微透镜阵列及其制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114200555A(43)申请公布日2022.03.18(21)申请号202111080090.6(22)申请日2021.09.15(30)优先权数据2020-1575872020.09.18JP(71)申请人株式会社日本显示器地址日本东京(72)发明人长泽顺子(74)专利代理机构北京康信知识产权代理有限责任公司11240代理人马强(51)Int.Cl.G02B3/00(2006.01)权利要求书2页说明书10页附图20页(54)发明名称微透镜阵列及其制造方法(57)摘要一种可实现高密度化的微透镜阵列及其制造方法。关于微透镜阵列的制造方法，在基底层上形成感光性的第一树脂层，经由具有遮光部和透光部的光掩模对所述第一树脂层进行曝光，使所述第一树脂层显影以形成所述第一树脂层的空隙，将残留的所述第一树脂层熔融而形成第一微透镜，遍及所述第一微透镜和所述空隙而形成感光性第二树脂层，在光掩模的遮光部面向所述空隙且透光部面向所述第一微透镜的状态下对所述第二树脂层进行曝光，使所述第二树脂层显影以去除所述第一微透镜上的所述第二树脂层，将残留的所述第二树脂层熔融，形成与所述第一微透镜接触的第二微透镜。CN114200555ACN114200555A权利要求书1/2页1.一种微透镜阵列的制造方法，其特征在于，在基底层上形成感光性的第一树脂层，经由具有遮光部和透光部的光掩模对所述第一树脂层进行曝光，使所述第一树脂层显影以形成所述第一树脂层的空隙，将残留的所述第一树脂层熔融而形成第一微透镜，遍及所述第一微透镜和所述空隙而形成感光性第二树脂层，在光掩模的遮光部面向所述空隙且透光部面向所述第一微透镜的状态下对所述第二树脂层进行曝光，使所述第二树脂层显影以去除所述第一微透镜上的所述第二树脂层，将残留的所述第二树脂层熔融，形成与所述第一微透镜接触的第二微透镜。2.根据权利要求1所述的微透镜阵列的制造方法，其特征在于，所述遮光部的形状为四边形或圆形。3.根据权利要求2所述的微透镜阵列的制造方法，其特征在于，所述第二微透镜的底端的一部分与所述第一微透镜的表面接触。4.根据权利要求1所述的微透镜阵列的制造方法，其特征在于，曝光所述第一树脂层时应用的所述光掩模与曝光所述第二树脂层时应用的光掩模相同。5.根据权利要求1所述的微透镜阵列的制造方法，其特征在于，进一步地，遍及通过使所述第二树脂层显影而形成的空隙、所述第一微透镜以及所述第二微透镜而形成感光性第三树脂层，在光掩模的遮光部面向所述空隙且透光部面向所述第一微透镜和所述第二微透镜的状态下对所述第三树脂层进行曝光，使所述第三树脂层显影以去除在所述第一微透镜上和所述第二微透镜上的所述第三树脂层，将残留的所述第三树脂层熔融，形成与所述第一微透镜和所述第二微透镜接触的第三微透镜。6.根据权利要求5所述的微透镜阵列的制造方法，其特征在于，所述遮光部的形状为六边形。7.根据权利要求6所述的微透镜阵列的制造方法，其特征在于，所述第二微透镜的底端的一部分与所述第一微透镜的表面接触，所述第三微透镜的底端的第一部分与所述第二微透镜的表面接触，所述第三微透镜的底端的第二部分与所述第一微透镜的表面接触。8.根据权利要求5所述的微透镜阵列的制造方法，其特征在于，曝光所述第一树脂层时应用的所述光掩模、曝光所述第二树脂层时应用的光掩模以及曝光所述第三树脂层时应用的所述光掩模中的至少两个光掩模相同。9.一种微透镜阵列的制造方法，其特征在于，遍及基底层上彼此相邻的第一区域和第二区域而形成感光性第一树脂层，在光掩模的遮光部面向所述第一区域且透光部面向所述第二区域的状态下对所述第一树脂层进行曝光，2CN114200555A权利要求书2/2页使所述第一树脂层显影以去除所述第二区域的所述第一树脂层，将残留在所述第一区域中的所述第一树脂层熔融而形成第一微透镜，遍及所述第一微透镜和所述第二区域而形成感光性第二树脂层，在光掩模的遮光部面向所述第二区域且透光部面向所述第一微透镜的状态下对所述第二树脂层进行曝光，使所述第二树脂层显影以去除所述第一微透镜上的所述第二树脂层，将残留在所述第二区域中的所述第二树脂层熔融，形成与所述第一微透镜接触的第二微透镜。10.根据权利要求9所述的微透镜阵列的制造方法，其特征在于，曝光所述第一树脂层时应用的所述光掩模与曝光所述第二树脂层时应用的光掩模相同。11.根据权利要求9所述的微透镜阵列的制造方法，其特征在于，进一步地，遍及所述第一微透镜、所述第二微透镜以及与所述第一区域和所述第二区域相邻的第三区域而形成感光性第三树脂层，在光掩模的遮光部面向所述第三区域且透光部面向所述第一微透镜和所述第二微透镜的状态下对所述第三树脂层进行曝光，使所述第三树脂层显影以去除在所