的一端运行至另一端，总运行时间为50～70分钟，隧道式退火炉内的温度由一端600℃至另一端300℃连续变化。9.透镜阵列的生产方法，其特征是：对利用权利要求1至8中任意一项所述的透镜阵列坯的生产方法制造的透镜阵列坯，通过抛光来制成透镜阵列。10.采用权利要求9的方法制成的透镜阵列，其特征是：所述透镜阵列的长度为300～1200mm，宽度为300～600mm。2CN102603161A说明书1/6页透镜阵列坯生产方法、透镜阵列生产方法以及透镜阵列技术领域[0001]本发明涉及一种光学领域应用的玻璃制透镜阵列坯和采用上述透镜阵列坯生产透镜阵列的方法，以及通过上述方法制成的透镜阵列。背景技术[0002]透镜阵列一般包括位于基板部上的多个呈行列状排布的透镜部，基板部将排列的多个透镜部之间填埋，并将多个透镜部相互连结。[0003]作为透镜阵列使用的材料有树脂和玻璃。树脂制透镜阵列的光学精度较低，只适用于一些对光学精度要求不严格的机器设备和场所。而玻璃制透镜阵列的光学精度较高，一般用于高精度光学仪器以及对光学精度要求较高的场所。因此，树脂制透镜阵列的生产工艺与玻璃制透镜阵列的生产工艺差别较大。与树脂制透镜阵列的生产工艺相比，玻璃制透镜阵列对生产工艺的要求更加严格和复杂。[0004]现有技术中，玻璃制透镜阵列的生产方法一般包括依次进行的坯料制造，软化，模压，退火和抛光。坯料制造步骤主要是制造坯料并将坯料切割成合适的形状和尺寸；软化步骤就是使用软化炉将坯料进行软化；模压步骤就是使用一对模具把软化状态的玻璃挤压成型；退火步骤就是将挤压成型