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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102870283A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102870283A(43)申请公布日2013.01.09(21)申请号201180001912.5(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所(22)申请日2011.03.2411105代理人刘晓迪(30)优先权数据2011-0570732011.03.15JP(51)Int.Cl.H01R13/04(2006.01)(85)PCT申请进入国家阶段日H01R13/11(2006.01)2011.10.31H01R43/16(2006.01)(86)PCT申请的申请数据H01R12/72(2006.01)PCT/JP2011/0571602011.03.24(87)PCT申请的公布数据WO2012/124167JA2012.09.20(71)申请人欧姆龙株式会社地址日本京都府(72)发明人吉田仁吉冈秀和铃村宜晓小山次郎权利要求书权利要求书1页1页说明书说明书1212页页附图附图2323页(54)发明名称接触件及金属部件的制造方法(57)摘要一种接触件及金属部件的制造方法,能够可靠地进行与其它部件的电接触及机械接触。接触件(31)利用连接部(34)连接大致平行的固定片(32)和可动片(33)。在可动片(33)的前端部下表面设有用于与挠性印刷基板等接触的可动触点部(35),在可动片(33)的后端部设有由凸轮部按压而使可动片(33)倾斜的操作承受部(36)。固定片(32)的前端部为用于与连接器的壳体嵌合的嵌合部(37)。在该接触件(31)上,在可动触点部(35)的成为接触面的触点接触面(35a)设有沿接触件(31)的宽度方向延伸的凹凸形状。另外,嵌合部(37)的下表面为与压接面(37a)即壳体的底面接触的接触面,在该压接面(37a)也设有沿接触件(31)的宽度方向延伸的凹凸形状。CN102873ACN102870283A权利要求书1/1页1.一种接触件,其特征在于,在与其它部件接触的接触部设有由凹条和凸条的至少一方构成的凹凸形状。2.如权利要求1所述的接触件,其特征在于,与所述其它部件接触的接触部为触点部,所述凹凸形状在与该触点部的按压方向及摩擦接触方向垂直的方向上延伸。3.如权利要求1所述的接触件,其特征在于,与所述其它部件接触的接触部为向其它部件的压接面,所述凹凸形状在与向所述其它部件的插入方向垂直的方向上延伸。4.如权利要求1所述的接触件,其特征在于,所述接触件的宽度为250μm以下,构成所述凹凸形状的凸条的前端弯曲。5.如权利要求1所述的接触件,其特征在于,所述接触件的宽度为250μm以下,构成所述凹凸形状的凸条或凹条从宽度方向的一端到另一端连续形成。6.如权利要求1所述的接触件,其特征在于,在利用电铸法制作时,设有所述凹凸形状。7.一种金属部件的制造方法,其特征在于,包括:在电极板的表面形成抗蚀膜的工序;使用在边缘的至少一部分具有描画了微细的凹凸的掩模图形的光掩模对所述抗蚀膜进行曝光的工序;对所述抗蚀膜进行显影,在所述抗蚀膜上开设成形用开口的工序;在所述成形用开口内利用电铸法使电铸材料堆积而赋形的工序。8.一种金属部件的制造方法,其特征在于,包括:在电极板的表面形成抗蚀膜的工序;以使微粒子群分布在所述抗蚀膜与光掩模之间的状态,对所述抗蚀膜进行曝光的工序;对所述抗蚀膜进行显影,在所述抗蚀膜上开设成形用开口的工序;在所述成形用开口内利用电铸法使电铸材料堆积而赋形的工序。9.一种金属部件的制造方法,其特征在于,包括:在电极板的表面配设表层部具有微粒子层的干膜抗蚀剂的工序;对所述抗蚀膜进行曝光及显影,在所述抗蚀膜上开设成形用开口的工序;在所述成形用开口内利用电铸法使电铸材料堆积而赋形的工序。10.一种金属部件,利用权利要求7~9中任一项所述的制造方法,在表面设有由凹条和凸条的至少一方构成的凹凸形状。11.一种接触件,利用权利要求7~9中任一项所述的制造方法,在表面设有由凹条和凸条的至少一方构成的凹凸形状。12.一种连接器,其特征在于,在壳体内收纳有权利要求1或11所述的接触件。2CN102870283A说明书1/12页接触件及金属部件的制造方法技术领域[0001]本发明涉及接触件及金属部件的制造方法。例如,涉及被组装到壳体内而形成连接器的接触件及能够用于制造该接触件的金属部件的制造方法。背景技术[0002]在专利文献1中公开有如图1(A)及图1(B)所示构造的连接器。在该连接器11的壳体12内组装有两种接触件(连接端子)。图2表示一种接触件21。该接触件21的固定片22和可动片23大致平行,固定片22和可动片23通过与两片22、23垂直的连接部24连接。在可动片23的前端部下表面设有可动触点部25,可动片23的后端部成为受到连接器