冷阱及真空排气装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利(10)授权公告号(10)授权公告号CN102743894B(45)授权公告日(45)授权公告日2015.03.11(21)申请号201110099460.0页第1段至第2段及附图1.CN1882779A,2006.1(22)申请日2011.04.202.20,全文.CN101059303A,2007.10.24,全文.(73)专利权人住友重机械工业株式会社US2007/0283704A1,2007.12.13,全文.地址日本东京都JP2009057957A,2009.03.19,全文.(72)发明人田中秀和审查员杨轶嘉(74)专利代理机构永新专利商标代理有限公司72002代理人徐殿军(51)Int.Cl.B01D8/00(2006.01)F04B37/08(2006.01)(56)对比文件CN101595305A,2009.12.02,说明书第2-4段，第4段至2段及附图5A,16，20A-20I.CN101595305A,2009.12.02,说明书第2-4段，第4段至2段及附图5A,16，20A-20I.JP平1-215591A,1989.08.29,说明书第4权利要求书1页说明书9页附图5页(54)发明名称冷阱及真空排气装置(57)摘要本发明提供一种冷阱及真空排气装置，其能够在短时间内使排气对象容积恢复到所希望的真空度。冷阱(210)具备冷冻机(222)及热连接于冷冻机(222)并被冷却的冷板(220)。在冷板(220)上形成有粗糙面(242)。冷阱(210)例如配置于将真空室(216)连接于涡轮分子泵(212)的排气流路(214)中，使从真空室(216)通过排气流路(214)吸入至涡轮分子泵(212)并被排气的气体的一部分在冷板(220)的表面上冻结来捕捉。CN102743894BCN102743894B权利要求书1/1页1.一种冷阱，其具备冷冻机及热连接于该冷冻机并被冷却的冷板，其特征在于，在所述冷板上在具有第1表面粗糙度的面上形成有粗糙面，该粗糙面形成有比该第1表面粗糙度小的第2表面粗糙度。2.如权利要求1所述的冷阱，其特征在于，通过在所述冷板的基材上进行无光泽镀来形成所述粗糙面。3.如权利要求1或2所述的冷阱，其特征在于，通过对所述冷板的表面进行粗糙化来形成所述粗糙面。4.如权利要求1或2所述的冷阱，其特征在于，在所述冷板的表面中朝向排气对象容积的面上形成有所述粗糙面。5.如权利要求1或2所述的冷阱，其特征在于，通过机械加工形成所述第1表面粗糙度，通过化学处理形成所述第2表面粗糙度。6.一种真空排气装置，其具备：真空泵；及冷阱，配置于将排气对象容积连接于该真空泵的排气流路上，使从该排气对象容积通过该排气流路吸入至该真空泵并被排气的气体的至少一部分在表面上冻结来捕捉，其特征在于，所述冷阱具备：冷板，露出配置于所述排气流路中；及冷冻机，热连接于所述冷板并冷却所述冷板，并且，在所述冷板上在具有第1表面粗糙度的面上形成有粗糙面，该粗糙面形成有比该第1表面粗糙度小的第2表面粗糙度。2CN102743894B说明书1/9页冷阱及真空排气装置技术领域[0001]本发明涉及一种低温泵、冷阱及真空排气装置。背景技术[0002]低温泵是通过凝缩或吸附而将气体分子捕捉在冷却至超低温的低温板上来排气的真空泵。低温泵一般为了实现半导体电路制造工艺等所要求的清洁的真空环境而被利用。[0003]例如专利文献1记载有如下低温泵，其在低温泵的除挡板以外应容纳在泵壳体内的部件外面形成除氟系树脂以外的其他树脂的薄膜。[0004]专利文献1：日本特开昭60-8481号公报[0005]在真空工艺中，有向真空室反复工艺气体的供给和停止供给的情况。例如在溅射中典型地以设定流量供给设定时间的工艺气体而在基板上形成薄膜。并且，在喷溅处理结束之后停止工艺气体的供给，进行交换完成处理的基板和新的被处理基板等的附带作业。为了下次的喷溅处理的开始，需将真空室内还原到所希望的真空度。从提高生产率的观点考虑，优选尽量缩短还原所需时间。发明内容[0006]因此，本发明的目的在于，提供一种能在短时间内将排气对象容积恢复到所希望的真空度的低温泵、冷阱及真空排气装置。[0007]本发明的一种形态的冷阱，具备冷冻机及热连接于该冷冻机并被冷却的冷板。在冷板上形成有粗糙面。[0008]根据该形态，在冷板上具有粗糙面，从而能够提高与凝缩的冰层的粘附性。由此，能够抑制冰层的剥离。抑制由剥离区域的冷却不良引起的该区域的局部升温，进而抑制通过低温捕获现象而吸附在该剥离区域冰层的气体分子的再放出。由此，能够抑制恢复到所希望的真空度所需时间的增大。[0009]本发明的其他形态为真空排气装置。该装置